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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > S-processの意味・解説 > S-processに関連した英語例文

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S-processの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 553



例文

A polyoxyethylene alkyl ether sulfate is produced by carrying out a sulfation reaction process for bringing a polyoxyethylene alkyl ether into contact with a SO3-containing gas at40°C to sulfate the polyoxyethylene alkyl ether, a cooling process for cooling the reaction product of the sulfation reaction process at ≥1°C/s cooling rate to30°C and a neutralization process for neutralizing the reaction product after the cooling process.例文帳に追加

反応温度40℃以上で、ポリオキシエチレンアルキルエーテルとSO_3含有ガスとを接触させて硫酸化する硫酸化反応工程と、この硫酸化反応工程の反応生成物を、1℃/s以上の冷却速度で、30℃以下の温度に冷却する冷却工程と、この冷却工程後の反応生成物を中和してポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩を製造する中和工程を行ってポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩を製造する。 - 特許庁

An injection pressure of the non-oxidizing fluid during the high pressure fluid process is set to 30 to 150 MPa, and dynamic viscosity v of the non-oxidizing fluid should be30 mm^2/s.例文帳に追加

高圧流体加工の際の非酸化性流体の噴出圧力は、30〜150MPaとし、そのために非酸化性流体の動粘度νは30mm^2/s以下とする。 - 特許庁

In a cooling process on hot pressing, cooling is performed at a critical cooling rate or higher till an Ms point, and the cooling rate in the temperature range from the Ms point to 200°C is controlled to 25 to 150°C/s.例文帳に追加

熱間プレス時の冷却過程において、Ms点までは臨界冷却速度以上で冷却し、Ms点から200 ℃までの温度範囲の冷却速度を25〜150 ℃/sとする。 - 特許庁

Then, an MR resistance estimated value during the process of grinding is calculated form the S value and the K value, and when the MR resistance estimated value reaches a target resistance value (S7), the grinding work is stopped (S8).例文帳に追加

次に、S値およびK値から、研磨工程中のMR抵抗推定値を求め、このMR抵抗推定値が目標抵抗値に達した時点で(S7)、研磨加工を停止する(S8)。 - 特許庁

例文

In this regard, the etch release process is selective or preferential to the material(s) securing the mechanical structures 20a, 20b, 20c in relation to the material comprising the anchors 30a, 30b, 30c.例文帳に追加

エッチング解放プロセスは、機械構造20a、20b、20cをアンカー30a、30b、30cを構成する材料に固定する材料に対し、選択的又は優先的である。 - 特許庁


例文

Since a separate process for bending the standing part S2 is eliminated, a sticking cycle is shortened to efficiently consecutively stick a plurality of adhesive sheets S.例文帳に追加

また、起立部S2を折り曲げるための別途の工程も不要にできることから、貼付サイクルを短縮して複数の接着シートSを効率よく連続的に貼付することができる。 - 特許庁

This process is carried out for each toner color, which is superimposed on the intermediate transfer belt 41 to form an color image, and the color image is transferred onto a sheet S in a secondary transfer area (transfer position) R2.例文帳に追加

これを各トナー色ごとに実行し、中間転写ベルト41上で重ね合わせてカラー画像を形成した後、2次転写領域(転写位置)R2で用紙Sに転写する。 - 特許庁

A winding device 40 winds the resin film 11 to keep the fixed interval S between the wound layers of the resin film 11 after a molding process of the small protruding parts 13 by the small protruding part formation device 15.例文帳に追加

巻取装置40は小凸部形成装置15による小凸部13の成形工程後、樹脂フィルム11を巻き付けて小凸部13により樹脂フィルム11の間に一定の間隔Sを保持する。 - 特許庁

To provide an optical microscope capable of suppressing unnecessary response light as a background and detecting desired response light in nonlinear optical response process with a good S/N ratio.例文帳に追加

非線形光学応答過程による所望の応答光を、バックグラウンドとなる不要応答光の発生を抑制して、良好なS/Nで検出できる光学顕微鏡を提供する。 - 特許庁

例文

When a binding process is performed with staples 411, as shown in (A), sheets of paper S are stacked on a paper stacker section 35 with a surface formed with an image facing downward.例文帳に追加

ステープル針411により綴じ処理が行われる場合、(A)に示すように、画像が形成された面が下向きとなる状態で用紙積載部35上に用紙Sが積載される。 - 特許庁

例文

Accordingly, only the fuel in the selected fuel section(s) is discharged in the stop control process, whereby the fuel without contributing the generation of power is never discharged.例文帳に追加

したがって、停止制御処理において選択された燃料電池区分内の燃料だけが排出されるので、電力の発生に寄与しない燃料が排出されることはない。 - 特許庁

Since another process for bending the standing portion S2 also can be dispensed with, a sticking cycle can be shortened and a plurality of adhesive sheets S can be efficiently and successively stuck.例文帳に追加

また、起立部S2を折り曲げるための別途の工程も不要にできることから、貼付サイクルを短縮して複数の接着シートSを効率よく連続的に貼付することができる。 - 特許庁

To provide a semiconductor device in which the S-factor can be reduced effectively, and to provide its fabrication process.例文帳に追加

S−factorを効果的に低減可能は半導体ディバイスを提供すること及び、S−factorを効果的に低減可能は半導体ディバイスの製造方法を提供すること。 - 特許庁

Thereafter, the metal layer 14 to be removed is removed by the etching process, and a thin film device S having the device forming layer and thin film base material 1 is obtained by separating this device from the laminated substrate 10.例文帳に追加

その後、被除去金属層14をエッチングにより除去して、積層基板10からデバイス構成層及び薄膜基材1を有してなる薄膜デバイスSを分離して得る。 - 特許庁

When a jam is generated, the intra-machine remaining sheets are ejected to the sheet ejection part as effective sheets, and sheets on which the image(s) after jam occurrence is formed, are ejected continuously to the sheet ejection part in the recovery process.例文帳に追加

ジャムが発生した場合、機内残留紙を有効紙として排紙部に排紙し、ジャム発生以降の画像を形成した用紙をリカバリにおいて、前記排紙部に継続排紙する。 - 特許庁

A sheet material S having passed between a photosensitive drum 7 and a transcription roller 10 and undergone a transcription of a toner image is passed through a fixing nip of a fixing device 15 so that a heat fixation process is executed.例文帳に追加

感光ドラム7と転写ローラ10の間を通過してトナー画像が転写されたシート材Sは定着装置15の定着ニップを通過することによって熱定着処理される。 - 特許庁

A transmission data generation part 11 generates transmission data by receiving the process data and transmits the transmission data by radio from a radio transmission part 12 to a radio transmission part 13 of a data server S.例文帳に追加

伝送データ作成部11は、プロセスデータを受け取って伝送データを作成し、この伝送データを無線伝送部12からデータサーバSの無線伝送部13に無線伝送する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device manufacturing method which increases process margins of a hole radius R and a shortest distance S between holes in formation of a tabular cavity to achieve high reliability.例文帳に追加

平板状空洞を形成する際におけるホール半径Rと、ホールとホールの最短距離Sのプロセスマージンを広げ、信頼性の高い半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide gas purifying equipment and a process improving the removing efficiency of S components by eliminating the influence of tar components, a gasification system using it, and a gasification/power generation system.例文帳に追加

タール成分の影響を除去してS成分の除去効率が向上するガス浄化装置及び方法、並びにそれを用いたガス化システム、ガス化発電システムを提供する。 - 特許庁

Whether the manufacturing process S is a cause of generating defective product or not is estimated on the basis of the above processed/non-processed item number data and the good-product/defective product item number data.例文帳に追加

上記処理/未処理数項目データおよび良品/不良品数項目データに基づいて製造工程Sが不良品発生要因となっているかどうかの推定を行う。 - 特許庁

The rotational speed of the coil is taken as ≥1 rpm, the rotation of the coil starts30 s before completing the mounting of the coil on a pay-off reel which is arranged on the inlet side of the next process line.例文帳に追加

前記コイルの回転速度を1回/分以上とし、該コイルの回転は、次工程ラインの入側に配置されたペイオフリールに対するコイル装着完了の30秒以上前に開始する。 - 特許庁

In this pipe expanding process, the contact angle α (that is, it is equal to the cone angle θ) when the tapered surface S of the plug 1 is brought into contact with the pipe end part of the pipe material 2 made of the metal is ≤3.5°.例文帳に追加

この拡管処理において、金属製管材2の管端部にプラグ1のテーパ面Sが接触する際の接触角α(すなわち、テーパ角θに等しい)が3.5°以下となる。 - 特許庁

In the process of passing the affixing member 37, the affixing member presses the adhesive tape 2 against the bag-binding part S, and the adhesive tape is affixed to the periphery of the bag-binding tape.例文帳に追加

貼付部材37を通過させる過程で、当該貼付部材が粘着テープ2を袋束ね部Sに押圧して、当該粘着テープが袋束ね部の周囲に貼り付くようになっている。 - 特許庁

Only if a difference of the areas Sa and S is within a predetermined range (S47: YES), it is determined that a possibility than the object is a mark is high for moving on to a detailed shape recognition process (S49).例文帳に追加

面積Sa,Sの差が所定範囲内である場合にのみ(S47:YES)、対象がマークである可能性が高いと判断して詳細な形状認識処理(S49)へ移行する。 - 特許庁

where file(s) is one or more files to process. 例文帳に追加

また boot0cfg(8) で booteasyを両方のディスクに インストールして、コピーの作業が終わったあとに古いシステムからでも新しいディスクからでも起動できるようにしておく必要があります。 この作業の詳細は formatting-media tutorial を見てください。 - FreeBSD

The washing method comprises the immersion of a cultured shellfish S in a treating liquid A-1 containing mononitroguaiacol, phenoxyethanol and ethyl alcohol for a prescribed period in the culturing process of the shellfish.例文帳に追加

この洗浄方法は、貝の養殖過程において、養殖貝Sを、モノニトログアヤコール、フェノキシエタノール、及びエチルアルコールを含む処理液A−1中に所定時間浸す処理よりなる。 - 特許庁

The dust contained in the combustion exhaust gas is removed by the spray from the nozzle 12, in a process where the combustion exhaust gas flowing from the suction port 5 into the probe body 3 is passed through the space S.例文帳に追加

吸込口5からプローブ本体3内に流入した燃焼排ガスが空間Sを通過する過程で、ノズル12からの噴霧により、当該燃焼排ガスに含まれるダストを除去する。 - 特許庁

Annealing in the process of a cold rolling stage and stabilization annealing after final cold rolling are performed in a temperature range of 200 to 550°C for 5 s to 1 min in a continuous furnace.例文帳に追加

冷間圧延工程途中での焼鈍及び最終冷間圧延後の安定化焼鈍を、連続炉において200℃〜550℃の温度範囲で5秒以上1分以下実施する。 - 特許庁

When the order of the inspection product Q is a divisor of the order (1) and the loop is repeated as many times as the safe variable (s), inspection success is outputted and the process is ended.例文帳に追加

検査積Qの位数が位数qの約数であり、且つ、安全変数sの回数だけループを繰り返していれば、検査合格の旨を出力して処理を終了する。 - 特許庁

The time for a constant rate drying is adjusted to be 6 s or longer by lowering the temperature in the first half portion of a drying process and raising its second half portion after the application of the coating layer.例文帳に追加

コート層を塗布し、乾燥工程の前半部分の温度を下げるとともに後半部分の温度を上げて、恒率乾燥の時間が6秒以上となるように調整した。 - 特許庁

Since another process for raising the standing portion S2 also can be dispensed with, a sticking cycle can be shortened and a plurality of adhesive sheets S can be efficiently and successively stuck.例文帳に追加

また、起立部S2を立ち上げるための別途の工程も不要にできることから、貼付サイクルを短縮して複数の接着シートSを効率よく連続的に貼付することができる。 - 特許庁

The process for manufacturing the methacrylate resin light transmitting body comprises molding a methacrylate resin composition obtained by mixing (1) a disulfide expressed by formula (1): R^1-S-S-R^2 (1) with a methacrylate resin in a heat-melted state.例文帳に追加

本発明のメタクリル樹脂製導光体の製造方法は、メタクリル樹脂に式(1) R^1−S−S−R^2 (1) 〔式中、R^1およびR^2はそれぞれ独立に、炭素数1〜12のアルキル基または炭素数1〜12のアルコキシル基で置換されていてもよい炭素数3〜12のシクロアルキル基を示す。 - 特許庁

In a process/where potting resin is cured, the potting resin shrinks in volume, by which the gap S is decreased also in volume, but the second filler of low elasticity filled into the potting resin is present in the gap S, so that stresses developed on the primary surface of the semiconductor chip by the first filler can be lessened.例文帳に追加

ポッティング樹脂のキュアの工程で、ポッティング樹脂の体積は縮小し、これによって間隙Sも縮小されるが、上記低弾性の第2のフィラーが間隙に存在するので、第1のフィラーによって与えられる半導体チップ主面への応力が低減される。 - 特許庁

The dust reducing agent for blasting process contains 40-70 wt.% water-soluble cellulose ether having 55,000-100,000 Pa×s viscosity in 2 wt.% aqueous solution at 20°C, 30-50 wt.% polycarboxylic acid-based polymer and 0-10 wt.% defoaming agent.例文帳に追加

2重量%水溶液の粘度が20℃において55000〜100000mPa・sである水溶性セルロースエーテル40〜70重量%、ポリカルボン酸系重合体30〜50重量%及び消泡剤0〜10重量%を含有する吹付け工法用粉塵低減剤。 - 特許庁

In the sewage treatment system, in the process of the flow of sewage through the boosting passage S of the eddy current pump 10, a water molecule group to cover impurity, such as cations and anions, is subdivided through the operation of a magnetic field generated in the passage S, and the impurities are separated in an exposed state.例文帳に追加

上記汚水処理システムにおいては、汚水が渦流ポンプ10の昇圧通路Sを通過する過程にて、同通路S内に形成される磁場の作用により、陽イオン、陰イオンなどの不純物を覆っている水分子集団が細分化されて、同不純物が露出状態なって分離される。 - 特許庁

Then appropriately adjusting a wrapping amount of the adhesive sheet S avoids such a disadvantage that the wafer W and a circuit is damaged by a cutting edge of the adhesive sheet S intruding between grinding member and it, or by being turned up at the time of grinding in the post-process.例文帳に追加

さらに、接着シートSの回り込み量を適切に調節することで、後工程の研削時に接着シートSの切断端部が研削部材との間に入り込んだり、捲れ上がったりしてウェハWや回路を破損させてしまうといった不都合を回避することができる。 - 特許庁

The number of grinding passes performed in a second grinding process is obtained by multiplying the difference (S-S0) between a recessed part area ratio S of the processed surface state and a planned area ratio S0 by the number of grinding passes (inclination k (constant value)) per change of the recessed part area ratio, and it is executed.例文帳に追加

この加工面状態の凹部面積割合Sと予定面積割合S0との差(S−S0)に、凹部面積割合の変化当たりの研削パス回数(傾きk(一定値))を乗じて、第2研削加工において行う研削パス回数を求め、それを実行する。 - 特許庁

Mutual heat interference by two heaters is offset by a correction process of approximating it using combination of transfer functions only with primary delay, a first compensator PID_1(s), a second compensator PID_2(s) are connected as control systems independent of each other to design the control systems.例文帳に追加

2本の加熱ヒータによる相互の熱干渉を一次遅れのみの伝達関数の組み合わせを用いて近似する補正プロセスによって相殺するとともに、それぞれ独立した制御系として第1補償器PID_1(s)、第2補償器PID_2(s)を接続して制御系の設計を行なう。 - 特許庁

An acquisition apparatus 27 acquires a final adjustment value of a series of adjustments of the adjustment values s, z and adjustment values in a changing process up to the final adjustment value from the adjustment values s, z outputted at the inspection terminal 17, and transmits them to a storage device 29.例文帳に追加

取得装置27は、検査用端子17に出力されている調整値s,zから、これらの調整値s,zの一連の調整における最終調整値及びこの最終調整値に至るまでの変化の過程にある調整値を取得し、蓄積装置29に送る。 - 特許庁

This sludge treatment process for treating excess sludge S formed when aerobic biological treatment 3 of an organic waste liquid is performed, comprises: subjecting the excess sludge S to concentration treatment 5 to obtain concentrated excess sludge Sa; then, subjecting the concentrated excess sludge Sa to solubilization treatment with ozone; and thereafter, subjecting the solubilized sludge to anaerobic digestion treatment 8.例文帳に追加

有機性排液の好気性生物処理3によって際に発生する余剰汚泥Sの処理方法であって、余剰汚泥を濃縮処理5した後に、濃縮した余剰汚泥Saをオゾンによって可溶化処理し、その後この可溶化処理汚泥を嫌気性消化処理8する。 - 特許庁

The manufacturing process of a pressure sensitive adhesive tape comprises locating the replenishing port 12a of the adhesive feed means with which adhesive s is replenished to reservoir 7 under the liquid level and controlling the feed of adhesive s to reservoir 7 in a way that the liquid level from roll clearance c is maintained at a set value.例文帳に追加

液溜め部7に粘着剤sを補給する粘着剤補給手段の補給口12aを液溜め部7の液面下に位置させた状態で、ロール間隙cからの液面高さを設定値に維持するよう粘着剤sを液溜め部7に補給制御する。 - 特許庁

At the late stage of the compression process of a piston, the squish generation regions Ka serve for compressing air-fuel mixture in the upper spaces thereof to generate a plurality of squish flows S and the swirl generation guide channels 5 serves for compressing air-fuel mixture in the upper spaces thereof to generate a plurality of swirl flows S.例文帳に追加

ピストンの圧縮行程の後期において、スキッシュ生成領域Kaは、その上側空間の空燃混合気を圧縮して複数のスキッシュ流Sを生成し、スワール生成案内溝5は、その上側空間の空燃混合気を圧縮して複数のスワール流Sを生成する。 - 特許庁

The steel sheet having such characteristics is produced by plating the steel sheet with a plating bath having a desired chemical composition, rapidly cooling with a cooling speed of 10 to 50°C/s or subjecting the plated steel sheet to a process for spraying a zinc powder onto the plated layer, and subjecting to a post heat treatment comprising keeping at 130 to 350°C for at least 10 s.例文帳に追加

この鋼板は、所望の化学組成のめっき浴で溶融めっきした後、10〜50℃/秒で急速冷却するかハーティ処理を施して冷却した後、130〜350℃で10秒以上保持する後熱処理を施すことで容易に製造できる。 - 特許庁

A photoresist film formation process is implemented with a formation device 71 that includes a sprayer 73 for spraying a photoresist material by generating an air flow toward a metal film 43 on a wafer S and a plurality of spacers 74 arranged between a work stage 72 and the wafer S.例文帳に追加

フォトレジスト膜形成工程は、ウエハS上の金属膜43に向けて気流を発生させてフォトレジスト材を噴霧する噴霧器73と、ワークステージ72及びウエハS間に配置された複数のスペーサ74と、、を有する形成装置71を用いて行うことを特徴とする。 - 特許庁

The dust reducing agent for the blasting process contains 70-100 wt.% water-soluble cellulose ether having 55,000-100,000 Pa×s viscosity in 2 wt.% aqueous solution at 20°C, 0 to <30 wt.% polycarboxylic acid-based polymer and 0-10 wt.% defoaming agent.例文帳に追加

2重量%水溶液の粘度が20℃においてが55000〜100000mPa・sである水溶性セルロースエーテル70〜100重量%、ポリカルボン酸系重合体0〜30重量%未満及び消泡剤0〜10重量%を含有する吹付け工法用粉塵低減剤。 - 特許庁

When punching the plate material S after the pre-plating process, a part of plated layer M of the pre-plated part of the plate surface of the plate material S is dragged forcibly to (in a punching direction) a punched cut side surface part to be expanded, and the punched cut side surface part is also mechanically plated.例文帳に追加

しかも、当該先メッキ処理後の板材Sを打ち抜く際に、板材Sの板面先メッキ部分のメッキ層Mの一部を、打ち抜き切断側面部分へ(打ち抜き方向へ)強制的に引きずって押し広げ、当該打ち抜き切断側面部分にも機械的にメッキを施す。 - 特許庁

The method comprises plowing ground in groove form to replace with a fluid S and arranging a water barrier sheet 4 in the groove 3 replaced with the fluid S and has an insertion process of inserting a rolled water barrier sheet 4 into the groove 3 and an extension process of extending the rolled water barrier sheet 4 in the groove 3.例文帳に追加

地盤を溝状にほぐして流動体Sに置き換えた後、流動体Sに置き換えられた溝部3内に遮水シート4を配置する遮水構造の構築方法において、ロール状に巻かれた遮水シート4を溝部3内に挿入する挿入工程と、ロール状に巻かれた遮水シート4を溝部3内で広げて展開させる展開工程とを備える。 - 特許庁

The method of treating the surface of a product produced from a polymer composition including a polyvinyl chloride polymer in which the coloring is changed while being used comprises: a process (E) of treating the surface of the product with an organic solution (solution (S)) including an organic peroxide and an organic solvent in ambient air; and a process of diffusing the solution only to the surface layer of the product.例文帳に追加

使用している間に呈色が変化した、塩化ビニルポリマーを含むポリマー組成物から製造された製品の表面を処理する方法であって、該製品の該表面を周囲空気中で有機ペルオキシドと有機溶媒を含む有機溶液(溶液(S))で処理する段階(E)を含み、該処理が製品の表面層のみへ該溶液を拡散させることからなる、前記方法。 - 特許庁

The production method includes: a process of arranging in parallel the plurality of single optical fibers 1 and integrally covering the single optical fibers with the covering portion S to form the optical fiber ribbons 11, 12; and a process of winding the optical fiber ribbon 11, 12 into a coiled state to form the optical fiber coil.例文帳に追加

複数の単心線1を平行に配列して、被覆部Sにより一体的に構成して光ファイバリボン11、12とする工程と、該光ファイバリボン11、12をコイル巻きする工程とを有することを特徴とする光ファイバコイルの製造方法。 - 特許庁

例文

To provide a thick film conductor paste and electronic parts comprised to use the same wherein the paste is used for forming the thick film conductor of electronic circuit(s) and wherein the center has a depression and cracks are not generated in a printing drying or in a coating drying process and in a baking process continuing with it.例文帳に追加

電子回路などの厚膜導体の形成に用いられ、印刷乾燥又は塗布乾燥工程、それに続く焼成工程で、パターン中央部に窪み、クラックが発生しない厚膜導体ペースト及びそれを用いてなる電子部品の提供。 - 特許庁




  
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この対訳コーパスは独立行政法人情報通信研究機構の研究成果であり、Creative Commons Attribution-Share Alike 3.0 Unportedでライセンスされています。
  
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