「difference pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

MANUFACTURING METHOD OF PATTERN PHASE DIFFERENCE FILM, AND MANUFACTURING METHOD OF METAL MOLD FOR MANUFACTURING PATTERN PHASE DIFFERENCE FILM例文帳に追加

パターン位相差フィルムの作製方法、パターン位相差フィルム作製用金型の作製方法 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF PATTERN PHASE DIFFERENCE FILM, AND MANUFACTURING METHOD OF METAL MOLD FOR MANUFACTURING PATTERN PHASE DIFFERENCE FILM例文帳に追加

パターン位相差フィルムの作成方法、パターン位相差フィルム作成用金型の作成方法 - 特許庁

Even if it is used in the same pattern, a difference occurs. 例文帳に追加

同じパターンで用いても違いが生じる。 - Weblio Email例文集

A difference image Fourier conversion part 5 calculates the multilevel hologram pattern of the difference image, and a hologram pattern correction part 6 corrects the multilevel hologram pattern of the difference image.例文帳に追加

差分画像フーリエ変換部５は差分画像の多値ホログラムパターンを算出し、ホログラムパターン修正部６は差分画像の多値ホログラムパターンを修正する。 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF PATTERN PHASE DIFFERENCE FILM, AND MANUFACTURING METHOD OF METAL MOLD FOR MANUFACTURING PATTERN PHASE DIFFERENCE FILM例文帳に追加

パターン位相差フィルムの作製方法、パターン位相差フィルム作製用の金型及びその作製方法 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF PATTERN PHASE DIFFERENCE FILM, AND MANUFACTURING METHOD OF METAL MOLD FOR MANUFACTURING PATTERN PHASE DIFFERENCE FILM例文帳に追加

パターン位相差フィルムの作成方法、パターン位相差フィルム作成用の金型及びその作成方法 - 特許庁

LONG PATTERN ALIGNMENT FILM AND LONG PATTERN PHASE DIFFERENCE FILM USING THE SAME例文帳に追加

長尺パターン配向膜およびそれを用いた長尺パターン位相差フィルム - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR ELIMINATING DIFFERENCE BETWEEN HIGH-DENSITY PATTERN AND LOW-DENSITY PATTERN例文帳に追加

高密度パターンと低密度パターンとの変差を解消する方法と装置 - 特許庁

PHASED ARRAY ANTENNA SYSTEM HAVING SUM PATTERN AND DIFFERENCE PATTERN AND POWER SYNTHESIZING METHOD THEREFOR例文帳に追加

和パターンと差パターンを有するフェーズドアレーアンテナシステムとその電力合成方法 - 特許庁

MASK PATTERN WITH HALFTONE PHASE DIFFERENCE AND ITS PRODUCTION例文帳に追加

ハーフトーン位相差マスクのマスクパターン及びその製造方法 - 特許庁

An original design pattern is altered till difference between an objective pattern and a simulation pattern becomes below a specified value.例文帳に追加

目標パターンとシミュレーションパターンとの差異が規定値以下になるまでオリジナル設計パターンが変更される。 - 特許庁

A changed difference pattern 25, generated by calculating only the differences in the difference generating regions 18, 19, is replaced with the pattern in the difference generating regions 18, 19 of the simulation pattern 13n to generate a new simulation pattern 13n+1.例文帳に追加

差分発生領域18，19内の差分の部分のみ演算して作成した変更差分パターン25を、シミュレーションパターン13nの差分発生領域18，19のパターンと入れ換えて新たなシミュレーションパターン13n+1を作成する。 - 特許庁

To provide a pattern forming apparatus and a pattern formation method with fewer failures in drawing a pattern due to level difference.例文帳に追加

段差によるパターンの描画不良を低減したパターン形成装置及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The step difference pattern includes a first step difference pattern 11, formed by digging down a principal surface of a substrate 2; and a second step difference pattern 13, formed by further digging down the principal surface of the substrate 2, in continuation with the first step difference pattern 11 below the first step difference pattern 11 formed by digging down the principal surface of the substrate 2.例文帳に追加

段差パターンは、基板２の主面を掘り下げて形成された第１段差パターン１１と、基板２の主面を掘り下げた第１段差パターン１１の下方に、第１段差パターン１１に連続して更に基板２の主面を掘り下げて形成された第２段差パターン１３と、を有している。 - 特許庁

It is determined whether or not the second pattern has a pattern shape identical with the first pattern, based on whether or not a dimensional difference between the first pattern and the second pattern is within a range of the determination reference of the pattern dimensional difference.例文帳に追加

前記第１のパターンと前記第２のパターンとの間の寸法差が、前記パターン寸法差の判定基準内であるか否かに基づいて、前記第２のパターンが前記第１のパターンと同一のパターン形状であるか否かを判定する。 - 特許庁

The spacing between the center of the first hole pattern for level difference inspection and the center of the second hole pattern for level difference inspection is confined to ≤5a.例文帳に追加

第１の段差検査用ホールパターンの中心と第２の段差検査用ホールパターンの中心との間隔を５ａ以下とする。 - 特許庁

The pattern density means a percentage of a total opening area of the pattern to a total area of a wafer, while the conversion difference means a difference between the dimensions of a resist pattern and dimensions of the obtained pattern.例文帳に追加

前記パターン密度とは、ウエハの全面積に対するパターンの合計の開口面積の割合（％）であり、前記変換差とは、レジストパターンの寸法と、得られたパターンの寸法との差である。 - 特許庁

A difference calculation part 4 calculates a difference image corresponding to a difference between the regenerative image and the original image, and further, calculates the multi-level hologram pattern of the difference image.例文帳に追加

差分計算部４は、再生像と原画像との差分に相当する差分画像を算出し、さらに、差分画像の多値ホログラムパターンを算出する。 - 特許庁

Moreover, a color difference confirming line for a figure pattern printed in the fancy sheet is included and it is also possible to confirm a color difference for the figure pattern.例文帳に追加

また、化粧シートに印刷される図柄の色ずれ確認線を備えるようにして、図柄の色ずれ確認も行なえるようにした。 - 特許庁

At this time, the first response pattern is compared with the second response pattern and feedback control is performed so that the difference between both patterns becomes minimum.例文帳に追加

次いで、前記調合臭を第２のセンサアレイで検出し、第２の応答パターンを記録する。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK, PHOTOMASK OBTAINED BY THE SAME AND METHOD FOR IMPROVING DIFFERENCE OF MASK PATTERN DIMENSION ON PATTERN ROUGHNESS/FINESS例文帳に追加

フォトマスクの製造方法、それによって得られたフォトマスクおよびマスクパターン寸法の疎密差改善方法 - 特許庁

When a correction mask pattern has the required size, no pattern remains after the computer micrographics-macrographics of the difference graphic pattern, and when the correction mask pattern is larger, a pattern remains after the computer micrographics-macrographics of the difference graphic pattern, accordingly inappropriate correction can be detected.例文帳に追加

補正マスクパターンが所望サイズであれば、差分図形パターンを縮小−拡大処理するとパターンが残らず、補正マスクパターンが大きい場合には、差分図形パターンに縮小−拡大処理するとパターンが残るため、不適切な補正を検出可能である。 - 特許庁

To provide a pattern forming method for forming a pattern nearer to design dimensions in the case of forming the pattern on level difference.例文帳に追加

段差上にパターンを形成する場合に、設計寸法により近いパターンを形成することができるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

On the basis of the luminance value, a luminance difference is calculated (S44), and the variation pattern of the luminance difference is determined (S45).例文帳に追加

その輝度値に基づいて、輝度差分を算出し（Ｓ４４）、さらに、輝度差分の変化パターンを決定する（Ｓ４５）。 - 特許庁

The control unit calculates an intensity difference D[n] for each reference pattern (step S110), and extracts a reference pattern having a largest intensity difference (step S112).例文帳に追加

そして、制御部は、参照パターン毎の強度差Ｄ［ｎ］を算出し（ステップＳ１１０）、最大の強度差をもつ参照パターンを抽出する（ステップＳ１１２）。 - 特許庁

The phase difference of transmitted exposure light between the opening part and the mask part of the focus monitor pattern is different from the phase difference of the transmitted exposure light between the opening part and the mask part of the device pattern.例文帳に追加

フォーカスモニターパターンの開口部とマスク部との透過露光光の位相差は、デバイスパターンの開口部とマスク部との透過露光光の位相差と異なる。 - 特許庁

A difference calculation part 3 compares the reference pattern of a horse being registered at a storage part 6 with a pattern that is obtained by the frequency conversion part 2 and obtains the difference.例文帳に追加

相違度計算部３は、記憶部６に登録されている馬の基準パターンと周波数変換部２で求めたパターンとを比較し、その相違度を求める。 - 特許庁

To generate a mask pattern by a simulation in which difference in etching transformation is taken into consideration.例文帳に追加

エッチング変換差を考慮したシミュレーションによりマスクパターンを生成する。 - 特許庁

To provide a mask pattern correcting method which can easily eliminate a minute level difference formed after line width correction of a pattern.例文帳に追加

パターンの線幅補正後に生じる微小段差を、簡易に解消できるマスクパターン補正方法を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN ALIGNMENT FILM, METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN PHASE DIFFERENCE FILM USING THE SAME, AND MANUFACTURING DEVICE THEREOF例文帳に追加

パターン配向膜の製造方法、それを用いたパターン位相差フィルムの製造方法およびその製造装置 - 特許庁

After that, the resist pattern 44a is removed, and a pattern having a difference of two steps is formed on the Si substrate 41 (g).例文帳に追加

その後、レジストパターン４４ａを除去し、Ｓｉ基板４１上に２段の段差を有するパターンを形成する(g)。 - 特許庁

Difference between the altered original design pattern and the objective pattern is extracted and a plus/minus correction layer is produced.例文帳に追加

この変更後のオリジナル設計パターンと目標パターンとの差異を抽出し、プラス・マイナス補正レイヤーが作成される。 - 特許庁

By this density difference, the pattern is formed by creating a thickness and thinness, and an unevenness, to the pattern formation material even if the single pattern formation material is used.例文帳に追加

この密度差によって、単一の模様形成材料を用いても模様形成材料に濃淡や凹凸が生じ、図柄が形成される。 - 特許庁

Thereby, the resist pattern 106 is fit in and the gap 107 between the resist pattern and an under-layer and the disconnection of the resist pattern due to level difference is repaired.例文帳に追加

これにより、レジストパターン１０６が馴染み、レジストパターンと下地層間の空隙１０７やレジストパターンの段切れを修復することができる。 - 特許庁

To provide a level difference measuring method and a level difference measuring device, that can measure a difference in level such as an etching depth of a fine structure pattern.例文帳に追加

微細構造体パターンのエッチング深さなどの段差を測定することの出来る段差測定方法、段差測定装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

In the thus separated state, the speed difference detecting pattern is detected (S25), a belt speed difference is calculated from the detection result of the resist pattern of Y color and the detection result of the speed difference detecting pattern (S26), and the stored positional shift amount is corrected according to the calculated speed difference (S27).例文帳に追加

離間した状態で、速度差検出用パターンを検出し（Ｓ２５）、Ｙ色のレジストパターンの検出結果と速度差検出用パターンの検出結果からベルト速度差を算出し（Ｓ２６）、算出した速度差に応じて、格納されている位置ずれ量を補正する（Ｓ２７）。 - 特許庁

To accurately form a resist pattern on a substrate, where the thickness difference of resist occurs.例文帳に追加

レジストの膜厚差を生ずる基板上にレジストパターンを精度よく形成する。 - 特許庁

A predetermined pattern for detecting a difference of paper distances is recorded (S701).例文帳に追加

紙間距離の差を検出するための所定のパターンを記録する（Ｓ７０１）。 - 特許庁

To provide an antenna system which can have a low side lobe of a monopulse difference pattern.例文帳に追加

モノパルス差パターンの低サイドローブ化を実現したアンテナ装置を提供すること。 - 特許庁

THICK FILM SUBSTRATE PRINTING PATTERN FORMATION METHOD FOR MOUNTING CHIP HAVING RECESSED FILM LEVEL DIFFERENCE例文帳に追加

凹膜段差を有するチップ実装用厚膜基板印刷パターン形成方法 - 特許庁

A difference graphic pattern 3 is obtained from correction mask pattern data 2 and original mask pattern data 1, and computer micrographics-macrographics 4 and area comparison 5 are performed.例文帳に追加

補正マスクパターンデータ２と原マスクパターンデータ１から差分図形パターン３を求め、縮小−拡大図形演算処理４と面積比較処理５を行う。 - 特許庁

A memory 12 stores a vibration pattern of a vibration unit 10, a light-emitting pattern of a light emitting part 7, and a pronunciation pattern of an electronic sound, corresponding to the distance difference.例文帳に追加

メモリ１２には、この距離の差に応じた、バイブレーションユニット１０の振動パターン、発光部７の発光パターン、及び電子音の発音パターンが記憶されている。 - 特許庁

To prevent peeling of a conductive pattern from a ceramic board which is caused by the difference in thermal expansion coefficient between the ceramic board and the conductive pattern.例文帳に追加

セラミック板と導電パターンとの熱膨張率差に起因するセラミック板からの導電パターンの剥離を防止する。 - 特許庁

To provide a pattern formation method capable of processing a fine pattern having a high aspect ratio, a plurality of level difference structures, etc.例文帳に追加

高アスペクト比、複数の段差構造などを有する微細パターンの加工が可能なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

A sequence code can be established by determining the phase difference of the random pattern 11.例文帳に追加

ランダムパターン１１の位相差を決定して、シーケンス・コードを確立することができる。 - 特許庁