「Patterned」に関連した英語例文の一覧と使い方(73ページ目) - Weblio英語例文検索

In this case, the semiconductor layer, the data line and the drain electrode or the pixel electrode are patterned using a photosensitive film pattern obtained by exposing and developing a photosensitive film in the exposure process of a photoetching step as a mask, and a boundary line of the gate electrode overlapping with the drain electrode is arranged to be perpendicular to the scanning direction of exposure for the photosensitive film in the exposure process.例文帳に追加

この時、半導体層、データ線及びドレイン電極又は画素電極は、フォトエッチング工程の露光工程で感光膜を露光及び現像した感光膜パターンをエッチングマスクにしてパターニングし、ドレイン電極と重畳するゲート電極の境界線を、露光工程で感光膜を露光するスキャニング方向に対して直交して配置する。 - 特許庁

The magnetic recording medium has a non-magnetic substrate, magnetic recording layers patterned and formed to separate from each other on the non-magnetic substrate, non-magnetic materials embedded between the patterns of the magnetic recording layers, metallic films formed on the magnetic recording layers and the non-magnetic materials and carbon protective films formed on the metallic films.例文帳に追加

非磁性体基板と、前記非磁性体基板上に互いに分離するようにパターン化して形成された磁気記録層および磁気記録層のパターン間に埋め込まれた非磁性体と、前記磁気記録層および非磁性体上に形成された金属膜と、前記金属膜上に形成されたカーボン保護膜とを有することを特徴とする磁気記録媒体。 - 特許庁

A trench is formed in the major surface of a semiconductor substrate, impurities are implanted into the bottom of the trench, an insulating film is formed at least on the inner surface of the trench, a conductive film is formed on the entire surface of the semiconductor substrate including the interior of the trench, and then the conductive film is patterned corresponding to the trench thus forming a semiconductor device having a trench structure.例文帳に追加

半導体基板の主面にトレンチを形成し、トレンチの底部に不純物を注入し、少なくとも前記トレンチの内表面に絶縁膜を形成し、前記トレンチの内部を含む半導体基板の全面に導電膜を形成し、導電膜を前記トレンチに対応してパターニングして、トレンチ構造を有する半導体装置を形成する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a laminated electronic component that can inhibit a support sheet from being deformed due to heat during a drying step after printing, make lamination slippage of an internal electrode layer and/or of a margin patterned layer hard to happen no matter how much miniaturization or layer thinning advances, and inhibit delamination between sheets, deformation of a laminated body, etc., thus improving a manufacturing yield.例文帳に追加

印刷後の乾燥工程での熱による支持シートの変形を抑制し、小型化や薄層化が進んだとしても、内部電極層および／または余白パターン層の積層ズレが生じにくく、シート間のデラミネーションや積層体の変形などを抑制し、製造歩留まりを向上させることができる積層型電子部品の製造方法を提供すること。 - 特許庁

As a barrier rib formation process to form the barrier rib 110 on a rear substrate of the PDP, a first process to form a barrier rib forming material layer 120, a second process to pattern the barrier rib forming material layer 120, and a third process to form the barrier rib 110 by calcining the patterned barrier rib forming material layer 120 are implemented.例文帳に追加

ＰＤＰの背面基板１０３に隔壁１１０を形成する隔壁形成工程として、隔壁形成材料層１２０を形成する第１工程と、隔壁形成材料層１２０をパターニングする第２工程と、パターニングされた隔壁形成材料層１２０を焼成して隔壁１１０を形成する第３工程と、を実施する。 - 特許庁

A resin layer in which a space is prepared on a function region and a metal layer are laminated, wherein the metal layer is composed by separating an identical material into a portion forming a lid to cover the space and a portion forming an external terminal, the identical structure can be easily obtained by cutting a whole surface plating to a predetermined thickness after the whole surface plating on the patterned resin layer.例文帳に追加

機能領域上に空間を設けた樹脂層と、金属層を積層し、金属層は、空間を覆う蓋を形成する部分と、外部端子を形成する部分に同一の材料が分離されて成るもので、パターン化された樹脂層上に全面めっきした後、所定の厚みまで切削することで容易に同一構造が得られる。 - 特許庁

A method of etching a chromium layer comprises the steps of providing a substrate having a chromium layer partially exposed from a patterned carbon hard mask into a processing chamber; providing a process gas containing chlorine and carbon monoxide into an etching chamber; maintaining plasma of the process gas; and etching the chromium layer through the hard mask layer.例文帳に追加

クロム層をエッチングする方法は、パターン化された炭素ハードマスクから部分的に露出するクロム層を有する基板を処理チャンバ内に提供するステップと、塩素および一酸化炭素を含有するプロセスガスをエッチングチャンバの中に提供するステップと、プロセスガスのプラズマを維持するステップと、クロム層を炭素ハードマスク層を介してエッチングするステップとを含む。 - 特許庁

The manufacturing method of the optical waveguide comprising a core and upper and lower clads between which the core is held comprises: a patterning process of performing the patterning of the core shapes by irradiating the surface of core material stacked on the lower part clad material with laser beams; and a development process of developing the core material on which the core shapes are patterned.例文帳に追加

コアと、コアを挟持する上下クラッドとを含む光導波路の製造方法であって、下部クラッド材料上に積層されたコア材料表面に対し、直接レーザー光を照射することによりコア形状のパターニングを行うパターニング工程と、コア形状がパターニングされたコア材料を現像する現像工程と、を含むものとすることができる。 - 特許庁

When inputting test tubes into the rack, setting information for controlling a test tube input pattern is output to the rack device based on blood collection instruction information acquired from the terminal of the host system, and the test tubes are input automatically into one rack in the patterned and classified state every patient, and ever hospital ward.例文帳に追加

本発明では、この試験管のラックへの投入に際し、前記上位システムの端末から取得した採血指示情報に基づいて、ラック装置へ試験管投入パターン制御のための設定情報を出力し、一つのラックに、患者ごと又は病棟ごとなどにパターン化して区分けした状態で試験管を自動的に投入するようにしている。 - 特許庁

A first hydrogen barrier film 101, a lower electrode film 30, a ferroelectric film 4, an upper electrode film 50 and a second hydrogen barrier film 102 are successively deposited on a silicon substrate 1 through an insulating film 2, and an upper electrode 5 is patterned by successively etching the hydrogen barrier film 102 and the upper electrode film 50 while using a mask 103.例文帳に追加

シリコン基板１上に絶縁膜２を介して、第１の水素バリア膜１０１、下部電極膜３０、強誘電体膜４、上部電極膜５０及び第２の水素バリア膜１０２を順次堆積し、マスク１０３を用いて水素バリア膜１０２及び上部電極膜５０を順次エッチングして上部電極５をパターン形成する。 - 特許庁

The electronic device on which an electronic circuit is formed comprises a substrate 11 having a circuit forming surface 11a on which an electronic circuit 12 constituting a part of the aforementioned electronic circuit is formed, a polyimide layer 15 formed on the circuit forming surface 11a, and a spiral inductor 20 patterned on the polyimide layer 15 and constituting a part of the aforementioned electronic circuit.例文帳に追加

電子回路が形成される電子装置であって、前記電子回路の一部を構成する電子回路１２が回路形成面１１ａ上に形成された基板１１と、回路形成面１１ａ上に形成されたポリイミド層１５と、ポリイミド層１５上にパターン形成されており前記電子回路の一部の回路を構成するスパイラルインダクタ２０とを設ける。 - 特許庁

Further, while using the patterned photo resist 14 as a mask, the reflection prevention film 13 and polymer layer 12 are etched under such a condition that the etching speed of the polymer layer 12 is higher than that of the reflection prevention film 13 and more higher than that of the semiconductor substrate 11, so that a mask for processing the semiconductor substrate 11 is formed.例文帳に追加

続いて、パターニングされたフォトレジスト１４をマスクとして、ポリマー層１２のエッチング速度が反射防止膜１３のエッチング速度よりも速く、半導体基板１１のエッチング速度よりもさらに速くなる条件で、反射防止膜１３及びポリマー層１２をエッチングし、半導体基板１１に処理を施す際のマスクを形成する。 - 特許庁

This connection structure of a printed circuit board 400 equipped with a patterned grounding contact is configured of a grounding contact by forming a grounding pattern by patterning one face of a printed circuit board 400, and directly soldering a shield wire 130 of a coaxial cable 100 exposed to the outside on the formed grounding pattern to form a shield wire soldering part 320.例文帳に追加

パターン化した接地部を備えた印刷回路基板４００の接続構造体は、印刷回路基板４００の一面にパターン化して接地パターンを形成し、形成された接地パターン上に外部に露出した同軸ケーブル１００のシールドワイヤ１３０を直接半田付けして、シールドワイヤ半田付け部３２０を形成することにより、接地部を構成する。 - 特許庁

After a sacrificial conductor layer CP is formed on a resin layer 15 provided on a base 11, a dry film resist layer R1 having an opening patterned according to the shape of a wiring pattern is formed, the part of the sacrificial conductor layer CP which is exposed from the opening is removed, then a groove 15a is formed at an exposed part of the resin layer 15.例文帳に追加

ベース基材１１上に設けられた樹脂層１５上に犠牲導体層ＣＰを形成後、配線パターンの形状に応じてパターニングされた開口部を有するドライフィルムレジスト層Ｒ１を形成し、上記開口部から露出している犠牲導体層ＣＰの部分を除去後、樹脂層１５の露出している部分に溝１５ａを形成する。 - 特許庁

Since the heaters 15 are formed on the insulating base layer 14 formed on the back of the solid electrolyte substrate 11 by patterning using insulating paste, the heat conductivity to the solid electrolyte substrate 11 from the heaters 15 is enhanced as compared with a conventional example wherein the heaters are patterned on separate substrates and the number of members or manufacturing processes is also reduced.例文帳に追加

固体電解質基板１１の裏面に形成された絶縁性ペーストによる絶縁基層１４上にヒータ１５がパターニング形成されているため、ヒータが別途のヒータ基板上にパターニングされている従来例に較べ、ヒータ１５から固体電解質基板１１への熱伝導性が向上し、しかも、部材や製造工程も削減される。 - 特許庁

Next, after a polysilicon film is deposited over the silicon oxide film 13a; silicon acid nitride film 13b, the polysilicon film, silicon oxide film 13a, and silicon acid nitride film 13b are patterned to form a gate insulating film 13x consisting of silicon oxide film to an nMISFET, and to form a gate insulating film 13y consisting of silicon acid nitride film to a pMISFET.例文帳に追加

次に、シリコン酸化膜１３ａ，シリコン酸窒化膜１３ｂの上にポリシリコン膜を堆積した後、ポリシリコン膜，シリコン酸化膜１３ａ及びシリコン酸窒化膜１３ｂをパターニングして、ｎＭＩＳＦＥＴにはシリコン酸化膜からなるゲート絶縁膜１３ｘを形成し、ｐＭＩＳＦＥＴにはシリコン酸窒化膜からなるゲート絶縁膜１３ｙを形成する。 - 特許庁

On the scale plate 10, the M serial group track 11 of a plurality of M serial units are continuously arranged, the light and dark track 12 constituted of reflecting incident light with a certain period, and the plurality of gray coded track 13-16 patterned with the reflection region so as to be a gray code corresponding to the M serial units M1-M8 are provided.例文帳に追加

スケール板１０に、Ｍ系列ユニットを複数ユニット連続配置してなるＭ系列群トラック１１と、一定周期で入射光を反射する明暗格子からなる明暗トラック１２と、Ｍ系列ユニットＭ１〜Ｍ８に対応したグレーコードとなるように反射領域がパターニングされた複数のグレーコードトラック１３〜１６とを備える。 - 特許庁

An insulation layer is formed between pixel electrodes patterned on a translucent substrate, and a hole transport ink with a hole transport material dissolved or stably dispersed in a solvent by letterpress printing is printed on the pixel electrodes between from protruded parts of a letterpress to form the hole transport layer.例文帳に追加

透光性基板上のパターニングされた画素電極の間に絶縁層を形成し、凸版印刷法により正孔輸送材料を溶媒に溶解または安定に分散させた正孔輸送インキを凸版の凸部から絶縁層の間にある画素電極に印刷し正孔輸送層を形成することにより、上記課題を解決することができた。 - 特許庁

The lower electrode 4 is patterned and the dielectric layer 5 is shaped to project therefrom and an insulation barrier layer 3 of more than one kind of composite metal oxide containing silicon or silicon nitride compound is interposed between the dielectric layer 5 projecting from the lower electrode 4 and the silicon oxide film 2.例文帳に追加

そして、下部電極４がパターニングされて誘電体層５がその下部電極４よりはみ出して形成されており、かつ、下部電極４よりはみ出した部分の誘電体層５と前記シリコン酸化膜２との間にＳｉを含む２種以上の複合金属酸化物またはシリコンチッ化物系化合物からなる絶縁バリア層３が介在されている。 - 特許庁

The backplane (100, 200, 300, 400) for use in the electro-optic display includes a patterned metal foil having a plurality of apertures extending therethrough, coated on at least side with an insulating polymeric material (104, 106, 108) and having a plurality of thin film electronic elements (302, 402) provided on the insulating polymeric material (104, 106, 108).例文帳に追加

電気光学的ディスプレイ用のバックプレーン（１００，２００，３００，４００）は、パタン化金属箔を含み、この箔は、貫通して広がる複数の窓を有し、少なくとも側面を絶縁ポリマ材料（１０４，１０６，１０８）で被覆され、絶縁ポリマ材料（１０４，１０６，１０８）上に設けられた複数の薄膜電子素子（３０２，４０２）を有する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method by which a preliminarily determined pattern such as a grating, comb-shaped and circular pattern can be formed in a single film forming process using a single mask under conventional various mask use environments such as high temperature, low temperature, vacuum and gas atmospheres, and to provide a patterned substrate prepared by the method, and a solar cell element using the substrate.例文帳に追加

従来の高温・低温・真空・ガス雰囲気中などの様々なマスク使用環境下で、格子状、櫛形、環状などの所定のパターンの成膜を、単独のマスクを用いて１回の成膜で行うことができるパターン形成方法、該方法によって作成されたパターン形成基板、及び該基板を用いた太陽電池素子の提供。 - 特許庁

In the patterned aluminum sheet, an aluminum substrate of a lower layer and an aluminum perforated sheet of an upper layer having opening parts consist of a clad sheet integrated by the clad rolling, and a pattern is formed over the entire surface of the clad sheet by providing an anodically oxidized film of different tone on the surface of the perforated sheet and the surface of the substrate exposed in the opening parts.例文帳に追加

下層のアルミニウム基板と開口部を備えた上層のアルミニウム開口板とがクラッド圧延により一体化されたクラッド板から成り、開口板の表面および開口部内に露出した基板の表面に、異なる色調の陽極酸化皮膜を備えたことにより、クラッド板の表面全体に模様が形成されている模様付アルミニウム板。 - 特許庁

When creating a loop drawing by combining loop drawing parts in the field of a process control system, partial loop control functions such as temperature control and pressure control are patterned to be preliminarily prepared as control parts for loop drawing parts as a symbol, and combined with the other parts, so that a loop drawing is created to generate a process control program in a much shorter time than a conventional manner.例文帳に追加

プロセス制御システムの分野でループ図パーツを組み合わせてループ図を作成するものにおいて、シンボルとしてのループ図パーツに、温度制御、圧力制御などの部分的ループ制御機能をパターン化して制御パーツとして予め用意しておき、他のパーツと組合せてループ図を作成し、従来のものより短時間でプロセス制御プログラムを生成する。 - 特許庁

A patterned Al layer 22 is formed on the surface of a silicon substrate 21 for manufacturing the orifice plate, and the silicon substrate 21 is subjected to dry etching while using an Al layer 22 as a mask, thereby forming a hole 21a serving as a recessed part disposed at the position corresponding to a discharge opening on the surface of the silicon substrate 21 and forming a groove-shaped cut line 21d.例文帳に追加

オリフィスプレートを作製するためのシリコン基板２１の表面に、パターニングされたＡｌ層２２を形成し、Ａｌ層２２をマスクとしてシリコン基板２１のドライエッチングを行うことで、シリコン基板２１の表面における吐出口に対応する位置に配置された、凹部としての穴２１ａ、および溝状の切断ライン２１ｄを形成する。 - 特許庁

To provide a polysiloxane-based radiation-sensitive composition having high coating properties and patternability, giving a cured product having a high refractive index in addition to transparency and adhesion, and capable of exhibiting positive radiation-sensitive properties; and to provide a patterned cured film formed from the composition and a method for forming the same.例文帳に追加

高い塗布性及びパターニング性を有し、得られた硬化物が透明性及び密着性に加え、高屈折率を備え、かつ、ポジ型の感放射線特性を有することができるポリシロキサン系の感放射線性組成物、この組成物から形成されたパターニングされた硬化膜及びこれらの形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The organic light-emitting element includes: a substrate; a first electrode layer regularly patterned on the substrate; a low-refraction conductive layer arranged on the first electrode layer and including a conductive material with a refractive index smaller than that of an organic layer; the organic layer arranged on the low-refraction conductive layer; and a second electrode layer formed on the organic layer.例文帳に追加

基板と、基板上に規則的にパターニングされた第１電極層と、前記第１電極層上に配置され、有機層よりも屈折率が小さい導電性物質を含む低屈折導電層と、前記低屈折導電層上に配置される有機層と、前記有機層上に形成される第２電極層と、を備える有機発光素子。 - 特許庁

The screen 20 which has the diffusion function of diffusing incident light and also includes a pattern 22b for coordinate recognition wherein coordinates on a surface 20a are patterned by the predetermined algorithm, includes a support base material 21 and the layer of the pattern 22 for the coordinate recognition, which is supported by the support base material 21 and includes the pattern 22b for the coordinate recognition.例文帳に追加

入射した光を拡散させる拡散機能を持つとともに、表面２０ａ上の座標が所定のアルゴリズムでパターン化された座標認識用パターン２２ｂを含むスクリーン２０は、支持用基材２１と、支持用基材２１により支持され、座標認識用パターン２２ｂを含む座標認識用パターン２２層とを備えている。 - 特許庁

To provide an organometal complex compound which is easily cured by ultraviolet rays (UV), can be patterned, is excellent in uniformity of a coated film when being converted to the coated film, and has a high resistance to etching using an etching gas such as argon gas; to provide a method for producing the organometal complex compound; and to provide a photocurable composition containing the organometal complex compound.例文帳に追加

紫外線（ＵＶ）により容易に硬化し、パターニングが可能であり、塗膜とした時に塗膜の均一性に優れ、アルゴンガスなどのエッチングガスを用いたエッチングに高い耐性を有する硬化物となる有機金属錯体化合物、該有機金属錯体化合物の製造方法および該有機金属錯体化合物を含む光硬化性組成物を提供すること。 - 特許庁

The method of manufacturing the electrooptical device includes the steps of: forming the conductive layer (9) of the light-reflective conductive material; forming a protective film (19) on the conductive layer; forming resist (60) on the protective film and performing patterning of the resist; and etching the protective film and conductive layer using the patterned resist as a mask.例文帳に追加

電気光学装置の製造方法は、光反射性を有する導電性材料から導電層（９）を形成する工程と、導電層上に保護膜（１９）を形成する工程と、保護膜上にレジスト（６０）を形成し、当該レジストをパターニングする工程と、パターニングされたレジストをマスクとして、保護膜及び導電層に対してエッチングを施す工程とを備える。 - 特許庁

The top of a film 11 to be etched is coated with a photosensitive material containing a base resin comprising a polyhydroxystyrene derivative- containing polymer and an onium salt compound-containing acid generating agent to form a photosensitive material film 12 and the film 12 is irradiated with KrF excimer laser to form a hole-patterned photosensitive material film 12.例文帳に追加

被エッチング膜１１の上に、ポリヒドロキシスチレン誘導体を含むポリマーからなるベース樹脂と、オニウム塩化合物を含む酸発生剤とを有する感光性材料を塗布して感光性材料膜１２を形成した後、感光性材料膜１２にＫｒＦエキシマレーザを照射して、ホールパターン化された感光性材料膜１２を形成する。 - 特許庁

A patterned film having a polymerized liquid crystal (LC) material includes at least two regions with different retardation and at least two regions with different orientation of the LC material, wherein the regions differing in retardation can also differ in retardation, or they can be different regions.例文帳に追加

重合液晶（ＬＣ）材料を有するパターニングフィルムであって、ＬＣ材料の異なるリターデーションを有する少なくとも２つの領域および異なる配向を有する少なくとも２つの領域を有し、リターデーションにおいて異なる前記領域が配向においても異なることができるか、あるいはそれらが異なる領域であることができるパターニングフィルム。 - 特許庁

To provide a coating applicator and a manufacturing method of an organic electronic element using this coating applicator which enables to maintain, in application while supporting and carrying on a back roll a support medium and the support medium on whose surface a film is patterned, their flatness by preventing fluctuate of the support medium in the application, and thereby, capable of performing formation of the coating film with stable uniformity.例文帳に追加

支持体及び表面にパターン化された膜を有する支持体をバックロールで支持、搬送しながらの塗布において、塗布時の支持体の揺れを防止し平面性を維持することができ、これにより、安定した均一の塗膜の形成を行うことができる塗布装置、及びこの塗布装置を用いた有機エレクトロニクス素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

The transparent sealing structures each having a given structural ratio are obtained by bringing them together in a region between the patterned structure and the light-emitting elements while controlling the amount of glue in the transparent sealing structures, thereby sharply improving the light-emitting efficiency of the photoelectron device.例文帳に追加

前記パターン化構造は、前記透明密封構造を前記パターン化構造と前記発光素子との間の領域に結集させると同時に、前記透明密封構造におけるにかわの量を制御することにより、所定の構造比を有する透明密封構造を獲得し、前記光電子素子の発光効率を顕著に向上させることができる。 - 特許庁

To solve the problem wherein, in a conventional solid-state imaging device in which a single-layer silicon oxide film formed on a semiconductor substrate is patterned into a prescribed shape by wet etching to form a field insulation film, a short circuit between electrodes is easily caused on a side face (etching face) of the field insulation film when forming various electrodes by patterning a conductive film by etching.例文帳に追加

半導体基板上に形成した単層のシリコン酸化膜をウェットエッチングにより所定形状にパターニングしてフィールド絶縁膜を形成する従来の固体撮像素子では、導電膜をエッチングによってパターニングして種々の電極を形成する際に、フィールド絶縁膜の側面（エッチング面）上において電極同士の短絡が生じやすい。 - 特許庁

The CSP semiconductor device 1 is patterned in a grid pattern by Cu posts 1h, each serving as a post-electrode connected via connection terminals and bumps formed on the mounting substrate to the bottom surface of a resin seal section 1k in which semiconductor chips are sealed, mounted at each of intersections of sets of equally spaced parallel lines perpendicular to each other.例文帳に追加

ＣＳＰの半導体装置１は、半導体チップが封止された樹脂封止部１ｋの底面に、実装基板に形成された接続端子とバンプを介在させて接続されるポスト電極であるＣｕポスト１ｈが、互いに直交する等間隔の平行線の各交点に設けられていることで格子状に配設されている。 - 特許庁

The lithography equipment used for pattern-forming a substrate comprises a lighting system for supplying a projection beam of radiation, an array of individually controllable elements for imparting the cross-section of the projection beam with a pattern, and a substrate table for supporting the substrate at the time of exposure operation, and a projection system projects the patterned beam to a target part of the substrate.例文帳に追加

基板をパターン形成するために使用されるリソグラフィー装置において、放射の投影ビームを供給するための照明系と、投影ビームの断面にパターンを与えるための個別制御可能要素のアレイと、露光動作時に基板を支持するための基板テーブルとを具備し、投影系が、パターン形成されたビームを基板の標的部分の上に投影する。 - 特許庁

This anode substrate of a carbon nanotube (CNT) field emission display used in this application includes: a glass substrate; a plurality of phosphor layers patterned on the glass substrate; a flattened Al film covering the phosphor layers; and a metal sheet having the same potential as that of the Al film, and having a plurality of openings, by covering the Al film, corresponding to the respective phosphor layers.例文帳に追加

ガラス基板と、前記ガラス基板上にパターニングされた複数の蛍光体層と、 前記蛍光体層を覆う平坦化されたAl膜と、前記Al膜と同電位を有し、前記Al膜を覆って複数の開口を有し、前記開口が前記蛍光体層にそれぞれ対応する金属シートとを含むカーボンナノチューブ（ＣＮＴ）フィールドエミッション・ディスプレイのアノード基板を用いた。 - 特許庁

The substrate of the display filter includes a transparent substrate 11, a conductive pattern part 13 provided on one side surface of the transparent substrate 11 and patterned in a predetermined shape, and a black light shielding part 211 provided between the transparent substrate 11 and the conductive pattern part 13 to shield visible light going from the transparent substrate 11 side to the conductive pattern part 13.例文帳に追加

ディスプレイ用フィルタ用の基材は、透明基材１１と、透明基材１１の一方の面側に設けられ、所定の形状にパターニングされた導電パターン部１３と、透明基材１１と、導電パターン部１３との間に透明基材１１側から導電パターン部１３に向かう可視光を遮光する黒色の遮光部２１１を備える。 - 特許庁

A first region requiring a high driving capacity is irradiated with CW laser light at a low rate under a state where an a-Si film is patterned by lithography and etching into an island pattern 11 (or a ribbon pattern) whereas a second region not requiring a high driving capacity is irradiated with the CW laser light in the form of a solid a-Si film.例文帳に追加

高い駆動能力を要する第１の領域には、ａ−Ｓｉ膜をアイランドパターン１１（又はリボンパターン）にリソグラフィー及びエッチングによりパターニングした状態でＣＷレーザ光を低速で照射し、高い駆動能力を要しない第２の領域には、ａ−Ｓｉ膜のベタ膜のままＣＷレーザ光を高速で照射する。 - 特許庁

The offset printer includes: a printing roller; a coating unit for applying a print substance to the printing roller; a patterning unit for patterning the print substance applied to the printing roller; a printing unit for transferring the patterned print substance to a printing medium; and a cleaning unit for cleaning the print substance remaining on the printing roller by dry cleaning.例文帳に追加

オフセット印刷装置は、印刷ロールと、前記印刷ロールに印刷物質を塗布するコーティング部と、前記印刷ロールに塗布されている印刷物質をパターニングするパターン部と、前記印刷物質を被印刷物に印刷する印刷部と、前記印刷ロールに残っている前記印刷物質を乾式洗浄する洗浄部とを備える。 - 特許庁

By the method for manufacturing an optical element, a liquid composition for the formation of an optical element is stuck to the forming surface of a base material having a patterned surface as the forming surface having regularly arranged regions having high wettability and regions having low wettability, then the composition is hardened to form projections in the regions having high wettability.例文帳に追加

濡れ性の大きな区域と濡れ性の小さな区域とが規則的に配列されているパターン表面を成形表面として有する基材の成形表面に光学素子形成用液状組成物を付着させ、次いで前記組成物を硬化して前記濡れ性の大きな区域に凸部を形成させる光学素子の製造方法である。 - 特許庁

In an exposure method in which a resist layer is selectively exposed with UV and patterned in a prescribed shape, a polymeric material having an introduced cyclopentane group in which one or more of hydrogen atoms combining to each of adjacent two carbon atoms have been replaced with fluorine atoms is used as a polymeric material forming the resist layer.例文帳に追加

レジスト層を選択的に紫外線で露光して所定の形状にパターニングする露光方法において、上記レジスト層を構成する高分子材料として、隣り合う２つの炭素原子に結合した水素原子のそれぞれ１以上がフッ素原子により置換されたシクロペンタン基が導入された高分子材料を用いることを特徴とする。 - 特許庁

(Those remains excavated in this area are considered to be produced in the first half of the early Tumulus period, constructed in about 23 square meters in 3.6 meters x 5.45 meters dimension, and also some other accompanying remains have been excavated including; an archeological feature representing a sign of a collapsed building, along with a wooden artifact in black lacquer with arc patterns; a small building measuring 1.8 meters x 1.8 meters; another 3.6 meters x 3.6 meters all-pillared building along with black lacquered, arc patterned wooden relics; it may be inferred from these artifacts that buildings of a major palace existed at this location.)例文帳に追加

（古墳時代前期前半の2×3間で床面積約23平方メートルの建物、家屋倒壊遺構と黒漆塗りの弧文を持つ木製品、1×1間の小家屋と2×2間の総柱建物と弧文黒漆塗木製品、纏向玉城宮跡の石碑、宮殿居館の存在が疑われる。) - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

In the method for manufacturing the TFT array substrate provided with at least a first conductive film, an insulation layer, a semiconductor layer, a second conductive film and a third conductive film (or a reflector film) on an insulation substrate, the second conductive film, the semiconductor layer and the insulation layer are patterned with one photoengraving step and the second conductive film is over-etched.例文帳に追加

絶縁性基板上に少なくとも第１の導電膜、絶縁膜、半導体層、第２の導電膜および第３の導電膜（または反射膜）を有するＴＦＴアレイ基板の製造方法において、第２の導電膜、半導体層および絶縁膜を１回の写真製版工程でパターニングするとともに、第２の導電膜をオーバーエッチする。 - 特許庁

A method of manufacturing the semiconductor device comprises processes of forming a resin layer 4a, getting round the electrodes, patterning the conductive layer 5 on the electrodes and on the resin layer 4a in correspondence with the projections 4, and forming the projections 4 by removing the resin layer 4a located between the conductive layers 5, with the patterned conductive layer 5 as a mask.例文帳に追加

半導体装置１に電極を避けて樹脂の層４ａを形成する工程と、電極上及び樹脂の層４ａ上に導電層５を突起体４に応じてパターニングする工程と、パターニングされた導電層５をマスクとし、導電層５の間に位置する樹脂の層４ａを除去して突起体４を形成する工程とを有する。 - 特許庁