「clearance process」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

In the curing process of the resin 6, the volume of the resin 6 and the clearance S between the chip 1 and film 2 are reduced.例文帳に追加

ポッティング樹脂６のキュアの工程で、その体積は縮小し、間隙Ｓも縮小される。 - 特許庁

In a self servo write process, the clearance of each head slider is measured in an initial process before write of a product servo pattern is started.例文帳に追加

本発明の一実施形態のセルフ・サーボ・ライト処理は、プロダクト・サーボ・パターンの書き込みを開始する前の初期処理において、各ヘッド・スライダのクリアランス測定を行う。 - 特許庁

A clearance between a tube support 5 and a flange 2c of a process tube 2 is sealed by an annular seal packing 16.例文帳に追加

チューブサポート５とプロセスチューブ２のフランジ２ｃとの間の隙間を、環状のシールパッキン１６によって封止した。 - 特許庁

In the dividing process, the plate material 21 is divided by cutting a part that corresponds to the thickness clearance 21a.例文帳に追加

分割工程では、肉逃がし部２１ａと対応した部分を切削することで板材２１を分割する。 - 特許庁

When heater power is changed by a TFC depending on a change in air pressure, the HDD performs a write verify process at a clearance Cb higher than a clearance Ca which complies with default settings before a write process is performed with respect to user data.例文帳に追加

ＨＤＤは、気圧変化に応じてＴＦＣによりヒータ・パワーを変化させる場合、ユーザ・データのライト処理を行う前に、デフォルト設定に従うクリアランスＣａよりも、高いクリアランスＣｂにおいて、ライト・ベリファイ処理を行う。 - 特許庁

Pressure oil is supplied to the sealed space (42), when performing a mold opening process, a mold closing process and mold clamping process, and the tie bar nut (25) is pushed onto a seating face (28) to bring each clearance (S1) into substantially zero.例文帳に追加

型開工程と型閉工程と型締工程を実施するときは、圧油を密閉空間（４２）に給油してタイバーナット（２５）を着座面（２８）に押し付けて隙間（Ｓ１）を実質的に零にする。 - 特許庁

In a clearance forming process (step ST2), required clearances X1 are formed between the piston ring wire material 10 after wound.例文帳に追加

次の隙間発生工程（ステップＳＴ２）では、巻回後のピストンリング線材１０間に所要隙間Ｘ１を発生させる。 - 特許庁

To perform nice embedding of low temperature and minute clearance of a coating process and coating separation prevention in a posterior process, for instance, in a logic memory mixed loading device or the like.例文帳に追加

例えばロジック・メモリ混載デバイス等においても、被膜工程の低温化と微細な隙間の綺麗な埋め込み、後の工程での被膜剥離防止を兼ね備えることを課題とし、 - 特許庁

A car 5 is allowed to face a rail bracket 4b and a control panel 7 through a clearance at least at a part in a traveling process.例文帳に追加

かご５は、その移動行程の少なくとも一部で、レールブラケット４ｂ及び制御盤７と隙間を介して対向する。 - 特許庁

Thus, the movable connector unit is moved while a specific clearance is kept between the process cartridge B and the movable connector unit.例文帳に追加

それにより、プロセスカートリッジＢと可動コネクタユニットの間に所定のクリアランスを確保しながら可動コネクタユニットを移動させる。 - 特許庁

After a first process consecutive punching is conducted to a work W while setting a die to an appropriate clearance corresponding to a plate thickness, another die having a width corresponding to a penetrating quantity generated to the work W in the previous working is set to the clearance, which is about 1/3-1/8 of the appropriate clearance, a second process consecutive punching is conducted.例文帳に追加

板厚に応じた適正クリアランスに設定を使用して金型によりワークＷに第一工程の追抜き加工を実行した後、前記加工によりワークＷに生じたダレ量に見合う幅を有する別の金型を、そのクリアランスを前記適性クリアランスの約１／３〜１／８程度に設定して第二工程の追抜き加工を行うこと。 - 特許庁

In the plate material forming process, a thickness clearance 21a that corresponds to a direction along the axial direction of the rectifier is formed at the plate material 21.例文帳に追加

板材形成工程では、板材２１に整流子の軸方向に沿った方向と対応した肉逃がし部２１ａを形成する。 - 特許庁

In this resist film forming process, air bubbles are guided to a place other than the clearance 23 through channel holes 30a and 30b communicating with the outside of the nozzle from the vicinity of the clearance 23 so that the air bubbles do not block the clearance 23 of the nozzle 22 immersed in the liquid tank while the resist agent is applied to the coated surface.例文帳に追加

このレジスト膜形成工程において、被塗布面へのレジスト剤の塗布中は、液槽内に浸漬させたノズル２２の隙間２３を気泡が塞がないように、隙間２３近傍からノズル外側に連通する通路孔３０ａ，３０ｂを経て、気泡を隙間２３以外の部位へ誘導させる。 - 特許庁

When in the process of arranging a via 4, a clearance 5 around the via 4 is divided into a clearance region continued by a predetermined number (6), the via 4 is arranged so that a power supply system pattern 6 of the width for one pitch is arranged continuously between the adjacent clearance regions.例文帳に追加

ビア４を配置する工程の際に、ビア４の周囲のクリアランス５を予め決められた個数（６個）で連続させたクリアランス領域に区分し、隣り合うクリアランス領域間に１ピッチ分の幅の電源系パターン６が連続して配置されるようにビア４を配置する。 - 特許庁

To eliminate a leak flow inspection for confirming a clearance of products by securely satisfying a design request of a clearance of fitting parts regulated on the basis of a fluid leak between members in a member working process or a member assembling process.例文帳に追加

部材間からの流体漏れ量に基づきクリアランスが規定される嵌合部品のクリアランスの設計要求を、嵌合部品を製造する際の、部材の加工工程または組立工程において確実に満たし、製品のクリアランスを確認するための、漏れ流量検査を不要とする。 - 特許庁

This minimum clearance is compared with a clearance regulation value so as to accurately determine a combination of the inserting member 2 with the member 3 to be inserted or so as to determine the matching working of the inserting member 2 with the member 3 to be inserted in a member working process or a member assembling process.例文帳に追加

該最小隙間を、クリアランス規定値と比較することで、挿入部材２と被挿入部材３との組合わせの判定、若しくは、挿入部材２と被挿入部材３とのマッチング加工の判定を、部材の加工工程または組立工程において、正確に行なうことが可能となる。 - 特許庁

This method for manufacturing a photovoltaic element comprises a process for fixing plurality of metallic body electrodes 15 held by a holding tool with a prescribed clearance on a layered product 11 where a photovoltaic layer is formed on a substrate, and a process for dividing the layered product 11 according to the clearance.例文帳に追加

所定の間隙を持って保持具に保持された複数の金属体電極１５を、基板上に光起電力層が形成された積層体１１の上に固定する工程と、前記間隙において積層体１１を分割する工程を有することを特徴とする。 - 特許庁

In Fig. (b), clearance 45 corresponding to a cross section of the seal plate 23 extracted by the previous process appears between a glass plate 11 and the connection part 44.例文帳に追加

（ｂ）では前工程で引き抜いたシール板２３の断面に相当する隙間４５がガラス板１１と連結部４４との間に出現する。 - 特許庁

In the resin layer forming process, a clearance between an inner-wall side surface 91 of the accommodation hole section 90 and a part-side surface 106 is filled with a resin layer 92.例文帳に追加

樹脂層形成工程では、樹脂層９２で収容穴部９０の内壁面９１と部品側面１０６との隙間を埋める。 - 特許庁

This spacer is used for being inserted into a clearance formed by incising and opening the vertebral arch or the spinous process and dilating the vertebral canal, and is provided with a body part 2 having one part inserted into the clearance and having a pair of sides (abutment faces) 12 abutting on the incised ends of the vertebral arch or the spinous process with one part inserted into the clearance.例文帳に追加

本発明のスペーサは、椎弓または棘突起を切断して開くことによって形成された間隙に挿入して、脊柱管を拡大するのに使用されるものであり、一部が間隙に挿入され、間隙に挿入された状態で、椎弓または棘突起の切断端部にそれぞれ当接する一対の側面（当接面）１２を備える本体部２を有している。 - 特許庁

In the cold coining process, at least one of the coining dies is provided with a rib clearance control means 8 for controlling a clearance of a pair of right and left ribs 131 of the held column portion 13 within a proper range.例文帳に追加

冷間コイニング工程では、一対のコイニング型の６少なくとも一方に、挟持されるコラム部１３における左右一対のリブ１３１の間隔を適正範囲に規制するリブ間隔規制手段８を設けたコイニング型を用いる。 - 特許庁

A lengthy material 10 is cut in a cutting process to sequentially cut it without producing blank chips by providing a small clearance δ between a dice 3 and a punch 4.例文帳に追加

長尺素材１０を順次切断する切断工程で、ダイス３とポンチ４との間の小間隙δを設けてブランクチップを発生させないで切断する。 - 特許庁

To provide a manufacturing apparatus and a manufacturing process for a rubber tape containing cords which can be suitably used for changing the clearance between cords and the width of the tape correctly at a low cost.例文帳に追加

コード間隔およびテープ幅を安価かつ正確に変換することができるコード入りゴムテープの製造装置および製造方法を提供する。 - 特許庁

In a test process of HDD manufacturing, the HDD specifies a relation between clearance and temperature by measurement to determine the correction coefficient.例文帳に追加

ＨＤＤの製造のテスト工程において、ＨＤＤは、測定によりクリアランアスと温度との間の関係を特定し、上記補正係数を決定する。 - 特許庁

Consequently, a clearance in the gear being a cause of the backlash is absorbed to prevent the lid device from dropping due to the backlash in the gear in the closing operation process.例文帳に追加

これにより、バックラッシュの要因となるギヤの隙間分を吸収し、閉動作過程におけるギヤのバックラッシュに起因する蓋装置の落下を防止する。 - 特許庁

In a vulcanization process, gas in the vicinity of the first blade 20a is moved through the clearance between the first blade 20a and the body 18 to be discharged outside.例文帳に追加

加硫工程において、第一ブレード２０ａの近傍のガスは、この第一ブレード２０ａと本体１８との隙間を通じて移動し、外部へと排出される。 - 特許庁

To manufacture a semiconductor device whose characteristics are matched with an initial purpose without generating any clearance in a composite semiconductor film posterior to an etching process.例文帳に追加

エッチング工程後の複合半導体膜に空隙を生じさせず、所期の目的に沿った特性の半導体装置を製造することを可能とする。 - 特許庁

This can prevent the intrusion of a resin material 71 into an insertion clearance 70a and simplify the manufacturing process by forming only the insertion clearance 70a that can accommodate the main body 64 on the upper insert-molding die 70.例文帳に追加

これにより、インサート成形時に用いる上金型７０に本体部６４が入り込める寸法の導入隙間７０ａのみを形成するだけで、導入隙間７０ａへの樹脂材料７１の入り込みを防止でき、製造工程の簡素化が図れる。 - 特許庁

To coffer the surroundings of a work structure constructed underwater, in a simple process with the assurance of high cut-off performance without being influenced by a head clearance or a water depth.例文帳に追加

水中に建造された被作業構造物の周囲を、空頭や水深に影響されることなく簡易な工程で、しかも高い止水性を確保して締め切る。 - 特許庁

To manufacture sliding members having a proper clearance assuring good productivity without applying any additional machining process.例文帳に追加

追加の機械加工を施すことなく、かつ、良好な生産性で、適正なクリアランスを有する摺動部材を製造可能な摺動部材の製造方法を提供するものである。 - 特許庁

To provide a pump device that can secure with good accuracy a clearance between a driving member of a displacement pump and members of its inner and outer circumferential surfaces, and its manufacturing process.例文帳に追加

容積型ポンプの駆動部材とその内外周面の部材とのクリアランスを精度良く確保することができるポンプ装置ならびにその製造方法を提供する。 - 特許庁

So, an etching process for forming the clearance 47 for separating by pixel unit can be omitted, and the fine structure which needs high dimensional accuracy can be produced highly accurately and simply.例文帳に追加

このため、画素単位で分離する隙間４７をエッチング工程を省くことができ、高い寸法精度が要求される微細構造体を精度良く簡単に製造できる。 - 特許庁

To fill a minute clearance of a bearing unit with a working fluid in a simple process by neither mixing bubbles nor scattering splash of working fluid around.例文帳に追加

軸受ユニットの微小な隙間内に、気泡を混入させることなく、また、周囲に作動流体の飛沫を飛散させることなく、簡易な工程で作動流体を充填する。 - 特許庁

Thereby, in a process for sealing a periphery of the PDP and exhausting inside gas, an exhaust clearance can be secured in an upper part of the barrier ribs, and thus, exhaust efficiency is improved.例文帳に追加

これにより、ＰＤＰの周囲を封着し、内部のガスを排気する工程で、隔壁の上部に排気クリアランスを確保することができるので、排気効率が向上する。 - 特許庁

Then, in the second step of the process of manufacturing the magnetic sensor device, clearances 16, 17 and a clearance 18 are formed in the base material 4 fixed to the connection plate 5.例文帳に追加

次に、連結板５に固定された母材４に、間隙１６、１７および間隙１８を形成することをもって磁気センサ装置の製造工程の第２工程とする。 - 特許庁

To provide an apparatus and method for a bending work capable of easily inserting a workpiece from the clearance of a die by changing muting point values per each process and capable of improving processing efficiency by taking security into consideration.例文帳に追加

各工程ごとにミュートポイント値を変更することにより、金型の間からワークを挿入し易くし安全に配慮して加工効率を向上させることにある。 - 特許庁

To allow for the pack clearance of a clutch pack to be adjusted to the proper amount during the manufacturing process, even if there are variations in friction disc thickness and steel disc thickness .例文帳に追加

摩擦ディスクの厚さと鋼鉄ディスクの厚さにばらつきがある場合でも、製造工程においてクラッチパックのパック隙間が適切な値に調整されることを可能にする。 - 特許庁

Hydrogen is moved to the second chamber 34 passing a clearance between the cylinder 30 and the piston ring 39 in a compressing process of hydrogen off gas in the first chamber 33.例文帳に追加

第１室３３の水素オフガスの圧縮工程のときには、水素がシリンダ３０とピストンリング３９との間のクリアランスを通過して第２室３４へ移動される。 - 特許庁

To provide a finish process capable of reducing the clearance between core sheets, and capable of simultaneously preventing inner diameter side overrun, misalignment of slots, floating of teeth, and the like, in the manufacturing method of a helical lamination core.例文帳に追加

ヘリカル積層コアの製造方法のコアシート間の隙間の低減、内径側オーバーラン、スロット不整列、ティースの浮きなどを同時に防止できる仕上げ工程の提供。 - 特許庁

The clearance measurement system 12 also includes a processing unit 198 constituted to process the first and second signals, based on a measurement difference between the first and second sensed parameters, for the purpose of estimating the clearance between the first and second objects 14, 16.例文帳に追加

クリアランス測定システム（１２）はまた、第１と第２の物体（１４、１６）の間のクリアランスを推定するために、第１および第２の感知パラメータの間の測定差に基づいて、第１および第２の信号を処理するように構成された処理ユニット（１９８）を含む。 - 特許庁

In the method and the apparatus for removing the precise molding by injection mold molding from the mold, a process in which the mold is moved, and a clearance is formed between the mold and the molding and a process in which compressed gas is introduced into the clearance, and the molding is demolded while being pressurized are included.例文帳に追加

射出金型成形による精密成形品を金型から離型する方法および装置であって、金型を移動させて、金型と精密成形品との間に間隙を生じさせる工程、および間隙に加圧気体を注入し、精密成形品を加圧した状態で離型する工程を含む、精密成形品を金型から離型する方法および装置。 - 特許庁

To provide a plasma display panel capable of increasing a light emitting efficiency, sealing a front substrate and a rear substrate and, in the temporarily sealed state before discharge gas is filled in a clearance between the sealed substrates, easily performing an exhaust process for removing residual gas in atmospheric state filled in the clearance between the sealed substrates.例文帳に追加

発光効率を高めるとともに、前面基板と背面基板を密封し、その内部に放電ガスを充填する前の仮封止状態で、内部に満たされている大気圧状態の残留ガスを除去する排気工程を容易に行うことができるプラズマディスプレイパネルを提供する。 - 特許庁

Thus, by forming the notch 5, after the product 2 is flanked from the metal plate stock 1, the scrap 8 of a third process side is made close to a free state on the basis of the product 2, a clearance is formed between the product 2 and the scrap 8, or the clearance is apt to be formed.例文帳に追加

このように、切込み５を形成すると、金属材料板１から製品２を打抜いた後では、製品２を基準として第三工程側のスクラップ８がフリーな状態に近くなるため、製品２とスクラップ８との間に隙間が形成され、又は隙間が形成され易くなる。 - 特許庁

The image processing device resets a counter value in the region for unified counters of NVRAM (or HDD) to "0" as well as makes an intermediate device transmit commands for a counter clearance call to inform a management device 102 of the fact when an execution of counter clearance (erasure of process frequency) is directed.例文帳に追加

画像処理装置では、カウンタクリアの実行（処理回数の消去）が指示された場合、ＮＶＲＡＭ（ＨＤＤでもよい）の統一カウンタ用領域上のカウンタ値を「０」にリセットすると共に、その旨を知らせるカウンタクリアコール用コマンドを仲介装置によって管理装置１０２へ送信させる。 - 特許庁

Furthermore, the compressing process is terminated by a control apparatus 25 by making a third valve V3 into a closed state when during the compressing process and before nitrogen with greater viscosity coefficient compared to hydrogen with smallest viscosity coefficient is passed through the clearance.例文帳に追加

さらに、圧縮工程の途中であり、粘度係数の最も小さい水素に比して粘度係数の大きい窒素がクリアランスを通過する前には、制御装置２５は第３バルブＶ３を開状態として圧縮工程を終了させる。 - 特許庁