「controlled process」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a semiconductor device in which lowering of impurity concentration in a channel region caused by a sacrificial oxidation process or a gate oxide formation process is suppressed and thereby impurity concentration in the channel region can be controlled easily and a desired Vt can be obtained, and to provide its fabrication process.例文帳に追加

犠牲酸化工程やゲート酸化形成工程に起因するチャネル領域の不純物濃度の低下を抑制し、それによってチャネル領域の不純物濃度の制御が容易で且つ所望のＶｔを得ることが可能な半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The cooling elements can be controlled to bring a time fluctuation cooling profile in a prescribed sequence, can be controlled to bring a spatial cooling profile in a selected pattern, can be regulated to maintain a constant process parameter, or can be controlled to bring a combination thereof.例文帳に追加

冷却要素は、所定の順序で時間変動冷却プロフィールをもたらすように制御することができ、選択パターンで空間冷却プロフィールをもたらすように制御することができ、又は一定の処理パラメータを維持するように調節することができ、又はこれらの組合せをもたらすように制御することができる。 - 特許庁

In the filament winding method including a hoop winding process for winding a resin impregnated fiber by hoop winding and a helical winding process for winding the resin impregnated fiber by helical winding, the temperature of the resin impregnated fiber in the helical winding process is controlled so as to be lower than that of the resin impregnated fiber in the hoop winding process.例文帳に追加

フープ巻きにて樹脂含浸繊維を巻回するフープ巻き工程と、ヘリカル巻きにて前記樹脂含浸繊維を巻回するヘリカル巻き工程とを備えるフィラメントワインディング方法において、ヘリカル巻き工程における前記樹脂含浸繊維の温度を、前記フープ巻き工程における前記樹脂含浸繊維の温度よりも低く制御する。 - 特許庁

In the solar cell controller 24 for controlling cooling process of the solar cell 12, the cooling process is controlled to result in amount of power generation energy larger than amount of cooling energy by comparing the amount of cooling energy equivalent to amount of energy consumed for the cooling process with the amount of power generation energy equivalent to amount of power generation that is increased with fall of temperature by the cooling process.例文帳に追加

太陽電池１２の冷却を制御する太陽電池制御装置２４において、冷却のために消費されるエネルギ量である冷却エネルギ量と、冷却による温度低下によって増加する発電量である発電エネルギ量とを比較して、発電エネルギ量が冷却エネルギ量より大きくなるように冷却を制御する。 - 特許庁

In this method for producing a malt alcoholic beverage such as beer, a sparkling liquor containing malt in a raw material, etc., the concentration of oxygen in an atmosphere in at least one process of a production process is reduced or a stirring rate at which a raw material is mixed with water for preparation of ingredients for the brewing process is controlled to suppress oxidation in the process for producing the malt alcoholic beverage.例文帳に追加

ビール、麦芽を原料に含む発泡酒等の麦芽アルコール飲料の製造方法において、当該製造工程の少なくとも一部工程における雰囲気中の酸素濃度を低減させること、又は原料を仕込用水に混合させる攪拌速度を制御することにより、麦芽アルコール飲料の製造工程における酸化を抑制する。 - 特許庁

The method for treating organic wastewater has a process for liquefying at least a part of activated sludge in the treatment of organic wastewater having an aerobic treatment process, and the supply amount of activated sludge to the liquefying treatment process and/or the treatment condition in the liquefying treatment process is controlled to 10-80% of the index.例文帳に追加

また、有機性廃水の処理方法は、好気性処理工程を有する有機性廃水の処理において、活性汚泥の少なくとも一部を液化処理する工程を有し、該液化処理工程への活性汚泥供給量及び／又は該液化処理工程での処理条件を、前記指標により１０〜８０％に制御することを特徴とする。 - 特許庁

This process control system comprises an operation terminal 2 and an IC tag 3 to be mounted on an operator, and allows the operator authenticated by the IC tag 3 to operate a process to be controlled with the operation terminal 2.例文帳に追加

プロセス制御システムは、操作端末２と操作員に装着させるＩＣタグ３を備えており、ＩＣタグ３による認証がなされた操作員が操作端末２を通じて制御対象プロセスの制御操作を行えるようにされている。 - 特許庁

By giving a desired gloss information flag to job ticket data, a process condition of an engine is controlled based on a parameter by referring to a gloss parameter table where paper and the process condition for achieving the desired glossiness are described.例文帳に追加

ジョブチケットデータに所望の光沢情報フラグを持たせることにより、それを実現させるための用紙やプロセス条件を記述した光沢パラメータテーブルを参照し、前記パラメータに基づきエンジンのプロセス条件を制御させる。 - 特許庁

The surface temperature of the cast piece in the correction process is frequently controlled to be the Ar_3 point + 170°C or higher, and in the slow cooling after the correction process, the slow cooling is preferably carried out over the whole area of a temperature zone at which the ferrite is precipitated.例文帳に追加

矯正工程での鋳片の表面温度は、Ａr_3点＋１７０℃以上に制御することが多く、矯正工程後の冷却過程では、オーステナイトからフェライトが析出する温度帯全域に渡って徐冷するのが好ましい。 - 特許庁

To provide a method and device for monitoring an interval between a first injection process and a second injection process in a fuel cycle in one cylinder for an internal combustion engine, where individual injection processes are controlled by electric operation elements.例文帳に追加

個々の噴射過程が電気操作素子によって制御される、内燃機関の１つのシリンダの燃料サイクルにおける第１の噴射過程と第２の噴射過程との間の間隔を監視するための方法および装置を提供する。 - 特許庁

In a pressure-increasing process and the pressure-accumulation process of the accumulator, the rotating speed of the electric servo motor is pressure-controlled by current control based on the output signal of the pressure sensor in response to the discharge pressure of the hydraulic pump.例文帳に追加

増圧工程及びアキュムレータの蓄圧工程においては、油圧ポンプの吐出圧力に応じた前記圧力センサの出力信号に基づいて、電動サーボモータの回転速度を電流制御で圧力制御することを特徴とする。 - 特許庁

The manufacturing condition of the equipment provided in the process before an inspection process is automatically controlled on the basis of the inspection data of the optical disk after lamination and the fluctuations in the quality of the optical disk caused by an external cause is automatically corrected.例文帳に追加

さらに、かつ貼り合わせ後の光ディスクの検査データを元に、検査工程より前の工程に備わる設備の製造条件を自動的にコントロールし、外的要因による光ディスクの品質変動を自動補正させた。 - 特許庁

The rate of the progression of the decomposition reaction is controlled by monitoring the change in the harmful chlorine compound concentration of a solution containing the harmful chlorine compound in treatment of a photodecomposition process step (S3) and a catalyst decomposition process step (S4).例文帳に追加

光分解工程（Ｓ３）および触媒分解工程（Ｓ４）の処理に際して、有害塩素化合物を含有する溶液の有害塩化合物濃度の変化をモニタすることにより分解反応の進行速度を制御する。 - 特許庁

By the use of a luminous analyzer, using a system of collecting spectral information and also when a luminous wafer map is obtained, a tentative wiring is constructed within process to carry out a luminous analysis, and after the analysis, a process advance is controlled based on the analysis information.例文帳に追加

発光ウェハマップ取得時にスペクトル情報も収集するシステムによる発光解析装置を用い、工程内で仮配線を敷設して発光解析を実施し、解析後、解析情報に基づき、工程進行を制御する。 - 特許庁

Furthermore, when toner of reverse polarity is contained in a toner image on the intermediate transfer belt 4, a transfer process or a developing process is controlled so that electrostatic attracting force working on the photoreceptor drums 15a to 15d is made small.例文帳に追加

さらに、中間転写ベルト４上のトナー像に逆極性トナーなどが含まれている場合、感光体ドラム１５ａ〜１５ｄに対して作用する静電引力が小さくなるように、転写プロセスまたは現像プロセスを制御する。 - 特許庁

The first process part 25 calculates the moving time required when a manipulator R and a positioner P to be controlled reach respective destination teaching points, and decides the reference controlled object that will reach the destination teaching point in the shortest time.例文帳に追加

第１工程部２５は、制御対象であるマニピュレータＲ及びポジショナＰが移動目標教示点に各々到達する際の移動時間を算出して移動目標教示点に最短時間で到達する基準制御対象を決定する。 - 特許庁

In the case of applying the thin film on the outside surface of the bottle by the spray process, the temperature of a coating liquid 9, a coating chamber 7 and the bottle before coating is controlled to be equal to or lower than a prescribed temperature.例文帳に追加

瓶１の外面にスプレイ法で薄膜をコーティングする場合に、コーティング液９、コーティング室７、及びコーティング前の瓶１を所定温度以下にする。 - 特許庁

The preferable peel strength in this case can be obtained by an optimal temperature and an exposure time given to sheath material to be hardened by a controlled precision sintering process.例文帳に追加

この場合の好ましい剥離強度は、制御された精密焼結プロセスによって硬化される鎧装材料に与えられる最適な温度および曝露時間により得られる。 - 特許庁

The pressure of a molten resin in an injection process is controlled by adjusting the pressure of a hydraulic cylinder 10 according to a control program 12a by a servo valve 11.例文帳に追加

射出工程における溶融樹脂の圧力は、制御プログラム１２ａにしたがいサーボ弁１１で油圧シリンダ１０の加圧圧力を調整して制御する。 - 特許庁

The invention also provides conditions under which process parameters can be controlled to produce antireflective layers with varying optimum refractive index, absorptive index, and thickness for obtaining the desired optical behavior.例文帳に追加

本発明はまた、プロセスパラメータを制御して、所望の光学挙動を得るための最適な屈折率、吸収率及び厚さを変化させたアンチレフレクティブ層を生成する。 - 特許庁

On the basis of the detection result of the concentration meter 17, the starting timing and the continuation time of every process are controlled fine and the separation performance of this chromatographic separation apparatus is enhanced.例文帳に追加

濃度計１７の検出結果に基づいて、各工程の開始のタイミングや継続時間を微細に制御し、クロマト分離装置の分離性能を向上させる。 - 特許庁

The discharge process is carried out for a plurality of times, with the discharge amount in each time being controlled to ≤90% of the discharge amount required to fusion-splice the same thin glass fibers 21 with each other.例文帳に追加

放電は、複数回実施され、１回当たりの放電量が、細いガラスファイバ２１同士を融着するのに必要とされる放電量の９０％以下である。 - 特許庁

To provide a pyrroloquinoline quinone (PQQ) powder of which bulk density is controlled and which has a grain size distribution suitable to making formulations and to transportation, and to provide a process for producing the PQQ powder using a simple apparatus.例文帳に追加

嵩密度を制御し、製剤化や輸送に適した粒度分布を有するPQQ粉体を提供し、かつ簡単な装置を用いて簡便に製造する方法を提供する。 - 特許庁

In accordance with the detected process state, a variable delay circuit is controlled and a delay time of at least either an internal synchronizing signal or an external synchronizing signal is regulated.例文帳に追加

検出したプロセス状態に応じて可変遅延回路を制御し、内部同期信号および外部同期信号の少なくともいずれかの遅延時間を調整する。 - 特許庁

To provide a stretched film in which tear in a stretching direction can be well controlled in dyeing process for manufacturing a polarizing plate or a polarizing stretched film.例文帳に追加

偏光板または偏光性延伸フィルムを製造する際の染色工程において、延伸方向への裂けを良好に抑制しうる延伸フィルムを提供する。 - 特許庁

In the carrying process, by operating pH, the particle diameter of TiO_2 upon soling is controlled, thus the size of the particles of TiO_2 carried on the CNT has been changed.例文帳に追加

担持プロセスではｐＨを操作することにより、ゾル時のＴｉＯ_２の粒子径を制御し、その結果ＣＮＴに担持されたＴｉＯ_２の粒子の大きさを変化させた。 - 特許庁

Chemical pouring sections 33a, 35a for plant and a water supplying pump 37 are controlled at the process control section 4 depending on predicted amount of water demand and the quality of raw water.例文帳に追加

プロセス制御部４において、予測された水需要量と原水水質に基づいて、プラントの薬品注入部３３ａ，３５ａと送水ポンプ３７が制御される。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a microneedle of which the tip angle and the height can be easily controlled without using a complex manufacturing process and a special manufacturing apparatus.例文帳に追加

複雑な製造工程や特殊な製造装置を利用することなく、先端角およびその高さを容易に制御可能なニードルの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a system and a method for controlling a small-scale environment with which a sample is placed and preserved in an environment controlled as similar as possible to a process or use conditions for the sample.例文帳に追加

サンプルの処理または使用条件にできるだけ近く制御された環境にサンプルを配置かつ保存できる小型環境の制御システムおよび方法を提供する。 - 特許庁

A flow rate of gas supplied to a chamber in a manufacturing process of a semiconductor device is controlled by closing/opening a control valve 12 housed in a valve case 10.例文帳に追加

半導体装置の製造工程においてチャンバへ供給されるガスの流量をバルブケース１０に収納されるコントロールバルブ１２の開閉により制御する。 - 特許庁

To provide a process for simply and stably producing a polymer which has a highly controlled degree of elimination of groups unstable toward an acid or a base, and exhibits excellent properties.例文帳に追加

酸又は塩基不安定基の脱離度が高度に制御され、優れた特性を発揮する重合体を簡便にかつ安定的に製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a process for fabricating a light-emitting element in which the width of a current constriction region can be controlled when the current constriction region is formed based on an easy method.例文帳に追加

容易な方法に基づき電流狭窄領域の形成時の電流狭窄領域の幅の精密な制御を可能とする発光素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the deposition process, upon mixing a poor solvent for the polyphenylene ether and a solution into which the polyphenylene ether of a specific viscosity is dissolved, the solution temperature inside a deposition vessel is controlled to from -80 to 20°C.例文帳に追加

特定粘度のポリフェニレンエーテルを溶解した溶液とポリフェニレンエーテルの貧溶媒を混合するに際し、析出槽の液温をー８０〜２０℃に制御する析出法。 - 特許庁

To provide a process for producing a semiconductor device in which the thickness of resin seal is strictly controlled by a simple method using a simple device, and also to provide a semiconductor device.例文帳に追加

簡易な装置を用いる簡易な方法で樹脂の封止厚みを厳密に制御することができる半導体装置の製造方法および半導体装置を提供する。 - 特許庁

Once, HC gas concentration enter a combustible gas low concentration region (yes in S108), process is changed over and nitrogen gas flow rate is controlled to keep a relation of (HC gas concentration) ≤ (combustible gas control concentration Lcon) (S110).例文帳に追加

一旦、HCガス濃度が可燃ガス低濃度領域に入ると（S108でyes）処理を切り替えてHCガス濃度≦可燃ガスコントロール濃度Lconとなるように窒素ガス流量を制御する（S110）。 - 特許庁

To provide a monomer tube having a shape controlled at a high degree, and to provide a method of manufacturing a wire coated with the monomer tube at a high yield in a simple process.例文帳に追加

高度に形状が制御された単量体チューブ及び単量体チューブにより被覆されたワイヤーを簡単な工程にて高収率で製造する方法を提供する。 - 特許庁

The user who receives the report can smoothly take a step, for example, by requesting other apparatus to remotely be controlled to process the same contents.例文帳に追加

この通知を受け取ったユーザは、例えば他のリモコン制御対象機器に対して同じコンテンツ処理を改めて依頼するといった処置を円滑に行なうことができる。 - 特許庁

In the process of welding the constituent part such as STC plate to the frame that constitutes the color discrimination mechanism, the frame is controlled to the shape in which the deformation is suppressed (S1-S5).例文帳に追加

色選別機構を構成するフレームにＳＴＣプレート等の構成部品を溶接する工程では、フレームをその変形を抑える形状に規制する（Ｓ１〜Ｓ５）。 - 特許庁

When a target parameter is controlled so as not to let the overlapping area change, the parameter can be adjusted real time in a transfer exposure process, without complicated calculations.例文帳に追加

重なり面積が変化しないように調節対象のパラメータを調節すれば、転写露光工程中に、リアルタイムで、かつ複雑な計算処理なくパラメータを調節できる。 - 特許庁

The peripheral module 18 has a storage circuit, an actual processing part executing the peripheral process controlled by a data signal held by the storage circuit, and a write controller.例文帳に追加

周辺モジュール１８は、記憶回路と、この記憶回路が保持するデータ信号によって制御される周辺処理を実行する実処理部と、ライトコントローラとを備える。 - 特許庁

To provide a controlled release agrochemical composition free from discharging a large amount of a solvent into the environment and having a coating polymer protected from deterioration during the coating process.例文帳に追加

溶剤を環境中に大量に放出することなく、かつ被覆工程におけるポリマーの劣化を防ぐことを特徴とする徐放性農薬組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a fabrication process of a semiconductor device in which formation of a recess in the periphery of the surface of an isolation film buried in a semiconductor substrate is controlled.例文帳に追加

半導体基板に埋め込まれた素子分離膜の表面周辺部に、窪みが形成されることを抑制する半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

On the switching of the picture resolution of 600 dpi and 1200 dpi, the setting of voltage is controlled in accordance with individual information of the process cartridge and the consumption of photoreceptor drum.例文帳に追加

６００ｄｐｉ、１２００ｄｐｉの画像解像度切り替え時に、プロセスカートリッジの個体情報と感光体ドラム使用量に応じて電位設定を制御する。 - 特許庁

In this process, when the control valve 12 is moved upward/downward, the dimension of the vertical gap 14B is controlled for regulating a gas supply pressure to a predetermined value.例文帳に追加

この場合、コントロールバルブ１２を上下動させることにより、上下方向のギャップ１４Ｂの大きさを制御して、ガスの供給圧力を所定の値に調整する。 - 特許庁

In the twisting process, the distance between the pair of rollers is controlled so that the pressed quantity of the coated layer of the primary coated optical fiber 19 becomes 20 μm to 70 μm.例文帳に追加

捻り工程において、光ファイバ素線１９の被覆層の潰れ量が２０μｍ〜７０μｍとなるように、一対の捻りローラ間の距離を制御する。 - 特許庁