| 意味 | 例文 |
active elementの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2766件
In a monitoring device to paper feeding, a probe element is formed of one active spring formed of the complex of one or a plurality of piezoelectric actuators in case, or itself is formed of one active spring.例文帳に追加
給紙に対する監視装置においては、プローブ要素が、場合によっては1つまたは複数の圧電アクチュエータの複合体から形成された1つの能動バネによって形成され、あるいはそれ自体が1つの能動バネから形成される。 - 特許庁
A recess 2A is formed on one side of a region positioned at both sides of a gate electrode 4ab among grooved element separating regions 2 formed between a first active region R10 and a second active region R20.例文帳に追加
第1の活性領域R10と第2の活性領域R20との間に形成されている溝型素子分離領域2のうち、ゲート電極4abの両側に位置する領域の一方側に凹部2Aが形成されている。 - 特許庁
Sidewalls 28 are formed on side faces of active regions 16 each having a Fin shape, and thereafter a substrate region 40 surrounded by element separation grooves 29, and large in widths in a channel longitudinal direction and a channel width direction relative to the active region 16 is formed.例文帳に追加
Fin形状の活性領域16の側面に側壁28を形成した後、素子分離溝29に囲まれ、活性領域16よりチャネル長方向およびチャネル幅方向の幅が広い基板領域40を形成する。 - 特許庁
A load impedance ZL in a measuring system is converted into the output impedance Z_0 of the active element 11 by using a transformer or the like, and the load characteristic is measured by reducing a necessary reflected wave power by an active load-pull measuring method.例文帳に追加
そして、測定系の負荷インピーダンスZLを、トランスフォーマ等を使用して能動素子11の出力インピーダンスZoに変換し、アクティブロードプル測定方法により必要反射波電力を低減して負荷特性を測定する。 - 特許庁
The gate electrode 9a is composed of an H-shaped plane pattern as a whole, whose gate length in the border region of the active region L and element isolation groove 2 is larger than that in the center section of the active region L.例文帳に追加
このゲート電極9aは、アクティブ領域Lと素子分離溝2との境界領域におけるゲート長がアクティブ領域Lの中央部におけるゲート長よりも大きく、全体としてH形の平面パターンで構成されている。 - 特許庁
In the unit power generation element 31, a bipolar electrodes 21 having a positive electrode active material layer 23 formed on one side of a collector 22 and a negative electrode active material layer 24 formed on the other side are laminated through an electrolyte layer 25.例文帳に追加
単位発電要素31は、集電体22の一方の面に正極活物質層23が形成され、他方の面に負極活物質層24が形成される双極型電極21が電解質層25を介して積層されてなる。 - 特許庁
An anode 10 includes an anode active material layer 102 in which a first layer 1 and a second layer 2 respectively containing silicon and a metal element as anode active materials are alternately layered on an anode current collector 101.例文帳に追加
負極10は、負極集電体101上に、珪素および金属元素を負極活物質として各々含有する第1および第2の層1,2が交互に積層されてなる負極活物質層102を有する。 - 特許庁
To provide a high-quality active layer and interface of the active layer by making highly controllable crystal growth possible, and by suppressing liberation of In as much as possible in the manufacturing process of a compound semiconductor light emitting element.例文帳に追加
化合物半導体発光素子の製造工程においてInの遊離を極力抑え、制御性に優れた結晶成長を可能とし、良質の活性層および活性層の界面を提供することを目的とする。 - 特許庁
The memory element 101 includes a first active region 105 on a substrate 100, and first and second source/drain regions 150, 152 positioned on the substrate adjacent to the first and second sidewalls of the first active region 105.例文帳に追加
メモリ素子101は、基板100上に第1アクティブ領域105と、第1アクティブ領域105の第1及び第2側壁にそれぞれ隣接する基板上に位置する第1及び第2ソース/ドレイン領域150、152を含む。 - 特許庁
To provide an organic thin film transistor formed with a high accuracy source/drain electrode pattern of several μms and an active matrix display device using the organic thin film transistor as an active element.例文帳に追加
インクジェット印刷あるいはディスペンサ印刷を用いた数μmの高精細なソース・ドレイン電極パターンが形成された有機薄膜トランジスタ及び有機薄膜トランジスタをアクティブ素子として用いるアクティブマトリックス表示装置を提供する。 - 特許庁
In this semiconductor laser element, an active layer area I of layer structure including an active layer and a waveguide layer area II butt- joined therewith are formed on a semiconductor substrate, and the butted joint surface J is a vertical surface inclined at 45 degrees to the crystal azimuth (011) of a conductor material comprising at least the active layer in the active layer area I.例文帳に追加
活性層を含む層構造の活性層領域Iとそれにバットジョイント接合する導波路層領域IIとが半導体基板の上に形成されており、バットジョイント接合面Jは、活性層領域Iにおける少なくとも活性層を構成する半導体材料の結晶方位[011]に対して45°の角度で傾斜する垂直面である半導体レーザ素子。 - 特許庁
The semiconductor element comprises second nitride semiconductor layers 31 containing no In between an active layer 12 and an n-type clad layer 25 and between a p-type clad layer 30 and the active layer 12 and first In-containing nitride semiconductor layers 32 between the first nitride semiconductor layers and the active layer, and the active layer composed of quantum wells has two well layers.例文帳に追加
n型クラッド層25、p型クラッド層30と活性層12との間に、Inを含まない窒化物半導体からなる第2の窒化物半導体層31、さらに第1の窒化物半導体層と活性層との間にInを含む窒化物半導体からなる第1の窒化物半導体層32とをそれぞれ有し、さらに量子井戸からなる活性層の井戸層数を2とする。 - 特許庁
In the active driving type organic EL display provided with an organic EL element and a TFT, between the lower electrode of the organic EL element and the TFT, there is arranged an electrical connecting member composed of amorphous electric conductive oxide.例文帳に追加
有機EL素子と、TFTと、を具備したアクティブ駆動型有機EL表示装置において、有機EL素子の下部電極と、TFTとの間に、非結晶性導電酸化物からなる電気接続部材を設ける。 - 特許庁
The device includes a protective element 3 extending all over the active surface of the image plate 2, wherein the protective element 3 extends at least partly over the rear surface of the image plate.例文帳に追加
この装置は、前記画像板2の活性化表面の全てにわたって延在する保護要素3を含み、この保護要素3は、さらに前記画像板の前記裏面にわたって少なくとも部分的に延在している。 - 特許庁
The closed assembly moves between two conditions: one in which the blank closing element 26 is loaded on the furnace opening, and another in which the active closing element 32 is located on the furnace opening which includes the crucible and the mold.例文帳に追加
閉鎖組立体は、ブランク要素26が炉開口に装填状態と能動閉鎖要素32が炉においてるつぼ及び鋳型を有する炉開口にある作動状態とである2つの状態間において動く。 - 特許庁
A mesh-shaped wiring pattern 3 connected to a DC potential (GND potential, for example), is formed on an active element area (such as transistor) and a passive element area (such as resistor or capacitor) on a semiconductor wafer.例文帳に追加
半導体基板の上の能動素子領域1(トランジスタなど)と受動素子領域2(抵抗、コンデンサなど)の上に、DC電位(例えばGND電位)に接続された網目状の配線パターン3を形成する。 - 特許庁
In the active driving type organic EL display device having an organic EL element and a TFT, an electric connecting member consisting of a noncrystalline conductive oxide is disposed between the lower electrode of the organic EL element and the TFT.例文帳に追加
有機EL素子と、TFTと、を具備したアクティブ駆動型有機EL表示装置において、有機EL素子の下部電極と、TFTとの間に、非結晶性導電酸化物からなる電気接続部材を設ける。 - 特許庁
To provide a transparent composite sheet that has high surface smoothness, low linear expansion coefficient and excellent transparency and can be used as an optical sheet, a plastic substrate for display element and a substrate for active matrix display element.例文帳に追加
高い表面平滑性を有し、低線膨張係数で透明性に優れた、光学シート、表示素子用プラスチック基板又はアクティブマトリックス表示素子用基板として好適に利用できる透明複合シートを提供する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a semiconductor light-emitting element which can improve a strength of the obtained element with preventing adhesion of a foreign material to an end of an active layer when removing a growth substrate by the LLO method.例文帳に追加
成長基板をLLO法によって除去する際に、異物の活性層端部への付着を防止しつつ、得られた素子の強度の向上ができる半導体発光素子の製造方法を提供する。 - 特許庁
The support further has a protruding element arranged on a metallization level of the interconnection level, thereby making it possible to produce an electrical contact between the interconnection level and the active element of the acoustic resonator.例文帳に追加
該支持部は相互接続平面部の金属被覆平面部の上方に配置された突起素子を更に備え、これにより、相互接続平面部と音響共振器の能動素子との間に電気的接触が形成される。 - 特許庁
Each of the mooring devices 100A, 100B comprises an active means for use in moving the installing element 1 within a vertical plane and a horizontal plane, wherein this method includes a step for re-positioning the installing element 1 in a stepwise manner.例文帳に追加
各係留装置100A,100Bは、垂直にかつ水平面内で装着要素1を動かす能動的手段を備えており、この方法は、装着要素1を段階的に再位置決めすることを含む。 - 特許庁
Since the display element attains compatibility between high contrast ratio and high voltage retention, an information display which can be driven by an active element such as TFT and has excellent display quality can be produced.例文帳に追加
本願発明の表示素子は、高いコントラスト比と電圧保持率を両立できるので、TFTなどのアクティブ素子で駆動することが可能であり、優れた表示品位を有する情報ディスプレイを実現することができる。 - 特許庁
To provide a novel ferrocene-containing conductive polymer able to enhance action characteristics when used as a material of the organic active layer of an organic memory element, the organic memory element and a method for producing the same.例文帳に追加
有機メモリ素子の有機活性層の素材として使用するときに動作特性を向上させることが可能な新規のフェロセン含有伝導性高分子、これを用いる有機メモリ素子およびその製造方法の提供。 - 特許庁
In the laser element portion 10A and the LED element portion 10B, a semiconductor layer containing an active layer 113, a p-side electrode 117 and an n-side electrode 118 are continuously provided to be on a common layer.例文帳に追加
レーザ素子部10AおよびLED素子部10Bにおいて、活性層113を含む半導体層と、p側電極117およびn側電極118とが、互いに共通の層として連続的に設けられている。 - 特許庁
This is the method of manufacturing the lithium iron phosphate-contained positive electrode active material which is made by calcining a mixture containing a metallic element compound containing iron element, a phosphoric acid compound containing an organic phosphoric acid compound, and a lithium compound.例文帳に追加
鉄元素を含む金属元素化合物と、有機リン酸化合物を含むリン酸化合物と、リチウム化合物と、を含む混合物を焼成してなるリン酸鉄リチウム含有正極活物質の製造方法。 - 特許庁
Thus, the negative electrode active material for a nonaqueous electrolyte secondary battery which contains the element M capable of forming the intermetallic compound with lithium and has a moisture amount of 0.04 molecule or less per one atom of the above element M.例文帳に追加
こうして、リチウムと金属間化合物を形成可能な元素Mを含み、水分量が上記元素Mの1原子あたり0.04分子以下である非水電解質二次電池用負極活物質を得る。 - 特許庁
To provide an image display panel that is applied to an active matrix type image display device using a self light-emitting element, for example, such as an organic EL element so as to reduce restrictions on casing design compared with the conventional one and prevent deterioration in image quality.例文帳に追加
本発明は、例えば有機EL素子等の自発光素子を使用したアクティブマトリックス型の画像表示装置に適用して、従来に比して筺体設計の制約を低減し、画質の劣化を防止する。 - 特許庁
To provide an electrode metal foil of electric double-layer accumulating element which can increase a contact area for active substance without deteriorating the strength thereof and can reduce the internal resistance of the electric double-layer accumulating element without deteriorating its quality.例文帳に追加
活物質との接触面積を、強度を低下させずに増加させ、品質低下なく電気二重層蓄電素子の内部抵抗を減少させ得る電気二重層蓄電素子の電極用金属箔を提供する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a semiconductor memory element capable of securing misalignment margin in contact hole formation in an active area even on a high integrated memory element and decreasing junction capacitance and leak current.例文帳に追加
高集積メモリ素子でも活性領域におけるコンタクトホール形成時のミスアラインマージンを確保でき、かつ接合キャパシタンス及び漏れ電流を減少させることができる半導体メモリ素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a composite sheet which is inexpensive, reduced in the coefficient of linear expansion, has good surface smoothness and can be suitably utilized as an optical sheet, a plastic substrate for a display element or a substrate for an active matrix display element.例文帳に追加
安価で線膨張係数が小さく、表面平滑性が良好な、光学シート、表示素子用プラスチック基板又はアクティブマトリックス表示素子用基板として好適に利用できる複合シートを提供する。 - 特許庁
To prevent dielectric breakdown of a thin film transistor of an active matrix type liquid crystal display element which has an anodic oxide film formed on the surface of a scanning line, etc., and to make the size of the element itself small.例文帳に追加
走査ライン等の表面に陽極酸化膜が形成されたアクティブマトリクス型の液晶表示素子において、薄膜トランジスタの静電気に起因する絶縁破壊等を防止できる上、素子自体のサイズを小さくする。 - 特許庁
An element isolating region 2 and a well layer 3 are formed on a silicon substrate 1, and then a silicon layer 6 of low-impurity concentration is deposited on a region including the element isolating region 2 and an active region 5 through a CVD method.例文帳に追加
シリコン基板1に素子分離領域2及びウェル層3を形成した後、素子分離領域2及びアクティブ領域4を含む領域にCVD法を用いて低不純物濃度のシリコン層6を堆積させる。 - 特許庁
In an active matrix type EL display device, an EL element is sealed with a sealing material and a frame material, and an upper electrode of the EL element and a flexible printed circuit (FPC) are electrically connected to each other through a connection wire.例文帳に追加
アクティブマトリクス型のEL表示装置において、EL素子はシール材とフレーム材により封止されており、EL素子の上部電極とフレキブルプリントサーキット(FPC)とは接続配線により電気的に接続される。 - 特許庁
The semiconductor element comprises: the recessed channel region formed in a semiconductor substrate while containing the vertical type SOI channel structure which is formed in an active region and the element isolation structure defining the active region and is positioned at the side walls of the element isolation structure on both the sides in the longitudinal direction of the gate region; and a gate structure formed at the upper part of the recessed channel region of the gate region.例文帳に追加
半導体基板内に形成され、活性領域を画成する素子分離構造と活性領域内に形成され、ゲート領域の長手方向で両側の素子分離構造の側壁に位置した垂直型SOIチャンネル構造を含むリセスチャンネル領域と、ゲート領域のリセスチャンネル領域の上部に形成されるゲート構造物を含む半導体素子及びその製造方法。 - 特許庁
To expose respective gate electrode formation films and gate wiring formation films formed on an active region and an element separation region with high accuracy, without being affected by the level difference between the active region and the element separation region, in a method for manufacturing a semiconductor device having a full-silicified gate electrode.例文帳に追加
フルシリサイド化されたゲート電極を有する半導体装置の製造方法において、活性領域と素子分離領域との段差による影響を受けることなく、活性領域上と素子分離領域上とに形成されたそれぞれのゲート電極形成膜及びゲート配線形成膜の露出を精度良う。 - 特許庁
At least one end of an active element-doped polycrystalline transparent ceramic part 2 is connected to a polycrystalline transparent ceramic part 1 not containing the active element, and optically polished both end faces of connected composite laser medium are covered with dielectric multilayer films 6 and 7 for minimizing reflection losses on surfaces.例文帳に追加
活性元素をドープした多結晶質透明セラミック部分2の少なくとも一つの端部が、活性元素を含まない多結晶質透明セラミック部分1と接合され、この結合された複合レーザ媒質の光学研摩された両端面は、表面の反射ロスを極小化するための誘電体多層膜6、7で被覆される。 - 特許庁
Further, by making active timing of the plurality of signals periodical and making an active period width fixed, it is possible to simplify a configuration of a peripheral circuit such as a power circuit and a signal generation circuit, and further prevent long-term direct current application to an electrooptical element, and extend a life of the electrooptic element.例文帳に追加
さらに複数の信号のアクティブタイミングを定期的であるとともにアクティブ期間幅を一定とすることによって、電源回路、信号生成回路等の周辺回路構成を簡素化が実現でき、さらには電気光学素子への長期的な直流印加を防止し、電気光学素子の寿命を延ばすことができる。 - 特許庁
A semiconductor element having a multi-channel includes a semiconductor substrate on which an element isolation film is formed, many trenches formed in an active region of the semiconductor substrate, and a channel active region that links sidewalls facing each other in the trench regions and the surface of which is used as a channel region.例文帳に追加
本発明は、素子分離膜が形成された半導体基板、半導体基板の活性領域内に形成された多数のトレンチ及びそれぞれのトレンチ領域内の対向する側壁を連結し、表面がチャネル領域として用いられるチャネル活性領域を含む多重チャネルを有する半導体素子からなる。 - 特許庁
In a method for manufacturing a liquid crystal display device of a color filter on array type, a color filter film 11 is formed on a TFT array substrate 9 on which the switching active element 5 for driving a pixel electrode is formed and before the color filter film 11 is formed, a protective film 3 is formed on the switching active element 5.例文帳に追加
画素電極を駆動するためのスイッチング能動素子5が形成されたTFTアレイ基板9上に、カラーフィルタ膜11を形成するカラーフィルタオンアレイ型液晶表示装置の製造方法であって、カラーフィルタ膜11を形成する前に、スイッチング能動素子5上に保護膜3を形成する。 - 特許庁
This invention also includes a 1st active element T3 that is placed between a bias terminal of the 1st TR T1 and a transmission terminal of the 2nd TR T2 and a 2nd active element T4 that is placed between a bias terminal of the 2nd TR T2 and a transmission terminal of the 1st TR T1.例文帳に追加
本発明によれば、このような回路はさらに、第一のトランジスタT1及び第二のトランジスタT2のそれぞれのバイアス及び伝達端子間に配置された第一の能動素子T3と、第二のトランジスタT2及び第一のトランジスタT1のそれぞれのバイアス及び伝達端子間に配置された第二の能動素子T4とを含む。 - 特許庁
The semiconductor element includes an active region including source/drain and a gate, and an element isolation region defining the active region, wherein the gate is formed by a part of a fin gate, the source/drain is an epitaxial layer between gates abutting a seed layer, and the line width of the source/drain in the longitudinal direction of the gate is wider than that of the gate.例文帳に追加
半導体素子は、ソース/ドレインとゲートを含む活性領域と、活性領域を画成する素子分離領域とを含むものの、ゲートはフィンゲートの一部で形成され、ソース/ドレインはシード層に隣接したゲートの間に形成されたエピタキシャル層であり、ゲートの長手方向でソース/ドレイン線幅はゲート線幅より大きい。 - 特許庁
If a light transmissive part 32 and a light reflection part 34 of the light composite element 30 is in the form of a fine strip along a laminated direction of the semiconductor arrays 12 and 22, the light flux emitted from active layers 14 and 24 is suitably received with the light composite element 30 even when the active layers 14 and 24 are deviated.例文帳に追加
合光素子30の光透過部32および光反射部34が半導体レーザアレイ12、22の積層方向に沿って細長い帯状であれば、活性層14、24が位置ズレを有していても、活性層14、24から出射した光束が合光素子30によって適切に受光される。 - 特許庁
The light emitting element includes a conductive support member, a second conductivity type semiconductor layer formed on the conductive support member, an active layer formed on the second conductivity type semiconductor layer, a first conductivity type semiconductor layer formed on the active layer, and a protection element formed on the first conductivity type semiconductor layer.例文帳に追加
本発明に従う発光素子は、伝導性支持部材と、上記伝導性支持部材の上に第2導電型半導体層と、上記第2導電型半導体層の上に活性層と、上記活性層の上に第1導電型半導体層と、上記第1導電型半導体層の上に保護素子と、を含む。 - 特許庁
The semiconductor device includes an active region (103) formed on semiconductor substrates, a trench-shaped element isolation region (104) formed on the semiconductor substrates (101, 102), and a fluorine diffusing region (116) formed on the semiconductor substrates to surround the element isolation region keeping separation from the active region.例文帳に追加
半導体素子は、半導体基板に形成された活性領域(103)と、前記半導体基板(101、102)に形成されたトレンチ型の素子分離領域(104)と、前記素子分離領域を囲み、且つ、前記活性領域に接触しないように前記半導体基板に形成されたフッ素拡散領域(116)とを有する。 - 特許庁
To provide a liquid crystal composition that has a high refractive index anisotropy and a low threshold voltage, and is improved in burn-in phenomenon when used for constructing an active matrix-driven cholesteric liquid crystal display element, and to also provide an active matrix-driven cholesteric liquid crystal display element improved in burn-in phenomenon and excellent in display quality.例文帳に追加
高い屈折率異方性及び低い閾値電圧を有し、アクティブマトリクス駆動コレステリック液晶表示素子を構成した場合における焼き付き現象を改善した液晶組成物を提供し、併せて焼き付き現象が改善された表示品位が優れたアクティブマトリクス駆動コレステリック液晶表示素子を提供する。 - 特許庁
The voltage detecting circuit for comparing a voltage to be detected with a reference voltage and outputting a signal, based on the result of comparison, includes an inverting amplifier circuit including an active element having a control terminal, a threshold voltage of which is no larger than the reference voltage, and the voltage to be detected is applied to the control terminal of the active element.例文帳に追加
検出すべき電圧を基準電圧と比較し、比較結果に基づいた信号を出力する電圧検出回路であって、制御端子のしきい値電圧が基準電圧以下である能動素子を含んだ反転増幅回路を含み、検出すべき電圧を能動素子の制御端子に入力するようにした。 - 特許庁
In the nonaqueous lithium ion secondary battery, a positive electrode including, as positive electrode active material, a lithium compound containing a metal element of Fe or Mn as a constituting element, and a negative electrode including, as a negative electrode active material, a carbon material capable of storing/releasing lithium ions are separately disposed within nonaqueous electrolyte.例文帳に追加
本発明の非水系リチウムイオン二次電池は、構成元素に金属元素としてFe又はMnを含むリチウム化合物を正極活物質とする正極と、リチウムイオンを吸蔵・放出可能な炭素材料を負極活物質とする負極とを、非水電解液内で分離して配置したものである。 - 特許庁
This preamplifier 40 comprises an active element 42, a base 54 for the active element 42 connected with an input terminal 44 of the preamplifier 40 via an input protection circuit 60, an emitter 58 connected with a ground terminal 48 via an emitter resistance R_E, and a collector 56 connected with a power terminal 50 via a collector resistance R_L.例文帳に追加
プリアンプ40は、能動素子42を含み、能動素子42のベース54は、プリアンプ40の入力端子44に入力保護回路60を介して接続され、エミッタ58はエミッタ抵抗R_Eを介して接地端子48に接続され、コレクタ56はコレクタ抵抗R_Lを介して電源端子50に接続される。 - 特許庁
The MIS transistor comprises an active area 10a surrounded by an element separation area 11 on a semiconductor substrate 10, a gate insulating film 16a formed on the active area and the element separation area and having a high dielectric constant film 15a, and a gate electrode 19a formed on the gate insulating film.例文帳に追加
MISトランジスタは、半導体基板10における素子分離領域11に囲まれた活性領域10aと、活性領域及び素子分離領域上に形成され、高誘電率膜15aを有するゲート絶縁膜16aと、ゲート絶縁膜上に形成されたゲート電極19aとを備えている。 - 特許庁
A power feeding line 13 for anode oxidation extending in the row direction out of power feeding lines 13 for anode oxidation of a lattice shape is provided in the upper edge part of an active element substrate forming region 3, and a power feeding line 13 for anode oxidation extending in the column direction is provided in the left edge part of the active element substrate forming region 3.例文帳に追加
格子状の陽極酸化用給電ライン13のうち行方向に延びる陽極酸化用給電ライン13は、アクティブ素子基板形成領域3の上辺部に設けられ、列方向に延びる陽極酸化用給電ライン13は、アクティブ素子基板形成領域3の左辺部に設けられている。 - 特許庁
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