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controlled processの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1033件
The polarity of slurry is controlled to keep the equilibrium of a material removing rate from respective crystal faces during a CMP process.例文帳に追加
スラリーの極性は、CMPプロセスの間それぞれの結晶面からの材料除去速度を平衡に保つように制御される。 - 特許庁
The audio recognition process is controlled by a microphone number indicating the main speaker supplied from the bidirectional talking device 2.例文帳に追加
音声認識処理は、双方向通話装置2から供給される主の話者を示すマイク番号によって制御される。 - 特許庁
The increase of unwanted bacteria can be controlled by oxidizing ingredient since the process of fermentation is done under the acid condition of lactic acid. 例文帳に追加
また、原料を酸敗させることで乳酸による酸性下での発酵となるため、雑菌の繁殖を抑えることができる。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
ATMOSPHERIC PROCESS AND SYSTEM FOR CONTROLLED AND RAPID REMOVAL OF POLYMER FROM HIGH DEPTH TO WIDTH ASPECT RATIO HOLE例文帳に追加
大きい深さ対幅アスペクト比をもつホールからポリマーを制御下にかつ急速に除去するための大気内プロセスおよびシステム - 特許庁
To provide a process for fabricating a semiconductor device in which generation of stress can be controlled at the upper end of sidewall of a trench.例文帳に追加
溝の側壁上端部における応力の発生を抑制することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
Not only the data path part 15 can be controlled in high speed by FSM 14, but also the data path part 15 can be controlled by a program of P command in a different process from the process set in FSM 14, and then system LSI which can flexibly change VU 1 process can be provided.例文帳に追加
FSM14によりデータパス部15を高速で制御できると共に、P命令によりプログラムでデータパス部15をFSM14に設定されている処理手順と異なる手順で制御することも可能となり、VU1の処理も柔軟に変更することができるシステムLSIを提供することができる。 - 特許庁
When an HMI part receives the data for confirming a process alarm from a main control part, a display part with a touch panel is controlled to display a monitor screen for confirming the process alarm.例文帳に追加
HMI部は主制御部からプロセスアラームを確認するための情報を受信するとタッチパネル付表示部を制御してプロセスアラーム確認のためのモニタ画面を表示する。 - 特許庁
In the process of manufacturing the glass preform 1, the density of the surface part of the glass layer 3 is controlled to ≥0.3 g/cm^3 and ≤0.4 g/cm^3 in the process of depositing the glass layer 3.例文帳に追加
光ファイバ母材1の製造工程において、ガラス層3の形成工程では、ガラス層3の表面部分の密度を0.3g/cm^3以上且つ0.4g/cm^3以下に形成する。 - 特許庁
A dialysis condition is controlled by a control section 2 on the basis of the blood index value measured or computed and a hemodialysis process including a dehydration process is performed by the actual working section 1.例文帳に追加
計測または算出した血液指標値に基づいて、制御部2により透析条件を制御するとともに、実働部1により除水処理を含む血液透析処理を実行する。 - 特許庁
A synchronous control process 110 on a synchronous control host machine 101 instructs each process 121, 131 and 141 to be controlled on host machines #1-#3 to move to a synchronous control host.例文帳に追加
同期制御用ホストマシン101上の同期制御プロセス110がホストマシン#1〜#3上の各被制御プロセス121、131、141に対して同期制御用ホストヘの移動を指示する。 - 特許庁
After the couplings connect each other, the position of the process cartridge is controlled by the automatic self-centering work of the coupling, so that the load is not applied from the guide lever by which the process cartridge is pushed in.例文帳に追加
カップリング連結後はカップリング自身が自動調心作用で、プロセスカートリッジの位置を規制するため、プロセスカートリッジを押し込んだガイドレバー19からは負荷は加わらない。 - 特許庁
A process start controlling function part 13 controls the operation of a command by referring to the activity ratio of a CPU at the time of starting a process to be controlled according to an inputted command.例文帳に追加
プロセス起動制御機構部13は入力されたコマンドに従って制御対象プロセスを起動する際にCPUの使用率を参照してコマンドの動作を制御する。 - 特許庁
To provide an image forming apparatus constituted so that a covering member detached when a process cartridge is attached to an apparatus main body is easily controlled and having high operability, and the process cartridge and the covering member.例文帳に追加
プロセスカートリッジを装置本体に装着する際に取り外されるカバー部材の管理が容易で、操作性の高い画像形成装置、プロセスカートリッジ、及び、カバー部材を提供する。 - 特許庁
In this method, the depth of a pattern can be controlled by the process performing anisotropic etching, and by the process performing isotropic etching, a curved surface structure can be produced.例文帳に追加
本発明の構成によれば、異方性エッチングを行う工程によりパターンの深さを制御することが出来、等方性エッチングを行う工程にり曲面構造にすることが出来る。 - 特許庁
The process control program is generated by selecting a desired control element from the menu display of process control elements, specifying the plant apparatuses and the like to be controlled, and sequentially defining the flow and the process control action at each step on the screen.例文帳に追加
プロセス制御素子のメニュー表示から希望の制御素子を選択し、制御対象のプラント機器等を指定してその各ステップにおける物流とプロセス制御動作を画面上で順次定義してプロセス制御プログラムを生成する。 - 特許庁
Besides, at a point of time when the new photoreceptor 3 is loaded to the image forming apparatus body, the final image density on the transfer paper 9 after the transfer process is automatically controlled, and also, the final image density on the transfer paper after the transfer process is optionally controlled.例文帳に追加
また、新規の感光体3が画像形成装置本体に装着された時点で、自動的に転写後の転写紙9上の最終画像濃度制御を実行でき、さらに、任意に転写後の転写紙上の最終画像濃度制御を実行可能とする。 - 特許庁
Consequently, reduction of frame strength due to a high temperature heat treatment process is controlled by plastically deforming the frame 10 beforehand, and tension reduction of the color selection electrode can be controlled.例文帳に追加
このように、フレーム10を塑性変形させておくことにより、高温熱処理工程におけるフレーム強度の低下を抑えることができ、色選別電極の引張力低下も抑えることができる。 - 特許庁
The processing unit is configured so as to process the object to be processed by using the temperature-controlled liquid discharged from each of the supply lines.例文帳に追加
処理ユニットは、各供給ラインから吐出される温度調節された液を用いて被処理体を処理するように構成されている。 - 特許庁
When a response from the device to be controlled is received after the transmission data are transmitted, a program to process the response is started.例文帳に追加
送信データ送信後、この制御対象装置からの応答を受信したときには、その応答を処理すべきプログラムを起床させる。 - 特許庁
The winding tension to wind up the product in the process (c) is preferably controlled to ≥0.001 kg/cm and ≤1 kg/cm.例文帳に追加
前記工程(c)で巻き取る際の巻き取り張力が0.001kg/cm以上1kg/cm以下であることが好ましい。 - 特許庁
The adjustment process is controlled based on an assessment of the convergence of said power control loop around said transmission quality target value.例文帳に追加
前記調整プロセスは、前記パワー制御ループの収束の評価に基づいて、前記伝送品質目標値の付近で制御される。 - 特許庁
Potato chip cooking process and apparatus includes controlled cooking of potato slices from the initial to the final cooking stages.例文帳に追加
本発明のポテトチップ調理方法及び装置では、ポテトスライスを初期調理ステージから最終調理ステージまで制御下で調理する。 - 特許庁
At this time, the depth of ion implantation is controlled, thus creating the regions of n and p channels in the same process.例文帳に追加
このとき、イオン注入深さを制御することにより、nチャネル及びpチャネルの領域を同一プロセスで作り分けることが可能である。 - 特許庁
An existing ratio of a plurality of metal elements at the interface is controlled to 0.07 or more with an operation parameter during the sputtering process.例文帳に追加
スパッタリング時の運転パラメーターにより、その複数の金属元素の界面元素存在比率が0.07以上をとる様に制御する。 - 特許庁
To provide a ferroelectric BLT film, in which crystal orientation to a direction of a film thickness is controlled, and its manufacturing process.例文帳に追加
膜厚方向に対する結晶配向性が制御されたBLT系強誘電体膜およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
Consequently, the gap is easily controlled in a liquid crystal charging and sealing process at a step S_14 and the gap unevenness can be suppressed.例文帳に追加
これにより、ステップS14の液晶封入・封止工程におけるギャップの制御が容易となり、ギャップムラを抑制することができる。 - 特許庁
To provide a controlled voltage circuit for compensating a variation of performance in an integrated circuit caused by voltage supply, a temperature and a process variation.例文帳に追加
供給電圧、温度、及びプロセス変動による集積回路の性能変動を補償するための被制御電圧回路を提供する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a color filter substrate wherein the heights of columnar spacers can be optionally controlled by a simple manufacturing process.例文帳に追加
簡便な製造プロセスで柱状スペーサの高さを任意に制御することができるカラーフィルタ基板の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a semiconductor element in which the electrical characteristics of patterns formed by a double patterning process can be controlled, and also to provide a method of controlling the patterns.例文帳に追加
ダブルパターニングされたパターンの電気的特性をコントロール可能な半導体素子及びそのパターンコントロール方法を提供する。 - 特許庁
When the printing is not completed, a plate-release operation and a new master release operation are controlled by a release and process control means (S21).例文帳に追加
終了していない場合には、排版動作及び新たなマスタの製版動作を排版・製版規制手段により規制する(S21)。 - 特許庁
A wrinkle pressing force is controlled to get gradually high along with an advance of press treatment, in the first deep drawing press process.例文帳に追加
第1プレス深絞り工程では、プレス処理が進行するに従ってしわ押さえ力を徐々に高くする制御が実行される。 - 特許庁
To provide a process for preparing low melt and ultra low melt toners that allows for controlled particle growth and shape, and provides high yields.例文帳に追加
粒子成長および形状が制御可能な、収率の高い低融解および超低融解トナー製造方法を提供する。 - 特許庁
In Linux kernels before 2.6.9, this limit controlled the amount of memory that could be locked by a privileged process. 例文帳に追加
この制限には 2 つの種類がある。 2.6.9 より前の Linux カーネル では、この制限は特権プロセスによってロックされるメモリの合計を制御していた。 - JM
The value of the module level attribute is controlled based on whether or not the specific module object is being used by the process control system.例文帳に追加
モジュールレベル属性の値は、特定のモジュールオブジェクトがプロセス制御システムによって使用されているかどうかに基づいて制御される。 - 特許庁
To provide a thermosetting resin composition which gives a cured product with controlled occurrence of oxides on curing and its curing process.例文帳に追加
硬化時における酸化物の発生が抑制された硬化物が得られる熱硬化性樹脂組成物、及びその硬化方法を提供する。 - 特許庁
The adjustment process is controlled based on an assessment of the convergence of the power control loop around the transmission quality target value.例文帳に追加
前記調整プロセスは、前記パワー制御ループの収束の評価に基づいて、前記伝送品質目標値の付近で制御される。 - 特許庁
An event information management device comprises an event registration module for controlling controlled equipment and performing an event registration process to the controlled equipment; an event management module for receiving event information on an event generated from the controlled equipment by the execution of the event registration process, and providing the event information to event management request equipment; and a storage module for storing the received event information.例文帳に追加
被制御機器を制御し、被制御機器に対してイベント登録過程を行うイベント登録モジュールと、イベント登録過程の実行によって被制御機器から発生したイベントに関するイベント情報を受信し、イベント情報をイベント管理要請機器に提供するイベント管理モジュール及び受信したイベント情報を保存する保存モジュールとを備える。 - 特許庁
In an engine control part 202, a plurality of image forming process conditions are sequentially stored for each page to a printing registration memory by instruction from the printer controller 201 and the electrophotographic process is controlled based on the stored image forming process conditions.例文帳に追加
エンジン制御部202は、プリンタコントローラ201からの指示により複数の画像形成プロセス条件を印字登録メモリに頁ごとに順次記憶させ、記憶された画像形成プロセス条件にもとづいて電子写真プロセスを制御する様に構成した。 - 特許庁
The compensation is allowed to respond only to the changed quantity of the operation output, and the size of the compensation signal is always made almost the same as that of the process quantity so that the phase of the process quantity can be compensated, and correctly controlled even when process gain fluctuation is generated.例文帳に追加
補償信号は操作出力の変化分のみに応答し、また常にプロセス量と概略同じ大きさになるので、プロセス量の位相を補償することができ、またプロセスゲインが変動しても正確に制御することができる。 - 特許庁
The video data image-processed in the batch process is display controlled in the display control section 21 not via a second image processing section 21b in the display control section 21 and the video data not image-processed in the batch process is display controlled in the display control section 21 while being image-processed in the second image processing section 21b.例文帳に追加
表示制御部21において、バッチ処理で画像処理された映像データは表示制御部21内の第2の画像処理部21bを介さずに表示制御され、バッチ処理で画像されていない映像データは第2の画像処理部21bにて画像処理されつつ表示制御される。 - 特許庁
To provide a voltage controlled current source capable of reducing transport conductance variations with respect to temperature variations and process variations, and a variable gain amplifier capable of obtaining a stable gain property, even in temperature variations and process variations, using the voltage controlled current source.例文帳に追加
温度変動およびプロセス変動に対する伝達コンダクタンスの変動を低減し得る電圧制御電流源と、前記電圧制御電流源を用いて温度変動およびプロセス変動に対しても安定した利得特性が得られる可変利得増幅器を提供する。 - 特許庁
In this process, a rear wheel steering angle is controlled according to the elimination and a rear wheel of the vehicle is operationally moved up to a zero rear wheel angle, and thereby a process for commanding a motor 46 can be included.例文帳に追加
この工程は後輪操向角度を前記排除に応じて制御し、車輛の後輪をゼロ後輪角度まで作動的に移動するため、モータ(46)を指令する工程を含むことができる。 - 特許庁
The process controlling function part 15 calculates a temporary stopping time for temporarily stopping the process to be controlled in the prescribed time so that the calculated CPU activity ratio can be prevented from exceeding a prescribed upper limit value.例文帳に追加
プロセス制御機構部15は、算出したCPU使用率が所定の上限値を越えない様に、所定時間において制御対象プロセスを一時停止させる一時停止時間を算出する。 - 特許庁
In a dehydration process and a sintering process for the porous preform for the optical fiber, the pressure in the spatial part 33 is controlled to be ≥10 Pa higher than the pressure in the joined body 20 of the core pipe.例文帳に追加
光ファイバ用多孔質母材の脱水工程および焼結工程において、空間部33内の圧力を、炉心管接続体20内の圧力よりも10Pa以上高くする。 - 特許庁
The optimum resin pressure after the metering process is preliminarily calculated at every resin and resin pressure after the metering process at the time of automatic operation is controlled to the optimum resin pressure by moving the screw forward and backward.例文帳に追加
予め樹脂ごとに計量工程後の最適樹脂圧力を求め、自動運転時における計量工程後の樹脂圧力を、スクリュを前後動して最適樹脂圧力に制御する。 - 特許庁
An adsorbing process in which sulfuric acid is adsorbed in an SO4 type anion exchange resin, and an Ni solution is recovered and an eluting process in which sulfuric acid is eluted are controlled by the conductivity of a discharging liquid.例文帳に追加
SO_4型の陰イオン交換樹脂に硫酸を吸着させてNi溶液を回収する吸着工程と、硫酸を溶離する溶離工程とを、排出液の伝導度によって管理する。 - 特許庁
This method for producing the rice flour comprises drying immersed rice prepared by a hydrating operation while crushing by using an impact type crush-treating device, with a temperature-controlled hot air at the same time and also performing the classifying process within one process.例文帳に追加
加水操作により調製した浸漬米を、衝撃式粉砕処理装置を用いて粉砕しつつ、温度制御をした熱風にて同時に乾燥し、かつ分級工程をも一の工程でおこなう。 - 特許庁
To provide a coating solution for formation of a low-permittivity insulating coating suitable in a semiconductor formation process including a controlled etching step such as a dual damascene process in a semiconductor device having high integration.例文帳に追加
高集積度の半導体装置において、デュアルダマシン法のようなコントロールエッチング工程を含む半導体形成プロセスにおいて好適な低誘電率絶縁膜形成用塗布液を提供すること。 - 特許庁
An excess air ratio in an initial combustion process T1 immediately after ignition is controlled to be lower than that in a steady combustion process T2 by reducing the quantity of combustion air and increasing the quantity of fuel.例文帳に追加
燃焼用空気量を減らしたり、燃料量を増やすことにより、点火直後の初期燃焼工程T1における空気過剰率を、定常燃焼工程T2より低くなるように制御する。 - 特許庁
A process identifying means 3 varies a manipulated variable MB stepwise within a certain range periodically during control and process parameters are obtained according to variation in controlled variable PV at this time.例文帳に追加
プロセス同定手段3によって、制御中、定期的に、操作量MVを一定範囲内でステップ状に変化させ、その際の制御量PVの変化に基づいて、プロセス・パラメータが求められるようになっている。 - 特許庁
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