「Patterned」に関連した英語例文の一覧と使い方(75ページ目) - Weblio英語例文検索

This thread 10 for preventing counterfeit is a thread to be used by making a patterned paper with the thread, and has a roughened part 13 by an ink for forming the roughened surface, formed on a base material 11 composed of a resin film, and a ferromagnetic thin membrane layer 15 attached onto the resin film base material 11 and the roughened part 13.例文帳に追加

本発明の偽造防止用スレッド１０は、偽造防止用紙に抄き込んで使用するためのスレッドであって、樹脂フィルムからなる基材１１上に粗面化インクによる粗化部１３が設けられ、当該樹脂フィルム基材上および粗化部上に被着された強磁性材薄膜層１５をさらに備えることを特徴とする。 - 特許庁

The servo master includes: a membrane which includes a first face and a second face; a plurality of stamp areas which are formed in the first face and includes a magnetic layer patterned in a servo pattern shape which is going to perform magnetic transfer to the magnetic recording medium; and a pressure means which is formed in the second face and applies the pressure to a plurality of the stamp areas.例文帳に追加

第１面及び第２面を有するメンブレンと、第１面に形成されたものであり、磁気記録媒体に磁気転写しようとするサーボパターン形状にパターン化された磁性層を含む複数のスタンプ領域と、第２面に形成されたものであり、複数のスタンプ領域に圧力を加える加圧手段とを備えているサーボマスターである。 - 特許庁

The process for manufacturing a patterned circuit board 4 by applying a mask 3 onto a metal plate 2 and removing the non-masked part by wet etching comprises a step for previously forming a groove 2b in the center of the non-masked part on the metal plate and the wet etching is carried out after the step for forming the groove.例文帳に追加

金属板２上にマスク３を施して、マスクされていない部分をウェットエッチングにより除去してパターンニングされた回路基板４を製造する方法であって、前記金属板上のマスクされていない部分の中央に溝２ｂを予め形成する溝形成工程を有し、該溝形成工程後に、前記ウェットエッチングを行うことを特徴とする。 - 特許庁

The semiconductor device comprises a lower electrode 76, a capacitor dielectric film 78 formed on the lower electrode 76, an upper electrode 88 of noble metal formed on the capacitor dielectric film 78, and a film 82 containing no oxygen as a constitutive element formed on the upper electrode 88 while being patterned in the substantially same shape as the upper electrode 88.例文帳に追加

下部電極７６と、下部電極７６上に形成されたキャパシタ誘電体膜７８と、キャパシタ誘電体膜７８上に形成された貴金属よりなる上部電極８８と、上部電極８８上に形成され、上部電極８８とほぼ等しい形状にパターニングされ、構成元素に酸素を含まない膜８２とを有する。 - 特許庁

In the method for manufacturing the microstructure array, a thermoplastic resin material 2 is applied to a substrate 1 in a desired patterning shape corresponding to the arrangement of a desired microstructure array, the patterned thermoplastic material layer 2 is deformed in a discrete state by heat treatment, and a continuous film 3 is formed on the deformed surface of the thermoplastic material layer 2 and the substrate 1.例文帳に追加

マイクロ構造体アレイの作製方法において、基板1上に熱可塑材料層2を所望のマイクロ構造体アレイの配列に応じて所望の形状でパターニングし、離散状態においてパターニングした熱可塑材料層2を熱処理にて変形させ、変形した熱可塑材料層2面及び基板2上に連続膜3を形成する。 - 特許庁

In the cell array substrate having cell-adhesiveness variation pattern that comprises regions having good cell adhesiveness and regions having inhibited cell adhesiveness patterned on a substrate and having a water contact angle of 10 to 40° at the good cell adhesiveness regions, and cells are adhered to the good cell adhesiveness region.例文帳に追加

基材上に細胞接着性良好領域と細胞接着性阻害領域がパターン化された細胞接着性変化パターンを有し、該細胞接着性良好領域の水接触角が１０〜４０°である細胞配列用基材において、該細胞接着性変化パターンの細胞接着性良好領域に細胞が接着された細胞接着基材。 - 特許庁

The method has wettability improving treatment ST 5 and ST 7 which improve the wettability of a patterned substrate 1 to be treated with respect to the liquid materials 11, 12 and 13 by bringing the substrate 1 into contact with water 4 prepared by dissolving gaseous ozone into pure water when coating the liquid materials and film deposition treatment ST 6 and ST 8 which deposit the film of the liquid materials after the wettability improving treatment.例文帳に追加

液体材料１１，１２，１３を塗布する際に、パターニングされた被処理基板１を純水にオゾンガスを溶解させた水４に接触させて、基板１の液体材料に対する濡れ性を向上させる濡れ性向上処理ＳＴ５，ＳＴ７と、濡れ性向上処理後に液体材料を成膜する成膜処理ＳＴ６，ＳＴ８とを有する。 - 特許庁

A lithography projection apparatus is provided with a substrate holder for supporting at least one substrate, a patternizing means for patterning a projection beam according to a desired pattern, and at least one vacuum chamber including a projection means for projecting the above patterned projection beam at the target portion of the above substrate.例文帳に追加

本発明は、さらに、少なくとも１つの基板を保持するための基板ホルダと、所望のパターンに従って投影ビームをパターン化するためのパターン化手段と、前記パターン化された投影ビームを前記基板の目標部分に投影するための投影手段とを含む少なくとも１つの真空チャンバを備えるリソグラフィ投影装置を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive composition having high radiation sensitivity and such a development margin as to form a good pattern shape even by development for over an optimum developing time in a developing step, the composition easily forming a patterned thin film excellent in adhesion and being suitable for forming an interlayer dielectric or microlenses.例文帳に追加

高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる、層間絶縁膜またはマイクロレンズの形成に好適な感放射線性組成物を提供すること。 - 特許庁

An architecture and method of fabrication for an integrated circuit having a reinforced bond pad 241 comprises at least one portion of the integrated circuit disposed under the bond pad 241; and this at least one circuit portion comprises at least one dielectric layer and a patterned electrically conductive reinforcing structure disposed in this at least one dielectric layer.例文帳に追加

補強されたボンドパッド２４１を有する集積回路のための構造と製作方法がボンドパッド２４１の下に配置される集積回路の少なくとも１つの部分を含み、この少なくとも１つの回路部分が少なくとも１つの誘電層とこの少なくとも１つの誘電層に配置されるパターン形成された電導性補強構造とを含んでいる。 - 特許庁

This method includes a first process in which Al or a material layer primarily composed of Al is patterned and a prescribed pattern wiring is formed, and a second process in which a photoresist 100, having a prescribed size of aperture on the wiring is formed and a prescribed area of the wiring is etched with an etching solution including at least nitric acid.例文帳に追加

ＡｌまたはＡｌを主成分とする材料層をパターニングして所定のパターンの配線を形成する第１の工程と、上記配線上に所定の大きさの開口を有するマスク用フォトレジスト１００を形成して、上記配線の所定の領域を少なくとも硝酸を含むエッチング液でエッチングする第２の工程とを含む。 - 特許庁

Besides, since the inter-layer insulating film 6 is formed between the respective terminals as well, even when etching is performed for the etching time for the ITO formed on the inter-layer insulating film 6, no ITO is left between the terminals, the ITO can be patterned through one time of resist pattern forming process and etching process, and the occurrence of a leak defect between terminals can be prevented.例文帳に追加

また、各端子間にも層間絶縁膜６が形成されているため、層間絶縁膜６上に形成されたＩＴＯに対するエッチング時間でエッチングを行っても端子間にＩＴＯが残ることなく、一回のレジストパターン形成工程及びエッチング工程でＩＴＯのパターン形成を行うことができ、端子間のリーク不良の発生を防止できる。 - 特許庁

The method includes steps of depositing a hard mask on a substrate in a first processing chamber, depositing a resist layer on the substrate, patterning the resist layer, etching the hard mask through apertures formed in the patterned resist layer in a second chamber, and etching a chromium layer through apertures formed in the hard mask in a third chamber.例文帳に追加

また、第１の処理チャンバにおいて基板上にハードマスクを堆積するステップと、レジスト層を該基板上に堆積するステップと、該レジスト層をパターニングするステップと、第２のチャンバにおいて該パターニング済みレジスト層上に形成されたアパーチャを介して該ハードマスクをエッチングするステップと、第３のチャンバにおいて該ハードマスクに形成されたアパーチャを介してクロム層をエッチングするステップと、を含んでいる。 - 特許庁

The exposure device is equipped with a lighting system for providing a projection radiation beam, a support structure which is equipped with a pattern and supports equipment functioning to impart a pattern to a section of the projection beam, a table for holding a target object, a projection system for projecting a patterned beam on the target object, and the tilt equipment for providing a tilted projection beam.例文帳に追加

本発明は、投影放射ビームを提供するための照明システムと、パターンを備えた、投影ビームの断面にパターンを付与するように機能する機器を支持するための支持構造と、目標対象を保持するためのテーブルと、パターン化されたビームを目標対象に投射するための投影システムと、傾斜した投影ビームを提供するための傾斜機器とを備えた露光装置に関する。 - 特許庁

In this lighting system 30, a positive electrode 303 constituted of a transparent electrode is patterned linearly, a luminous layer 311 and an alkaline earth metal layer 307 are laid all over the illumination area in top view, and a reflection electrode layer 308 and a photo-absorbing layer 309 are substantially conformed to the linear pattern of the positive electrode 303.例文帳に追加

照明装置３０は、透明電極にて構成される陽極３０３を線状にパターニングして構成し、発光層３１１及びアルカリ土類金属層３０７を照明領域全域に跨って平面視ベタ状に構成するとともに、反射電極層３０８及び光吸収層３０９を陽極３０３の線状パターンに略一致させて構成した。 - 特許庁

The substrate processing apparatus also includes a substrate supply arranged to output at least one unbroken length of substrate, and a substrate conveying system arranged to convey each outputted unbroken length of substrate from the substrate supply and past the projection system such that the projection system is able to project the patterned beam onto a series of target portions along each unbroken length of substrate.例文帳に追加

また、基板処理装置は、少なくとも１つの完全な長さの基板を送り出すようになされた基板サプライと、投影システムがパターン化されたビームを個々の完全な長さの基板に沿った一連の目標部分に投射することができるよう、基板サプライから送り出される個々の完全な長さの基板を投影システムの先へ搬送するようになされた基板搬送システムとを備えている。 - 特許庁

After an n-type AlInP clad layer 11, an active layer 12 having a multiple quantum well structure, a p-type AlInP clad layer 13, and a p-type GaAs layer 14 are grown in sequence on an n-type GaAs substrate via an n-type GaAs etching stop layer, those layers are patterned through dry etching using a resist pattern 19 having a rectangular plane shape as a mask.例文帳に追加

ｎ型ＧａＡｓ基板上にｎ型ＧａＡｓエッチングストップ層を介してｎ型ＡｌＩｎＰクラッド層１１、多重量子井戸構造を有する活性層１２、ｐ型ＡｌＩｎＰクラッド層１３およびｐ型ＧａＡｓ層１４を順次成長させた後、長方形の平面形状を有するレジストパターン１９をマスクとしてこれらの層をドライエッチングによりパターニングする。 - 特許庁

The method includes a step of decomposing a desired pattern to be printed on a substrate into at least two constituent sub-patterns that are capable of being optically resolved by the lithography system, and a step of coating the substrate with a first positive tone resist layer and a relatively thin second positive tone resist layer on top of a target layer of the substrate which is to be patterned with a desired dense line pattern.例文帳に追加

本発明は、基板上に印刷される所望のパターンを、リソグラフィシステムによって光学的に分解することができる少なくとも二つの成分サブパターンに分解する工程、所望の高密度ラインパターンでパターンを形成させる基板のターゲット層の上に、第一のポジ型レジスト層と比較的薄い第二のポジ型レジスト層とを塗布する工程を含む。 - 特許庁

This manufacturing method of the wiring board includes a process for forming a plurality of patterned wiring on a substrate, a process for depositing the insulating film on the wiring, a process for arranging the wiring in environment for allowing the wiring to be subjected to etching treatment, and a process for forming a conductive layer for electrically connecting the wiring to a contact hole provided in the insulating film.例文帳に追加

基板上に、パターニングされた複数の配線を形成する工程と、前記配線上に絶縁膜を成膜する工程と、前記基板を、前記配線をエッチング処理する環境に配置する工程と、前記配線と、前記絶縁膜に設けたコンタクトホールを介して電気的に接続する導電層を形成する工程と、を備えた配線基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

The exposed photoresistor is developed, and the vacuum-deposited two layers of gold (platinum) and titanium (chromium) around the patterned photoresistor are etched in order, and then the desired pattern surface is made smooth by etching the glass surface, and after removing titanium (chromium) and gold (platinum), a nickel plating layer is laminated on a glass substrate, and the nickel plating layer is released from a mold to produce a master.例文帳に追加

露光された前記フォトレジスタを現像し、２層に真空蒸着されたゴールド（白金）、チタニウム（クロム）をパターニングされたフォトレジスタを中心に順次にエッチングした後、ガラス表面をエッチングして所望のパターン表面を滑らかにし、チタニウム（クロム）、ゴールド（白金）を除去してからガラス基板にニッケル鍍金層を積層し、ニッケル鍍金層を離型させてマスターを製作する。 - 特許庁

A lead terminal section is patterned on the side face of a head body 4 provided with a reproducing magnetic head part 2 having a magnetic gap formed to reproduce an information signal or the like recorded at least in a magnetic recording medium, and a preamplifier 6 for amplifying a reproduced output detected by the magnetic gap via the lead terminal section is directly mounted on the side face of the head body 4.例文帳に追加

少なくとも磁気記録媒体に記録された情報信号等を再生する磁気ギャップ１１が形成された再生磁気ヘッド部９を備えるヘッド体４の側面上にリード端子部２２をパターン形成し、このリード端子部２２を介して磁気ギャップ１１によって検出された再生出力を増幅するプリアンプ６がヘッド体４の側面上に直接実装される。 - 特許庁

This accessorized lace cloth has a narrow watermark-patterned portion 2 and a sewing margin 3 continuous band-fashion along one rim of the portion 2 in the length direction, wherein the sewing margin 3 is characterized by representing a double band pieces 3a and 3b with the outer rim sides made divergent and is designed to reversibly sew the selvedge of a clothing fabric by inserting the selvedge into the resultant space.例文帳に追加

本発明は、細幅状の透かし模様部分２と、その長さ方向の一縁に沿って帯状に連続した逢着代３とを備え、該逢着代３は外縁側を開放させた二重帯片３ａ、３ｂになっていることを特徴とし、逢着代を拡開してその間に被服生地の端末部を挿入することによりリバーシブルに逢着できるように構成した。 - 特許庁

A plurality of the resin pellet materials are blended and kneaded to previously form colorless molded products of desired shapes and the colorless molded products are dyed with acidic and/or basic dyes corresponding to the end-capping agent in a single dye bath or plural dye baths whereby the objective marble-patterned multicolor-molded products are produced.例文帳に追加

前記樹脂ペレット材料を複数ブレンドした配合物を混練して予め所望形状の無色成形品を製造した後、その中に含まれるエンドキャッピング剤に対応する酸性染料及び／又は塩基性染料の複数染料を含む１又は複数浴染液中で無色成形品に浸染を施す各工程からなるマーブル模様の多色成形品製造方法。 - 特許庁

A system includes a magnetic recording medium having a magnetic layer with features in a discrete track configuration or a bit patterned configuration and an underlayer adjacent to the magnetic layer, the underlayer comprising a material capable of forming surface plasmon resonance; and a magnetic head having: a writer for writing to the medium; and a near-field transducer for heating the medium for thermally assisted recording.例文帳に追加

システムは、ディスクリートトラック構成またはビットパターン構成の特徴部を備える磁気層、および磁気層に隣接した下地層であって、表面プラズモン共鳴の形成が可能な材料を有する下地層を有する磁気記録媒体と、磁気ヘッドであって、媒体に書き込むための書込部および熱アシスト記録のために媒体を加熱する近接場トランスデューサを有する磁気ヘッドとを含む。 - 特許庁

A resist film is patterned precisely on a substrate, a hydrophilized film is formed in an opening of the resist film, GO (graphene oxide) is selectively and chemically bonded/fixed to only a portion of the hydrophilized film by means of the hydrophilicity of the GO and the bonded/fixed GO is deoxidized to obtain such the graphene structure that the graphene is fixed selectively to only the portion of the hydrophilized film.例文帳に追加

基板上にレジスト膜を精度よくパターニングし、そのレジスト膜の開口内に親水化膜を形成した後、ＧＯが親水性を有することを利用して、親水化膜の部分にのみ、ＧＯを選択的に化学的に結合させて固定化し、更にそのＧＯを還元して親水化膜の部分にのみグラフェンが選択的に固定化されたグラフェン構造体を得る。 - 特許庁

The shield material includes: a transparent substrate 10; a first adhesive layer 12 formed on the transparent substrate 10; a resin layer 14 formed on the first adhesive layer 12; a patterned metal layer 16a formed on the resin layer 14; and an antireflective layer 20 formed on the pattern 16a on the metal layer and the resin layer 14 via a third adhesive layer 12b.例文帳に追加

透明基材１０と、透明基材１０上に形成された第１の粘着層１２と、第１の粘着層１２上に形成された樹脂層１４と、樹脂層１４上にパターン化されて形成された金属層１６ａと、金属層のパターン１６ａ及び樹脂層１４の上に、第３の粘着層１２ｂを介して形成された反射防止層２０とを含む。 - 特許庁

In a region in which a coverage of an active region where a gate electrode 14 is formed is ≥50% and an area thereof is ≥0.02 mm^2, carbon 15 is introduced into a polycrystalline silicon film 14' and then phosphorus 16 is introduced into the polycrystalline silicon film 14', which is patterned to form the gate electrode 14 on a gate insulating film 13.例文帳に追加

ゲート電極１４が形成されたアクティブ領域による被覆率が５０％以上かつその面積が０．０２ｍｍ^２以上の領域において、多結晶シリコン膜１４´に炭素１５を導入してから、多結晶シリコン膜１４´にリン１６を導入し、多結晶シリコン膜１４´をパターニングすることにより、ゲート絶縁膜１３上にゲート電極１４を形成する。 - 特許庁

The test strip 100 additionally has a second electrically conductive layer 120 including a second working electrode disposed above the second patterned spacer layer, a second insulating layer 122 disposed above the second electrically conductive layer, a first analyte reagent layer 106 disposed on the first working electrode within the first sample-receiving chamber, and a second analyte reagent layer 118 disposed on the second working electrode within the second sample-receiving chamber.例文帳に追加

第二パターンスペーサー層の上に配置された第二作用電極を備える第二導電層１２０、第二導電層の上に配置された第二絶縁層１２２、第一試料受け取り室内の第一作用電極の上に配置された第一検体試薬層１０６、及び第二試料受け取り室内の第二作用電極の上に配置された第二検体試薬層１１８を有する。 - 特許庁

To provide a black ink composition for forming fine patterns, which can accurately form the fine patterns having a higher black degree by a relief reverse printing method, gives patterned ink films having sufficient film hardness, is excellent in adhesiveness to substrates and in solvent resistance, can repeatedly be printed, and is suitably used for shading films and color filter black matrices.例文帳に追加

凸版反転印刷法により高い黒色度を有する微細パターンを正確に形成することができ、そのパターン化されたインキ膜が十分な膜硬度を有し、基材への付着性、耐溶剤性に優れ、さらに繰り返し印刷することが可能な、遮光膜並びにカラーフィルターのブラックマトリクスに好適に用いられる微細パターン形成用黒色インキ組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an inorganic light-emitting element and a method for manufacturing the same which attain the inorganic light-emitting element by using a patterned metal electrode in place of a transparent electrode generally used for the inorganic light-emitting element and without using the transparent electrode which requires a complicated process and a high cost, and in which the manufacturing process is simplified with reduced cost.例文帳に追加

無機発光素子で一般的に使用されていた透明電極の代わりにパターニングされた金属電極を使用することにより、複雑な工程と高コストを要する透明電極を使用することなく無機発光素子を実現できるようにして、製造工程が単純化されるとともにコストが低減された無機発光素子及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The semiconductor package may include: a circuit board 110 with an accommodation space formed in its inside; a semiconductor chip 120 inserted in the accommodation space of the circuit board; and an electrode pattern part 130 formed on one surface of the semiconductor chip in a patterned shape and directly brought into contact with a via part 117 of the circuit board to electrically connect them each other.例文帳に追加

半導体パッケージは、内側に収容空間が形成される回路基板１１０と、上記回路基板の収容空間に挿入される半導体チップ１２０と、上記半導体チップの一面にパターン状で形成され、上記回路基板のビア部１１７と直接接触され互いを電気的に連結するための電極パターン部１３０とを含むことができる。 - 特許庁

When balls such as solder balls are mounted on substrates 400 to be mounted, a cutting process of cutting a multiple patterning substrate 500 patterned with the plurality of substrates 400 to divide into the respective substrates 400 and electric inspection on the respective substrates 400 are performed in predetermined order, and balls are mounted only on substrates 400 determined as conforming articles through the electric inspection.例文帳に追加

搭載対象の基板４００に半田ボール等の球状体を搭載する際に、基板４００が複数面付けされた多面付け基板５００を切断して各基板４００に分割する切断処理、および各基板４００に対する電気的検査を所定の順序で実行し、電気的検査において良品と判別された基板４００にのみ球状体を搭載する。 - 特許庁

To provide a method for forming a metal oxide thin film pattern by applying a photosensitive metal-organic material precursor solution onto a substrate without using a photosensitive prepolymer resin and directly patterning a coating film layer of the applied solution by a nanoimprint system and to provide the metal oxide thin film pattern patterned directly by this forming method and a method for producing an LED element including a photonic crystal layer by using this forming method.例文帳に追加

本発明は、感光性プレポリマーレジンを使用せずに、感光性金属有機物前駆体溶液を基板に塗布して、ナノインプリント方式で直接パターニングする金属酸化薄膜パターンの形成方法、当該形成方法によって直接パターニングされた金属酸化薄膜パターン、および、当該形成方法によって光結晶層を含むＬＥＤ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

The wiring board includes: a base material 12 formed of an insulating resin material; a substrate layer 16 formed on a surface of the base material, comprising a material prepared by mixing metal particles 20 and a binder resin, the metal particles serving as a plating catalyst, and patterned to form a pattern corresponding to a wiring pattern; and a metal film deposited on the substrate layer by plating to form the wiring pattern 18.例文帳に追加

配線基板は、絶縁性を有する樹脂材料で形成された基材１２と、めっきの触媒となる金属粒子２０とバインダ樹脂とを混合した材料により基材の表面に形成され、配線パターンに対応してパターン化された下地層１６と、下地層上にめっきにより析出され配線パターン１８を形成する金属膜と、を備えている。 - 特許庁

The transfer member 10 includes: a base material 11; a metal film 14 that is a conductive film formed on a surface of the base material 11 and patterned into a predetermined shape so as to become an electrode 4; and a bonding film 3 that is formed so as to cover at least the conductive film, which is the metal film 14, and is capable of exhibiting adhesiveness when energy is applied thereto.例文帳に追加

転写体１０は、基材１１と、基材１１の表面に形成され所定の形状にパターニング加工されて電極４となるべき導電性膜である金属膜１４と、少なくとも金属膜１４となる導電性膜の部分を覆うように形成されエネルギーを付与されると接着性を発現することが可能な接合膜３と、を備えている。 - 特許庁

To provide a bulky and three-dimensionally patterned basis having uneven patterns on which a number of large or small strained foams (bubble shaped parts) are scattered or aggregated and crinkling patterns surrounded with the uneven patterns, which are shaped by effectively using properties that the raw material of the basis such as cloth shrinks by a heat treatment.例文帳に追加

布地等素地の原材料が熱処理により収縮するという特性を上手に利用することにより賦形した、多数個の大・小粒の歪形泡（バブル形状部）が点在もしくは集合したような凹凸模様および当該凹凸模様によりできた襞状模様をもつ脹れ感のある新規な立体的模様付きの素地およびその製法を提供する。 - 特許庁

The sheet heater is manufactured through the steps of: forming the patterned heater element 2 on the insulating film 1; forming the other heat-resistant insulating film 7 on the heater element 2 to laminate the heater element 2; and forming the heat uniforming film 8 made of the film of good thermal conduction uniformly over the surface of at least one of the insulating films 1 and 7.例文帳に追加

このシートヒータは、絶縁膜１の上にパターニングされたヒータエレメント２を形成する工程と、このヒータエレメント２の上に別の耐熱性を有する絶縁膜７を形成してヒータエレメント２をラミネートする工程と、少なくとも一方の絶縁膜１、７の表面上に熱伝導良好な膜からなる均熱膜８を一様に形成する工程とにより製造される。 - 特許庁

The method for manufacturing the patterned polyimide precursur film comprises subjecting the photoresist film on a polyimide pattern to a heat treatment for 30 seconds to 30 minutes at a temperature ranging from 40 to 100°C within 30 minutes, before a process of peeling the photoresist film with a peeling liquid after patterning the polyimide precursur film formed on a semiconductor wafer, having a difference in level of ≥2 microns with the photoresist.例文帳に追加

２ミクロン以上の段差を有する半導体ウエハ上に形成されたポリイミド前駆体被膜をフォトレジストでパターン加工した後、ポリイミドパターン上のフォトレジスト被膜を剥離液で剥離する工程の前６０分以内に、４０〜１００℃の範囲の温度で３０秒〜３０分間の加熱処理を施すことを特徴とするパターン化されたポリイミド前駆体被膜の製造方法。 - 特許庁

A morpheme analysis of an input sentence to be patterned is taken, the name of a pattern taking grammatical role that the natural language pattern takes is estimated according to the morpheme analysis result, and information on the morphemes obtained by the morpheme analysis is expanded at the parts of the pattern constitution elements while made to correspond to the estimated pattern name, thereby generating the natural language pattern.例文帳に追加

そして、パターン化の対象となる入力文に対し形態素解析を行い、形態素解析結果に基づき、自然言語パターンが果たす文法的役割を表すパターン名を推定し、推定されたパターン名に対応付け、パターン構成要素の部分に、形態素解析による形態素の情報を展開させることにより自然言語パターンを生成することを特徴とする。 - 特許庁

In the manufacturing method of the multilayer board, a conductive wiring layer 14 formed by patterning a conductive film 13 is laminated via an insulating film 12, a circular confirmation hole 14 is provided in the conductive film 13 laminated first, the position of the confirmation section 14 is recognized, and the second wiring layer 18 or thereafter is patterned.例文帳に追加

本形態の多層基板の製造方法は、導電膜１３をパターニングすることで形成された配線層１４が絶縁膜１２を介して積層される多層基板の製造方法において、最初に積層される導電膜１３に円形の確認孔１４を設け、この確認部１４の位置を認識してから、２層目以降の配線層１８のパターンニングを行う構成に成っている。 - 特許庁

The lithographic equipment comprises a substrate table for holding a substrate, a projection system which is arranged to project a radiation beam patterned on the substrate, a liquid supplying system prepared to supply liquid to a space between the projection system, the substrate and the substrate table, and a ring placed to cover a gap between the substrate and the substrate table and made contact with both of them.例文帳に追加

基板を保持する基板テーブルと、基板上にパターン形成された放射ビームを投影するように構成された投影システムと、投影システムと基板と基板テーブルとの間の空間に液体を提供するように構成された液体供給システムと、基板と基板テーブルとの間のギャップを覆うように設けられ、基板および基板テーブルと接触するリングとを含むリソグラフィ装置。 - 特許庁

The organic EL display device is provided with a substrate, a first electrode formed on the substrate, one or more organic layers at least involved in luminescent function, and a second electrode formed on the organic layer, and it is so structured in the manufacturing method that at least one of the above layers is formed by a method of application and patterned by a lift-off method.例文帳に追加

基板と、この基板上に形成された第１の電極と、少なくとも発光機能に関与する１種類以上の有機層と、この有機層上に形成された第２の電極とを有し、前記有機層の少なくとも１層が塗布法により形成され、かつリフトオフ法によりパターニングされている構成の有機ＥＬ表示装置および製造方法とした。 - 特許庁

A transparent common electrode 210 is provided on a facing surface of the substrate 200 and a base layer 303, a reflection pattern 312 consisting of silver in the form of simple substance or the silver alloy containing silver and a transparent conductive film 314 laminated thereon and patterned so that its edge part comes in contact with the base film 303 are provided on the facing surface of the substrate 300.例文帳に追加

このうち、基板２００の対向面には、透明なコモン電極２１０が設けられる一方、基板３００の対向面には、下地膜３０３と、銀単体または銀を含む銀合金からなる反射パターン３１２と、これに積層されるとともに、当該エッジ部分が下地膜３０３と接するようにパターニングされた透明導電膜３１４が設けられている。 - 特許庁

For an insertion molding sheet wherein a design patterned layer comprising a design part and a transparent window part is formed on a substrate sheet and an overcoat layer is formed on a most front surface, a total luminous transmittance of the design part is ≤ 2%, a total luminous transmittance of the transparent window part is 70-95% and the overcoat layer comprises an uncured ionizing radiation cured resin.例文帳に追加

基体シート上に絵柄部と透明窓部からなる絵柄パターン層が形成され、最表面にオーバーコート層が形成されているインサート成形用シートであって、絵柄部の全光線透過率が２％以下であり、透明窓部の全光線透過率が７０〜９５％であり、かつオーバーコート層が未硬化の電離放射線硬化樹脂からなるインサート成形用シート。 - 特許庁

To provide an organic glass film containing a copolymer of a diallyl carbonate compound and an acid-decomposable allyl carbonate compound and/or an acid-decomposable acrylic ester compound (particularly a monomer forming a hydrophilic group by acid decomposition) and a compound which generates an acid under electron beams and to provide a method for producing a patterned film by patterning the organic glass film with electron beams.例文帳に追加

ジアリルカーボネート化合物と、酸で分解するアリルカーボネート化合物又は／及び酸で分解するアクリル酸エステル化合物（特に、酸により分解し親水性基を生じるモノマー）との共重合体、並びに電子線で酸を発生する化合物を含む有機ガラス膜に関し、又その膜の電子ビームによるパターン形成を行い、パターン形成された膜を作製する方法に関する。 - 特許庁