「Texturing」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

This device 10 for texturing a magnetic disk substrate performs texturing by pressing the one entire surface of a magnetic disk substrate P against a part of the annular grinding surface 16 of a surface grinding tool 12 whose diameter is larger than that of the magnetic disk substrate P; therefore, a minute streaks A of an angstrom order are consistently formed on the entire surface.例文帳に追加

磁気ディスク基板のテクスチャリング加工装置１０によれば、磁気ディスク基板Ｐの一面全体がその磁気ディスク基板Ｐよりも大径の平面研磨工具１２の環状研磨面１６の一部に押し付けられることによってテクスチャリング加工が行われるため、オングストロームオーダーの微小な条痕Ａが全周にわたって均質に形成される。 - 特許庁

The combined process involves texturing the non-conductive substrate with a cobalt etch and applying a sulfide to the textured non- conductive substrate to provide an electrically conductive surface on the non- conductive substrate.例文帳に追加

非導電性基体にコバルトエッチングでテクスチャーを付け、続いてスルフィドをテクスチャーを付けた非導電性基体へ施用して、非導電性基体上に導電性表面を提供することを含む。 - 特許庁

To provide a method for forming texture directly on the surface of a disk-like glass substrate by a mechanical texturing method and a glass substrate for a magnetic disk with which magnetic anisotropy may be obtained.例文帳に追加

機械的テクスチャー法によりディスク状ガラス基板の表面に直接にテクスチャーラインを形成する方法および磁気異方性が得られる磁気ディスク用ガラス基板の提供。 - 特許庁

The elastic yarn is produced by carrying out false twist texturing of a polyamide multifilament yarn in a state thereof doubled with the polyurethane elastic yarn under 0.15-0.3 cN/dtex at 160-185°C heating temperature for 0.1-0.6 s false twist setting time.例文帳に追加

ポリウレタン弾性糸にポリアミドマルチフィラメント糸を引揃えた状態で、加撚張力０．１５〜０．３ｃＮ／dtex、加熱温度１６０〜１８５℃、仮撚セット時間０．１〜０．６秒で仮撚加工する。 - 特許庁

To provide an inkjet recording material wherein powder dropping upon cutting is suppressed, and also, a surface texturing feeling is eliminated without spoiling ink absorbency, glossiness, image clarity and color developing property.例文帳に追加

断裁時の粉落ちが抑制され、かつインク吸収性、光沢性、写像性及び発色性を損なうことなく面シボ感が解消されたインクジェット記録材料を提供する。 - 特許庁

This woven fabric is characterized by weaving a fiber-dyed polyester spun yarn blended with wool used as a warp yarn and a black spun- dyed polyester fiber subjected to false twist texturing used as a weft yarn and finishing the resultant fabric.例文帳に追加

タテ糸に先染めウール混ポリエステル紡績糸を用い、ヨコ糸に仮撚加工を施された黒原着ポリエステル系繊維を用いて製織し、仕上げられてなることを特徴とする織物。 - 特許庁

This false twist textured yarn is characterized in that the yarn is composed of polytrimethylene terephthalate and subjected to false twist texturing and has primarily twisted and untwisted crimps and 200-1,000 turns/m real twists.例文帳に追加

ポリトリメチレンテレフタレートからなる仮撚加工が施されたフイラメント糸であり、先撚未解撚状の捲縮を有し、２００〜１０００回／ｍの実撚を有することを特徴とする仮撚加工糸。 - 特許庁

To provide a cationic dye-dyeable polyester highly oriented undrawn yarn which can give a high grade false-twisted textured yarn in a state hardly causing troubles, especially when subjected to a drawing process and simultaneously a texturing process.例文帳に追加

特に延伸同時仮撚する場合に加工時のトラブルが少なく、かつ、高品位の仮撚加工糸を得ることができるカチオン染料可染ポリエステル高配向未延伸糸を提供する。 - 特許庁

To provide a polyester fiber excellent in softness, bulkiness and resistance to loss of bulkiness, good in carding processability in a postprocessing step, and also hard to cause fibrilication during the following texturing processes or as a textile product.例文帳に追加

ソフト性、嵩高性、耐ヘタリ性に優れ、後加工工程のカード加工性が良好であり、さらにその後の加工や製品として使用した際にフィブリル化しにくいポリエステル繊維を提供する。 - 特許庁

This false twist textured yarn is formed by carrying out false twist texturing of a raw yarn 11 comprising an undrawn filament yarn and composed of fine parts 12 without being untwisted and thick overuntwisted parts 13.例文帳に追加

仮撚り加工糸は、未延伸のフィラメント糸よりなる原糸１１に対して仮撚り加工を施すことによって形成され、細い未解撚部１２と、太いオーバー解撚部１３とから構成されている。 - 特許庁

The woven fabric is constituted of slub-shaped yarns obtained by subjecting cellulose-based filaments and polyester-based filaments to composite texturing, and fused textured yarns comprising composite yarns of the cellulose-based filaments and the polyester-based filaments.例文帳に追加

セルロース系フィラメント糸とポリエステル系フィラメント糸との複合加工によるスラブ形態糸と、セルロース系フィラメント糸とポリエステル系フィラメント糸との複合糸からなる融着加工糸とで織物を構成する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display device that can improve display characteristics by reducing texturing in applying a photo-alignment method to a structure where each pixel is divided into two sub-pixels.例文帳に追加

１つの画素を２つの副画素に分割する構造に光配向方法を適用する際、テクスチャー発生を減らして表示特性を改善することのできる液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a false-twist texturing machine having compact configuration and improved productivity in which many packages can be taken up in a short time and packages wound by all of winding devices are easily exchangeable.例文帳に追加

コンパクトな構成とした上で生産性を向上させ、短時間で多くのパッケージの巻き取りを行い、全ての巻取装置に巻き取られたパッケージを容易に交換可能にした仮撚加工機を提供する。 - 特許庁

This false twist textured yarn is characterized in that the yarn is a filament yarn composed of polytrimethylene terephthalate and subjected to false twist texturing and has primarily twisted and overuntwisted crimps and 200-1,000 turns/m real twists.例文帳に追加

ポリトリメチレンテレフタレートからなる仮撚り加工が施されたフイラメント糸であり、先撚オーバー解撚状の捲縮を有し、２００〜１０００回／ｍの実撚を有することを特徴とする仮撚加工糸。 - 特許庁

At the time, the false twist texturing is carried out at ≤180°C by using a contact heater while regulating the false twist count (T/m) so as to be 28,000-38,000/(Ddtex)1/2, and the twisting tension so as to be 0.03-0.09 CN/dtex.例文帳に追加

その際、仮撚数（Ｔ／ｍ）を（２８０００〜３８０００）／（Ｄdtex）^1/2 、加撚張力を０．０３〜０．０９ＣＮ／ｄｔｅｘの範囲で、かつ接触ヒータを用いて１８０℃以下の温度で仮撚加工する。 - 特許庁

To obtain a chewing candy product continuing a tacky crushing property for a long time and having excellent texturing property, taste and palatability by substituting an oxidized starch with a part of gelatin in the product.例文帳に追加

熱と強い酸性処理に非常に敏感で、機能性を失い、蒸煮効率を低下させ、加工装置の頻繁な洗浄を必要とするゼラチンを含有しないチューイング糖菓製品を提供する。 - 特許庁

Second feed rollers 26 are installed in lateral positions between the first feed rollers 22 and the first heater 23 and a second raw yarn 12 is fed to carry out false twist texturing of a first raw yarn 11 and the second raw yarn 12.例文帳に追加

第１フィードローラ２２と第１ヒータ２３の間における側方位置には第２フィードローラ２６が配設され、第２原糸１２を給糸して第１原糸１１及び第２原糸１２の仮撚り加工が行われる。 - 特許庁

The false twisting comprising feeding two yarns in a separated state to a heater, heating each thereof at a low false twist count, and joining the two yarns by the twisting action of the false twist is carried out at a texturing speed of ≥800 m/min.例文帳に追加

２糸条を分離した状態でヒーターに供給し、それぞれ低仮撚数で加熱した後、仮撚の施撚作用により２糸条を合流させる延伸仮撚を８００ｍ／ｍｉｎ以上の加工速度で行う。 - 特許庁

A plurality of magnetic disk substrates W are polished and textured by a polishing/texturing means 30, and a specified voltage is applied to the magnetic disk substrates W by an electrolytic polishing means 40 to implement the electrolytic polishing.例文帳に追加

そして、複数の磁気ディスク基板Ｗをポリッシング／テクスチャ加工手段３０によりポリッシング加工及びテクスチャ加工し、電解研磨手段４０により、磁気ディスク基板Ｗに所定の電圧を印加して電解研磨する。 - 特許庁

This false-twist texturing machine has a yarn tension detector arranged on the upstream or downstream side of a false-twisting device, and a controller for judging tension abnormality based on the detected tension value outputted from the yarn tension detector.例文帳に追加

仮撚装置の上流側または下流側に配置された糸張力検出器と、糸張力検出器から出力される検出張力値に基づいて張力異常を判定する制御装置とを備える。 - 特許庁

The method also provides responding to the data produced by the optical-flow algorithm to obtain at least one texturing parameter representative of the level of micro-contrasts in the picked-up scene and obtaining an approximation of the speed.例文帳に追加

また、該方法は、オプティカルフローアルゴリズムによって生成されたデータに応答して、取得されたシーン内のマイクロコントラストのレベルを表す少なくとも１つのテクスチャリングパラメーターを取得し、速度の近似値を取得する。 - 特許庁

The cleaning cloth is obtained by using yarn consisting of synthetic fiber materials subjected to texturing and yarn containing synthetic fiber materials of 0.00001 to 3.0 denier in fineness and finishing this cloth by a heat treatment.例文帳に追加

テクスチャード加工がされた合成繊維素材からなる糸と、０．００００１〜３．０デニールの細さの合成繊維素材を含む糸を用いて布帛を形成し、当該布帛に熱処理加工を施している洗浄用布帛。 - 特許庁

A false-twist texturing apparatus for the highly functional fibers is obtained by installing a twist propagation control apparatus on the downstream side of a yarn feeder and further providing a demoisturizing treatment apparatus and a twist inserting apparatus on the downstream side of the twist propagation control apparatus.例文帳に追加

給糸装置の下流側に撚伝幡抑止装置を設け、撚伝幡抑止装置の下流側に脱水分処理装置と撚挿入装置とを設けたことを特徴とする高機能繊維用仮撚加工装置。 - 特許庁

The outgoing upper half parts 21La/Ra of the outgoing parts 21L/R are finished to be a mirror surface, and the lower half parts 21Lb/Rb are made to be a diffuse reflection surface and/or diffused refraction surface by surface texturing.例文帳に追加

出射部２１Ｌ／Ｒの出射部上半部２１Ｌａ／Ｒａは鏡面のように仕上げられているが、出射部下半部２１Ｌｂ／Ｒｂは、シボ加工により乱反射面及び／又は乱屈折面に処理されている。 - 特許庁

To provide a crimped porous hollow fiber giving a soft touch feeling and good bulkiness to fabrics, and less in the collapse or breakage of the hollow parts and less in a loss of bulkiness during texturing processes or as a textile product.例文帳に追加

ソフトな風合いを有し、嵩高性が良好であり、また、繊維加工時や製品として使用した時、中空のつぶれや破断が少なく、嵩ヘタリが極めて少ない捲縮多孔中空繊維を提供する。 - 特許庁

A triangle rib cut 19 is formed on the back face of the lower guide part 12 ranging from an incidence wall 16 to the outgoing wall of a customer service face side top end, and surface texturing working 21 is carried out to the whole surface of the triangle rib cut 19.例文帳に追加

下部ガイド１２の裏面には、入射壁１６から接客面側先端の出射壁に至る範囲にわたって三角リブカット１９が形成され、その三角リブカット１９の表面全体にシボ加工２１を施している。 - 特許庁

An alignment regulation film 2 is formed on a non-metallic substrate 1 which undergoes texturing on a surface and the surface of the alignment regulation film 2 is subjected to oxidation or nitridation, and a non-magnetic undercoat film 3 and a magnetic film 4 are formed thereon.例文帳に追加

表面にテクスチャ加工を施した非金属基板１上に配向調整膜２を形成し、この配向調整膜２の表面を酸化処理または窒化処理し、その上に非磁性下地膜３および磁性膜４を形成する。 - 特許庁

To provide a fabric for polishing used in a texturing process for magnetic recording disc etc. capable of managing well with a lower Ra value and suppressing generation of scratches at the surface processed while a sufficient processing rate, uniformity of texture marks, and sharpness are held.例文帳に追加

磁気記録ディスク等のテクスチャリング加工において、低Ｒａ値化に対応でき、かつ十分な加工レートや、テクスチャー痕の均一性、シャープさを保持しつつ、加工面のスクラッチ発生を抑制できる研磨用織物を提供する。 - 特許庁

To provide an abrasive material which copes with a low Ra value in texturing processing of a magnetically recording disk etc., and can minimize scratches formed in a machined surface while maintaining a sufficient processing rate, uniform texture impressions, and good sharpness.例文帳に追加

磁気記録ディスク等のテクスチャリング加工において、低Ｒａ値化に対応でき、かつ十分な加工レートや、テクスチャー痕の均一性、シャープさを保持しつつ、加工面のスクラッチ発生を抑制できる研磨材料を提供する。 - 特許庁

To provide a base cloth for polishing capable of uniformly polishing a surface of a substrate without forming a deep groove (scratch) on the surface of the substrate by the variation of a polishing condition in precision polishing such as texturing work onto a surface of a magnetic recording medium or the like.例文帳に追加

磁気記録媒体等の表面にテクスチャー加工等の精密研磨を行う際に、研磨条件の変動で基盤表面に深い溝（スクラッチ）を生じない均一に研磨できる研磨用基布を提供すること。 - 特許庁

After a compression layer and non-compression layer are formed on a glass substrate in a polishing process step 4, the glass substrate undergoes etching treatment in an acidic solution where a hydrofluoric acid and fluoride salt are made to coexist in a texturing treatment process step 5 (first surface treatment 5a).例文帳に追加

研磨工程４でガラス基板上に圧縮層と非圧縮層を形成した後、テクスチャ処理工程５でフッ酸とフッ化物塩を共存させた酸性溶液でエッチング処理を行う（第１の表面処理５ａ）。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing semiconductor wafer for solar battery for effectively texturing the surface of a polycrystalline and a single- crystal silicon wafer using the simplified chemical etching method, in order to improve optical absorption coefficient at a low price.例文帳に追加

多結晶及び単結晶シリコンウェハの表面を，簡単な化学的エッチング方法を用いて効果的にテクスチャリングし，低価格で光吸収率の向上した太陽電池用半導体ウェハの製造方法を提供することである。 - 特許庁

The method comprises applying in a droplet fashion cold water to the surface of a thermally color-changeable fiber-textured product 2 which is obtained by densely texturing thermally color-changeable fiber being in a color-faded state in an ordinary condition but running to a color-developed state when cooled.例文帳に追加

常態では消色状態にあり、冷却により発色状態となる熱変色性繊維を密接乃至密集状に加工してなる熱変色性繊維加工体２の表面に冷水を液滴状に付着させて変色させる。 - 特許庁

In the perpendicular magnetic recording medium having at least a backing layer and a perpendicular magnetic recording film on the non-magnetic substrate, the plurality of grooves along the substrate radial direction are formed by the texturing treatment on the surface of the non-magnetic substrate.例文帳に追加

本発明は、非磁性基板上に、少なくとも裏打ち層と垂直磁気記録膜を有する垂直磁気記録媒体において、前記非磁性基板の表面にテクスチャリング処理により、基板半径方向に沿った溝が複数形成されてなる。 - 特許庁

The method for producing the polylactic acid-based false-twisted yarn comprises using a polylactic acid-based highly oriented undrawn multifilament as a feed yarn, and carrying out the draw-false twist texturing at 1.1-1.3 times draw ratio, 17,000-26,000 false twist coefficient and 80-120°C heater temperature.例文帳に追加

ポリ乳酸系高配向未延伸マルチフィラメントを供給糸として、延伸倍率１．１〜１．３倍、仮撚係数１７０００〜２６０００、かつヒータ温度８０〜１２０℃で延伸同時仮撚加工するポリ乳酸系仮撚加工糸の製造方法。 - 特許庁

To provide a separated polyester filament yarn that has good dyeability and uniform single yarn fineness, can be applicable to draw-false twist texturing and can smoothly pass through a yarn separating process to produce crimped monofilament yarn of high-quality.例文帳に追加

良好な染色性と均一な単糸繊度を具備しながら、延伸同時仮撚加工が可能であり、その後の分繊加工での工程通過性が良好で、品位の高い捲縮モノフィラメントを得ることができる分繊用ポリエステルフィラメントを提供する。 - 特許庁

To produce an aluminum alloy substrate for a magnetic recording medium good in texturing propeties and laser beam workability and simultaneously having impact resistance equal to or above that of a glass substrate using an inexpensive aluminum alloy good in workability and to provide a method for producing it.例文帳に追加

安価で加工性が良好なアルミニウム合金基板を用い、テキスチャリング性およびレーザービーム加工性が良好であると同時に、ガラス基板と同等以上の耐衝撃性を有する磁気記録媒体用アルミニウム合金基板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

The inner surface of this process kit is coated with a first material layer having a smaller RMS surface roughness and is further subjected to a texturing by arc spraying a second material layer or additional material layer.例文帳に追加

プロセスキットの内部表面は、より小さいＲＭＳ表面粗さを有する第１の材料層によりその表面をコーティングされ、より大きいＲＭＳ値を有する第２の材料層若しくは追加の材料層によりアークスプレーすることによってテクスチャード加工される。 - 特許庁

This frozen dessert contains (A) a sweetener, (B) erythritol as a texturing agent and (C) an agent for controlling the dissolution of frozen dessert which is selected from a substance or a mixture of dextrin and/or indigestible dextrin.例文帳に追加

フローズンデザートであり、甘味料及びテクスチャー化剤として、エリトリトールと、デキストリン及び不消化デキストリン、それら独自で又は互いの混合物から構成された群から選択した該フローズンデザートの溶解をコントロールするための剤とを含むことを特徴とするフローズンデザート。 - 特許庁

This timepiece is equipped with a movement having a pointer shaft, the dial wherein texturing is applied respectively to the front and the back and the pointer shaft of the movement arranged on the back side is arranged penetratingly at the center part, and a plurality of light sources arranged close to the side of the dial.例文帳に追加

指針軸を有するムーブメントと、前面及び背面にそれぞれシボ加工がなされ、その中心部において、背面側に配置したムーブメントの指針軸が貫通配置される文字板と、文字板の側面に近接配置される複数の光源と、を備える。 - 特許庁

To provide a textured silicon substrate for a magnetic recording disk having a magnetic film that can obtain magnetic anisotropy on the magnetic recording layer while securing the flying stability of the head and which can realize high density recording by controlling the surface roughness of the substrate surface by texturing.例文帳に追加

本発明は、テクスチャリングによって基板面の面粗度（ラフネス）をコントロールし、ヘッド浮上安定性を確保しつつ、磁気記録膜に磁気異方性が得られ、高記録密度が達成できる磁性膜を有する磁気ディスク用テクスチャー入りシリコン基板を提供する。 - 特許庁

To provide a release film usable for producing synthetic leather, having excellent releasability, usable as a release film even when a simple substance without using a base material composed of a synthetic resin film or the like, and further subjecting the synthetic leather to a texturing processing.例文帳に追加

合成皮革の製造に用いることが可能であり、剥離性に優れ、合成樹脂フィルム等からなる基材を用いず単体であっても剥離フィルムとして使用でき、さらには合成皮革にシボ加工を施すことができる、合成皮革製造用剥離フィルムを提供する。 - 特許庁

The polyester highly oriented undrawn filaments comprising filaments having three or more different single filament sizes within the range of 1.3-4.5 dtex, and further having flat cross sections in non-rotational symmetry shapes is subjected to false twist texturing at 50-200 m/min yarn velocity by using a peg-type false twisting device.例文帳に追加

単糸繊度が１．３〜４．５ｄｔｅｘの範囲で３種以上の異な った単糸繊度のフィラメントを含有し、かつフィラメントの断面が非回転対称形状の偏平断面であるポリエステル高配向未延伸糸を、５０〜２００ｍ／分の糸速でペグ式仮撚装置を用いて仮撚加工する。 - 特許庁

In the method, a semiconductor substrate is cleaned by a silicon etching alkali or acid solution, a surface of the cleaned semiconductor substrate is oxidized by an oxidizing composition including one or more oxidizing agent and having a pH of higher than 7, and the oxidized semiconductor substrate is textured by a texturing composition.例文帳に追加

半導体基体をケイ素エッチングアルカリもしくは酸溶液で清浄化し、清浄化された半導体基体の表面を、１種以上の酸化剤を含み、７を超えるｐＨを有する酸化性組成物で酸化し、酸化された半導体基体をテクスチャ化組成物でテクスチャ化する。 - 特許庁

In the method of texturing a substrate 1 by which the substrate 1 is textured while being rotated and discharging the abrasive slurry 6 to the substrate 1, a plurality of discharging nozzles 4 discharging the abrasive slurry 6 are disposed at a plurality of positions along the radial direction from the center of the substrate 1.例文帳に追加

基板１を回転させつつ基板１に研磨スラリー６を吐出しながらテクスチャー加工が行われる基板１のテクスチャー加工方法において、まず、基板１の中心から半径方向に沿った複数の位置に研磨スラリー６を吐出する複数の吐出口４が配置される。 - 特許庁