「a eb」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To provide a culturing container for developing an embryoid (EB), developing the EB having a high quality from an embryonic stem cell (ES cell) easily in a good efficiency, and to provide a method for producing the same and a method for developing the EB.例文帳に追加

ＥＳ細胞から、効率よく、容易に質の高いＥＢ体を形成することのできる胚様体形成用培養容器と、その製造方法、及び胚様体の形成方法を提供する。 - 特許庁

Thereafter, the method includes a step of forming a stencil pattern by transferring the pattern of the EB resist 107 to a silicon membrane 41, and removing the EB resist 107(G).例文帳に追加

その後、ＥＢレジスト１０７のパターンをシリコンメンブレン４１に転写してステンシルパターンを形成し、ＥＢレジスト１０７を除去する（Ｇ）。 - 特許庁

The method also includes a step of forming a pattern by using an EB direct writing machine on this EB resist 107 while aligning by using a mark 108(F).例文帳に追加

そして、マーク１０８を用いて位置合わせを行いながら、このＥＢレジスト１０７にＥＢ直接描画機を用いてパターンを形成する（Ｆ）。 - 特許庁

Patterns for a semiconductor device are delineated by using the EB lithography system.例文帳に追加

ＥＢ描画装置を用いて半導体装置のパターンを描画する。 - 特許庁

When the difference of between a reception Eb/IO and a reference Eb/IO becomes more than a certain large value (a), it is decided that the mobile station is at fault (step 103).例文帳に追加

受信Ｅｂ／Ｉ０と基準Ｅｂ／Ｉ０の差がある大きな値ａ以上となった場合には、その移動局は故障していると判定する（ステップ１０３）。 - 特許庁

A mask defect inspecting machine obtains EB data 3 (after SUB) corresponding to OPC pattern parts by SUB-calculating the EB data 1 before OPC from the EB data 2 after optical proximity effect correction (OPC).例文帳に追加

光学近接効果補正（ＯＰＣ）後のＥＢデータ２からＯＰＣ前のＥＢデータ１をＳＵＢ演算して、ＯＰＣパターン部分に対応するＥＢデータ（ＳＵＢ後）３を得る。 - 特許庁

To provide a compound useful for treating or preventing diseases caused by EB viruses that inhibits EBNA1 function, and application thereof.例文帳に追加

EBウイルスが起因となる疾患の治療または予防に有用な、EBNA1の機能を阻害する化合物及びその用途を提供すること。 - 特許庁

The first bare chips (10) are formed using, as a chief material, a semiconductor whose value of breakdown electric field (Eb)×coefficient of thermal conductivity (λ) is larger than that of silicon.例文帳に追加

そして、第１ベアチップ（10）は、絶縁破壊電界（Eb）×熱伝導率（λ）の値が、シリコンよりも大きな半導体を主材料として形成する。 - 特許庁

An enable circuit 121 generates an enable signal EB on the basis of the 16th bit A15 of an address bus 140 and a signal value of a read-out control signal line 150.例文帳に追加

イネーブル回路１２１は、アドレスバス１４０の第１６ビットＡ15と、読出制御信号線１５０の信号値とから、イネーブル信号EBを生成する。 - 特許庁

The electron gun 2 has a filament 7 for emitting an electron beam EB.例文帳に追加

電子銃２は、電子線ＥＢを出射するフィラメント７を有する。 - 特許庁

Since an Eb/N0 measuring instrument 206 measures Eb/N0 by using demodulation data synthesized by a synthesis part 204, more accurate Eb/N0 measurement can be performed even in a deteriorated receiving environment.例文帳に追加

Ｅｂ／Ｎ０測定器２０６は、合成部２０４により合成された後の復調データを用いてＥｂ／Ｎ０測定を行うので、劣化した受信環境下においても、より精度の高いＥｂ／Ｎ０測定が可能となる。 - 特許庁

The ratio (Ea/Eb) of a longitudinal directional Young's modulus Ea of the base paper to a lateral directional Young's modulus Eb is desirably set to 1.5 to 2.0 to improve traveling performance further.例文帳に追加

また、原紙の縦方向ヤング率（Ｅ_a ）と横方向ヤング率（Ｅ_b ）の比（Ｅ_a ／Ｅ_b ）が１．５〜２．０であることが走行性をより向上させるのに好ましい。 - 特許庁

For example, an EB resist 5 is applied on the substrate 3 made of quartz glass (a).例文帳に追加

例えば、石英ガラス製の基板３上にＥＢレジスト５を塗布する（ａ）。 - 特許庁

Je: well, that might change a couple things. thank you. (eb: thank you.)例文帳に追加

JE: それは色々変化をもたらすかもしれませんね ありがとうございました - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書

A first MOS transistor F1 supplies power to the motor M from a power supply EB.例文帳に追加

第１のＭＯＳトランジスタＦ１は、モータＭに電源ＥＢから電力を供給する。 - 特許庁

In a stage where processing at a high-voltage side electrode sufficiently is performed, the input side of a high-voltage relay S is connected to a third grid, and the output side thereof is connected to the grounding side of a constant voltage power source Eb.例文帳に追加

高圧側電極の処理が十分に為された段階で、第３グリッドに高圧リレーS の入力側を接続し、出力側を定電圧電源Ebの接地側に接続する。 - 特許庁

Then, it moves toward the enemy character Eb, moves until the enemy character Eb is positioned inside a provocation possible range PAa, and then exercises "provocation".例文帳に追加

そして、この敵キャラクタＥｂに向かって移動し、敵キャラクタＥｂが挑発可能範囲ＰＡａ内に位置するまで移動した後、「挑発」を発動する。 - 特許庁

A round base plate 11 having a resist for electron beam lithography is rotated in the X direction, then an electron beam EB scans it radially (Y direction) from Y1 to Y2.例文帳に追加

電子ビーム描画用レジスト12を有する円形基板11をＸ方向に回転させながら、電子ビームEBを基板径方向（Ｙ方向）にＹ1からＹ2まで走査させる。 - 特許庁

To enable a first pattern formed on a resist film through a first EB projection exposure to register more precisely with a second pattern formed on the resist film through a second EB projection exposure.例文帳に追加

第１回目のＥＢプロジェクション露光によりレジスト膜に形成される第１のパターンと、第２回目のＥＢプロジェクション露光によりレジスト膜に形成される第２のパターンとの間の位置ずれを低減する。 - 特許庁

Patterns are delineated on a semiconductor device or on a mask for photolithography by using an EB lithography system.例文帳に追加

ＥＢ描画装置を用いて半導体装置や写真製版用マスクにパターンを描画する。 - 特許庁

In the case that the likelihood is a threshold value A or below, a reference Eb/I0 is increasingly updated immediately (step 105).例文帳に追加

ゆう度がしきい値Ａ以下の場合、すぐに基準Ｅｂ／Ｉ０を上げるように更新する（ステップ１０５）。 - 特許庁

A tenth grid G8 and a convergence cup C are connected to each other, and supplied with a plate voltage Eb.例文帳に追加

第１０グリッドＧ８及びコンバーゼンスカップＣは、接続され、陽極電圧Ｅｂが供給されている。 - 特許庁

A TVG-processing unit 41 TVG-processes a receiving signal EB(t), and generates a receiving signal EBc(t).例文帳に追加

ＴＶＧ処理部４１は、受信信号ＥＢ（ｔ）をＴＶＧ処理し、受信信号ＥＢｃ（ｔ）を生成する。 - 特許庁

The computer 9 determines a motor constant Km according to an operation Eb=KmRmv0 (Rm: motor resistance).例文帳に追加

コンピュータ９は、Ｅ_b＝Ｋ_mＲ_mｖ_0 （Ｒ_m：モータ抵抗）を演算してモータ定数（Ｋ_m）を求める。 - 特許庁

To consistently secure stable cleaning property in a drum (EB) whose wear rate is low.例文帳に追加

磨耗レートが低いドラム（ＥＢ）に対して、終始にわたり安定したクリーニング性を確保する。 - 特許庁

As the energy beam EB, for example, a laser beam or an ultraviolet ray is used preferably.例文帳に追加

エネルギービームＥＢとしては、例えば、レーザ光または紫外線を用いることが好ましい。 - 特許庁

When a desired entry word is selected from the entry word list areas Ea and Eb, explanatory information (Ec) corresponding to the selected entry word is read from the dictionary and displayed on full screen.例文帳に追加

各見出し語一覧エリアEa,Ebから所望の見出し語が選択されると、選択見出し語に対応した説明情報(Ec)が辞書から読み出されて全画面表示される。 - 特許庁

The drive mechanism 50 for retreating an end bow member EB is arranged on the eng bow member EB without seeking the setting space of the drive mechanism 50 on a body 12 side.例文帳に追加

エンドボー部材ＥＢを退避するための駆動機構５０を、エンドボー部材ＥＢに配設し、駆動機構５０の設置スペースを車体１２側に求めないようにした。 - 特許庁

The peripheral edge of the EB exposure reticle of the same shape with a SEMI standard wafer is supported at the three points from both above and below, so that the EB exposure reticle can be stably held.例文帳に追加

ＳＥＭＩ規格ウェハと同形状のＥＢ露光用レチクルの外周縁を３ヶ所で上下方向から支持することにより、同レチクルを安定に保持できる。 - 特許庁

A group of registers 123 write the signal values of the 1st bit A0 the 8th bit A7 of the address bus 140 to the resistor corresponding to the address when the enable signal EB is 'effective'.例文帳に追加

レジスタ群１２３は、イネーブル信号EBが‘有効’のときに、アドレスバス１４０の第１ビットＡ0 〜第８ビットＡ7 の信号値を、上記アドレスに対応するレジスタに書き込む。 - 特許庁

This displacement measuring device 1 includes: an irradiation part 5 for emitting a beam B; an optical path length changing part 6 for emitting a first beam B1 by allowing transmission of a part of the beam B, and emitting an elongated beam EB by separating another part of the beam B; and a displacement detection part 7 for detecting displacement of a ceiling 3 by receiving the first beam B1 and the elongated beam EB.例文帳に追加

変位計測装置１は、光線Ｂを出射する照射部５と、前記光線Ｂの一部を透過し第１光線B1を出射すると共に前記光線Ｂの他の一部を分離して延長光EBを出射する光路長変更部６と、前記第１光線B1及び前記延長光EBを受光して天井３の変位を検出する変位検出部７とを備える。 - 特許庁

To provide a serial receiving apparatus which can temporarily halt code readout from an EB and also can have a RD check functioning correctly even when code readout from the EB is halted.例文帳に追加

ＥＢからのコードの読み出しを一時的に止めることができ、かつＥＢからのコードの読み出しを止めてもＲＤチェックが正しく機能するシリアル受信装置を提供する。 - 特許庁

The breakdown voltage processing at a low voltage side electrode is performed by setting the constant voltage power source Eb to 30-50 KV and by turning on and off the high-voltage relay S that is a change-over switching element.例文帳に追加

定電圧電源Ebを３０ＫＶ〜５０ＫＶに設定して切り替えスイッチング素子である高圧リレーS のオン・オフを行なうことによって低圧側電極の耐電圧処理を行なう。 - 特許庁

Electron beam (EB) cross-linking olefin-based resin and a thermally conductive resin composition are compression molded and then cross-linked by EB irradiation to produce a heat dissipation sheet.例文帳に追加

電子線（ＥＢ）架橋型オレフィン系樹脂と、熱伝導性フィラーとを含む熱伝導性樹脂組成物が、圧縮成形され、ＥＢ照射により架橋されてなる放熱シートである。 - 特許庁

A coating pattern is printed on a substrate with the coating material and is cured by using an electron beam ('EB') processing.例文帳に追加

基体に被覆材で被覆模様を印刷し、そして電子ビーム（“ＥＢ”）加工処理を使用して硬化させる。 - 特許庁

Thus, a variation of a low voltage side output voltage VOL of the external output signal EB is suppressed.例文帳に追加

これにより、外部出力信号ＥＢの低電圧側出力電圧ＶＯＬのばらつきを抑制する。 - 特許庁

Then, the method also includes a step of then coating an EB resist 107 on a surface of the side of a recess 46 between the struts by a resist spray coating unit (E).例文帳に追加

その次に、ストラット間凹部４６の側の面にＥＢレジスト１０７を、レジスト噴霧塗布装置により塗布する（Ｅ）。 - 特許庁

It obtains a reference image 2' corresponding to the optical proximity effect correction mask and a reference image 3' corresponding to the OPC pattern after converting a format of the EB data 2 (after OPC) and the EB data 3 (after SUB).例文帳に追加

ＥＢデータ（ＯＰＣ後）２とＥＢデータ（ＳＵＢ後）３のフォーマット変換を行った後、光学近接効果補正マスクに対応する参照画像２’と、ＯＰＣパターンに対応する参照画像３’を得る。 - 特許庁

A first storage part 721 stores the tokens M dropped from an ineffective end EB of the field F.例文帳に追加

第１貯留部７２１は、フィールドＦの無効端ＥBから落下したメダルＭを貯留する。 - 特許庁

A fine resist aperture pattern is formed of single layer EB resist on a semiconductor substrate, a first metal thin film is formed on the entire surface, and second resist is applied to form an aperture pattern at the umbrella part of a T-type gate.例文帳に追加

半導体基板に単層EBレジストにより微細なレジスト開口パターンを形成し、全面に第１の金属薄膜を形成し、更に第２のレジストを塗布し、Ｔ型ゲートの傘の部分の開口パターンを形成。 - 特許庁

A respiratory gas conditioning system 100 includes an inhale branch (IB), an exhale branch (EB), a low-dead-space heat and moisture exchanger (HME) 50, and a connector 70 for connecting the branches (IB and EB) to a patient (PZ).例文帳に追加

呼吸ガスコンディショニングシステム（１００）には、吸気枝管（ＩＢ）、呼気枝管（ＥＢ）、低デッドスペース熱湿度交換器（ＨＭＥ）（５０）、および枝管（ＩＢ、ＥＢ）を患者（ＰＺ）に接続するためのコネクター（７０）が含まれる。 - 特許庁

A deflection part 13 deflecting the electron beam EB is arranged in a beam formation electrode 12 accelerating an electron emitted from the filament 11 and forming an electric field generating the electron beam EB so that the electron beam EB is protruded on the emission side beyond an opening part.例文帳に追加

フィラメント１１より放出された電子を加速して電子ビームＥＢを生成する電界を形成するためのビーム形成電極１２に、その開口部よりも電子ビームＥＢが射出する側に突出するように、電子ビームＥＢを偏向するデフレクション部１３を設ける。 - 特許庁

To provide an EB (electron beam) transfer mask which can be easily manufactured and which can suppress deterioration in the accuracy of drawing a pattern due to the spatial charge effect, resist heating or the like caused during the EB transfer in the process of forming an EB transfer mask data composed of complementary masks.例文帳に追加

コンプリメンタリーマスクで構成されるＥＢ（電子線）転写マスクデータの作成において、ＥＢ転写の際における空間電荷効果やレジストヒーティング等に起因する描画精度劣化を抑制し、かつ容易に製造可能なＥＢ転写マスクを提供する。 - 特許庁

To provide an EB-PVD (Electron-Beam Physical Vapor Deposition) apparatus equipped with an independent system designed to monitor and maintain a constant relative level of the molten pool within the EB-PVD chamber.例文帳に追加

ＥＢ−ＰＶＤチャンバ内部の溶融プールの一定の相対液面を監視して維持するように設計された、独立したシステムを備えるＥＢ−ＰＶＤ装置を提供する。 - 特許庁

In a lithographic operation, generally various adjustment/ correction operations are performed for the EB lithographic system 5, and then the EB lithographic data (pattern) stored in the pattern memory 8 are drawn.例文帳に追加

描画に際しては、一般的には、ＥＢ描画装置５の各種の調整・較正作業を実施した後に、パターンメモリ８に格納されているＥＢ描画データ（パターン）を描画する。 - 特許庁