「difference pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(22ページ目) - Weblio英語例文検索

To prevent the occurrence of dispersion between developing pattern size near one end of a substrate and that near the other end due to a time difference in the feed of a developer in a developing method using a developing device for scanning a semiconductor substrate having an exposed photosensitive resin film with a rod-like developer discharge nozzle having a size corresponding to the diameter of the semiconductor substrate, in the still state of the substrate.例文帳に追加

露光された感光性樹脂膜を有する半導体基板を静止した状態で、この基板の直径に対応した大きさを有する棒状現像液吐出ノズルを走査させるようにした現像装置を用いる現像方法において、基板の一端付近と他端付近の現像パターン寸法が現像液供給の時間差でばらつくのを防止する。 - 特許庁

To prevent the variation in developing pattern size near one end of a substrate and near the other end due to a time difference in the feed of a developer, in a developing method using a developing device for scanning a semiconductor substrate having an exposed photosensitive resin film with a rod-like developer jetting nozzle having a size corresponding to the diameter of the semiconductor substrate, in the still state of the substrate.例文帳に追加

露光された感光性樹脂膜を有する半導体基板を静止した状態で、この基板の直径に対応した大きさを有する棒状現像液吐出ノズルを走査させるようにした現像装置を用いる現像方法において、基板の一端付近と他端付近の現像パターン寸法が現像液供給の時間差でばらつくのを防止する。 - 特許庁

It becomes possible to form equal dimension of photoresist pattern by exposure and development after applying and forming the photoresist in forming a vial hole 110 in roughly equal condition in each of the wirings different in width dimension, and it becomes possible to form dual damascene wirings equal in contact resistance, by equalizing the dimensions of each via hole of each wiring difference in width dimension.例文帳に追加

ヴィアホール１１０を形成する際のフォトレジストを、幅寸法の異なる配線のそれぞれにおいてほぼ均一な状態で塗布形成し、露光、現像により均一な寸法のフォトレジストパターンを形成することが可能になり、幅寸法の異なるそれぞれの配線の各ヴィアホールの寸法を均一化し、コンタクト抵抗が等しいデュアルダマシン配線を形成することが可能になる。 - 特許庁

An operator selects a third image 1803 area of the same size as a template from a predetermined first image called a template for pattern matching, a second image larger than the template (or an image of a subject), performs the template matching of the first image with the third image while translucently displaying the template, and displays the similarity difference information thereof.例文帳に追加

パターンマッチングのためのテンプレートと呼ぶ予め定められた第一の画像と、そのテンプレートより大きい第二の画像（即ち、被検体の画像）の中からオペレータが、テンプレートと同じ大きさの第三の画像１８０３領域を選択し、第一の画像と第三の画像とのテンプレートマッチングをテンプレートを半透明表示しながら行い、その類似度差分情報を表示する。 - 特許庁

The fuel cell power generation system 1 makes hydrogen react with oxygen to generate power and supply heat based on a predetermined operation pattern, generates power within a first maximum operation time per unit time based on life prediction in a target life period, and calculates a difference between a target operation time within the life period and a target operation time until a predetermined period.例文帳に追加

水素と酸素を反応させ、所定の運転パターンに基づいて発電、熱供給を行う発電する燃料電池発電システム１において、目標とする寿命期間に対し、寿命予測に基づく単位時間あたりの第１の最大運転時間内で発電するものであり、寿命期間内の目標とする運転時間と所定期間までの運転時間の差を計算する。 - 特許庁

The method for manufacturing the patterned polyimide precursur film comprises subjecting the photoresist film on a polyimide pattern to a heat treatment for 30 seconds to 30 minutes at a temperature ranging from 40 to 100°C within 30 minutes, before a process of peeling the photoresist film with a peeling liquid after patterning the polyimide precursur film formed on a semiconductor wafer, having a difference in level of ≥2 microns with the photoresist.例文帳に追加

２ミクロン以上の段差を有する半導体ウエハ上に形成されたポリイミド前駆体被膜をフォトレジストでパターン加工した後、ポリイミドパターン上のフォトレジスト被膜を剥離液で剥離する工程の前６０分以内に、４０〜１００℃の範囲の温度で３０秒〜３０分間の加熱処理を施すことを特徴とするパターン化されたポリイミド前駆体被膜の製造方法。 - 特許庁

This fermentation yeast discrimination method includes amplifying the genome DNA of the fermentation yeast by a PCR method using a primer for amplifying a part or whole of a DNA sequence containing FLO5 gene and YHR213W gene or YAR062W gene, electrophoresing their amplified gene fragments or electrophoresing the amplified gene fragments after a restriction enzyme treatment, and then discriminating the yeast by the difference of the pattern of the electrophoresis.例文帳に追加

醸造用酵母のゲノムＤＮＡをＦＬＯ５遺伝子及びＹＨＲ２１３Ｗ遺伝子又はＹＡＲ０６２Ｗ遺伝子を含むＤＮＡ配列の一部又は全部を増幅させるプライマーを用いて、ＰＣＲ法にて増幅させ、それら増幅させた遺伝子断片を電気泳動し、又は制限酵素処理したのち電気泳動し、その電気泳動のパターンの違いにより酵母を判別する。 - 特許庁

To provide a heat exchange plate capable of improving heat exchanging efficiency through plates by optimizing heat transferring performance between each fluid and the plates by applying an irregular pattern to set two kinds of clearances between the plates in a state of constituting a heat exchanger, and making two kinds of clearances cope with difference in properties of the heat exchange fluids circulated in the clearances.例文帳に追加

熱交換器を構成した状態で各プレート間の間隔を二種類設定する凹凸パターンを採用して、二種類の隙間をこれに流通させる各熱交換用流体の性質の違いに対応するものとして各流体とプレートとの熱伝達性能を最適化でき、プレートを介した熱交換の効率を向上させられる熱交換用プレートを提供する。 - 特許庁

In a fixed pattern section in a transmission frame, a modulator input in-phase component (or modulator input quadrature component) corresponding to an input in-phase component (or quadrature component) is input into a phase control circuit via a comparator to detect a phase shift, and information about the phase difference is input into a phase shifter to correct the phase of the carrier wave.例文帳に追加

送信フレーム内の固定パターン部において、入力同相成分（または直交成分）と対応する変調器入力同相成分（または変調器入力直交成分）をコンパレータを介して位相制御回路に入力して、位相のずれを検出し、当該位相のずれの情報を移相器に入力して搬送波信号の位相補正を行なう。 - 特許庁

This optical lens includes a refractive lens and a hologram lens having a chromatic aberration compensating function, and the hologram lens is formed in a shape of concentric circular relief pattern on a plane of a member different from the aforementioned refractive lens, wherein the chromatic aberration caused by the difference in a wavelength of the refractive lens is compensated by the chromatic aberration compensating function provided in the hologram lens.例文帳に追加

屈折型のレンズと、色収差補正作用を持つホログラムレンズを具備し、前記ホログラムレンズは、前記屈折型のレンズとは別個の部材の平面上に同心円状のレリーフパターン形状に形成されており、前記ホログラムレンズの有する色収差補正作用によって、前記屈折型レンズの波長の違いに起因する色収差を補正することを特徴とする光学レンズ。 - 特許庁

After ITO electrodes 2 are formed as an electrode pattern of a conductor material on a glass substrate 1 as an insulating substrate, the electrode surface of an electrode end of opposing electrode surfaces of ITO electrodes 2 possibly generating a potential difference, and the surface of the glass substrate 1 between the opposite electrodes are subjected to water repellent processing, thus forming a water repellent layer 3.例文帳に追加

絶縁性基板としてのガラス基板１上に導体材料による電極パターンとしてのＩＴＯ電極２を形成後、電位差の生じ得る互いに対向するＩＴＯ電極２の電極表面のうち互いに対向する電極端部の電極表面と、該対向する電極間のガラス基板１表面とに撥水処理を施し、撥水層３を形成する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display panel wherein a pattern of a transparent pixel electrode can be highly accurately formed in the liquid crystal display panel wherein a display state of a pixel is controlled by controlling electric potential difference between the pixel electrode and a counter electrode opposed to the pixel electrode via a liquid crystal, and to provide a manufacturing method of the liquid crystal display panel.例文帳に追加

本願課題は、画素電極と、画素電極に液晶を介して対向する対向電極との間の電位差を制御することによって、画素の表示状態を制御する液晶表示パネルであって、透明画素電極のパターンを高精度に形成することを可能にする液晶表示パネル、及びそのような液晶表示パネルの製造方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a surface mounting type ceramic substrate which prevents crack at a bonding part between an external connecting electrode and a conductor pattern of a wiring board due to difference of coefficient of thermal expansion of a ceramic substrate main body and the wiring board, and prevents crack at the ceramic substrate main body due to tensile stress generated in the ceramic substrate main body.例文帳に追加

セラミック基板本体と配線基板との熱膨張率差に起因して、外部接続用電極と配線基板の導体パターンとの間に介在する接合部にクラックが発生するのを防止することができ、且つ、セラミック基板本体に生じる引っ張り応力に起因してセラミック基板本体にクラックが発生するのを防止することができる表面実装型セラミック基板を提供する。 - 特許庁

In the second process, the resist layer 6 is leveled to generate a difference in exposure amount needed for insolubilization between the resist layer 6 on the pedestal formation region 1a and the resist layer 6 on the pedestal non-formation region 1b, and in the third process, exposure conditions of the exposure light are so set that the resist pattern is formed in the pedestal formation region 1a in the fourth process.例文帳に追加

そして、第２工程でレジスト層６を均すことにより、台座形成領域１ａ上のレジスト層６と台座非形成領域１ｂ上のレジスト層６との間に、不溶化するのに必要な露光量の差を生じさせ、第４工程にて台座形成領域１ａにレジストパターンが形成されるように、第３工程にて露光光の露光条件を設定する。 - 特許庁

By obtaining light intensity distribution of an information recording region consisting of an information recording part and an information record background part on the information recording medium, i.e., the intensity difference between a regular reflection light intensity from the information recording part and that from the information record background part, the recorded information is acquired as an information pattern and the information authentication is reliably performed.例文帳に追加

そして、情報記録媒体上の情報記録部と情報記録背景部から構成される情報記録領域の光強度分布、すなわち、情報記録部からの正反射光強度と情報記録背景部からの正反射光強度の強度差を得ることで、情報パターンとしての記録情報を取得し、情報認証を確実に行えるようにした。 - 特許庁

The center server machine 8 detects a difference in color between the print-out 336 of a test pattern and the master sheet 337 from the up-loaded read image data, and the printer 3A or 3B as an object for investigation draws up a new printer ICC profile expressing the present color space according to the detection result, and updates the corresponding printer ICC profile in the printer ICC profile data base 330.例文帳に追加

センタサーバマシン８は、そのアップロードされた読取イメージデータから、テストパターンのプリントアウト３３６とマスタシート３３７との間のカラーの違いを検出し、その検出結果に基づいて、調査対象のプリンタ３A又は３Bの現在のカラースペースを表した新しいプリンタICCプロファイルを作成し、プリンタICCプロファイルデータベース３３０内の対応するプリンタICCプロファイルを更新する。 - 特許庁

Each LED element 3 for composing an LED array panel 1 is arranged around an optical axis 72 at angles having a difference of 90 degrees, a light having an intensity distribution with a fixed pattern being outputted from each LED element 3 is overlapped for averaging, and the intensity distribution of illumination light outputted from the LED array panel 1 becomes nearly uniform over the irradiation surface.例文帳に追加

ＬＥＤアレイパネル１を構成する各々のＬＥＤ素子３を、その光軸７２の回りに９０度異なる角度で配置し、個々のＬＥＤ素子３から出力される一定のパターンの強度分布を持つ光を重ね合わせて平均化し、ＬＥＤアレイパネル１から出力される照明光としては照射面で強度分布がほぼ一様となるようにする。 - 特許庁

To provide an LED unit which can prevent a joining portion connecting an electrode of a surface mounted LED and the end of a circuit pattern of a wiring board from cracking or peeling off from the electrode of the surface mounted LED due to a difference in the coefficient of thermal expansion between the surface mounted LED and the wiring board, and then can improve reliability.例文帳に追加

表面実装型ＬＥＤと配線基板との熱膨張率の差に起因して、表面実装型ＬＥＤの電極部と配線基板の回路パターンにおける端子部との間を接続している接合部にクラックが生じたり接合部が表面実装型ＬＥＤの電極部から剥離したりするのを防止することができ、信頼性を高めることができるＬＥＤユニットを提供する。 - 特許庁

Difference arithmetic operation between confocal image data Aij including a non-confocal component obtained by passing through the random pinhole pattern part of a rotary disk 4 for obtaining the confocal image data Cij and non-confocal image data Bij obtained by passing through an aperture part is performed by reading out the data from an LUT 13, and the confocal image is outputted based on the confocal image data Cij.例文帳に追加

共焦点画像データＣijを求めるための回転ディスク４のランダムピンホールパターン部４ａを通過して得られた非共焦点成分を含む共焦点画像データＡijと開口部４ｂを通過して得られた非共焦点画像データＢijの差分演算を、ＬＵＴ１３からのデータ読出しで行い、この共焦点画像データＣijを基に共焦点画像を出力する。 - 特許庁

The phase difference filter for stereoscopic vision display device is constituted by alternately arranging a 1st area where only a 1st image is made visible and a 2nd area where only a 2nd image is made visible in two-dimensional checkered pattern on a display panel for stereoscopic image so that stereoscopic vision is enabled according to right and left image distribution states.例文帳に追加

立体画像用表示パネルに装着され、左右の画像分布状態にあわせて立体視させることができるように配置され、第一の画像だけを可視状態とする第一領域及び第二の画像だけを可視状態とする第二領域とが平面的に交互に配置される市松模様をなすように配置して立体映像表示装置用位相差フィルタを構成した。 - 特許庁

To prevent the variation in developing pattern size near one end of a substrate and that near the other end due to a time difference in the feed of a developer, in a developing method using a developing apparatus for scanning a semiconductor substrate having an exposed photosensitive resin film with a rod-like developer jetting nozzle having a size corresponding to the diameter of the semiconductor substrate, in the still state of the substrate.例文帳に追加

露光された感光性樹脂膜を有する半導体基板を静止した状態で、この基板の直径に対応した大きさを有する棒状現像液吐出ノズルを走査させるようにした現像装置を用いる現像方法において、基板の一端付近と他端付近の現像パターン寸法が現像液供給の時間差でばらつくのを防止する。 - 特許庁

To provide a cornea shape analysis apparatus capable of detecting the state of opening of eyelids of a subject by using a reflection image of the iris pattern if the difference of quantities of reflection light from the iris region and the eyelid region is not clearly discriminated, and starting the measurement when it is determined that a sufficient region on a cornea for the measurement is secured.例文帳に追加

角膜形状解析装置において、虹彩領域とまぶた領域からの反射光量の違いを、明確に判定できない場合において、虹彩パターンの反射像を用いて被検者の開瞼状態の検知を行うことを可能にし、計測に十分な角膜上の領域を確保していると判断した場合に、計測開始を行うことができる角膜形状解析装置を提供する。 - 特許庁

To provide blended yarn fabric of cotton and polyester in which shade of color can be developed from the difference of dyeing property of cotton and polyester to hydrophilic dye and various pattern can be developed in a simple process by adequately selecting at least two kinds of yarns from cotton yarn and polyester fiber or cotton/polyester blended yarn to form a fabric and dyeing the resultant fabric with a hydrophilic dye.例文帳に追加

本発明は、綿糸、ポリエステル繊維又は綿・ポリエステル混紡糸から少なくとも２種類を適宜選択して織物を形成し、親水性染料により染色を施すことにより、綿とポリエステルの親水性染料に対する染色性の違いにより、濃淡を発現させ、様々な図柄を簡単な工程で発現させることができる綿・ポリエステル混紡織物を提供することを目的とする。 - 特許庁

The base recording strategy adjustment means includes: a pulse width dependency measurement control means 42a measuring the pulse width dependency on a difference in each reproduction signal modulation degree by reproducing each test pattern recorded for each erasure power condition; and a base pulse width selection control means 42b determining the optimum base pulse width for obtaining approximately the constant reproduction signal modulation degree independently of the erasure power condition.例文帳に追加

ベース記録ストラテジ調整手段は、各消去パワー条件毎に記録された各テストパターンを各々再生させ各再生信号変調度の差分に関するパルス幅依存性を測定するパルス幅依存性測定制御手段（４２ａ）、消去パワー条件に依存せず概ね一定の再生信号変調度が得られる最適ベースパルス幅を決定するベースパルス幅選択制御手段（４２ｂ）を含む。 - 特許庁

The method includes the steps of (a) forming a thin film on a substrate by coating it with an organometallic compound, (b) removing the film of the organometallic compound of the unexposed part with solvent, after decomposing the organometallic compound by exposure with masks to induce difference in solubility between exposed and unexposed parts and (c) forming a metal or metal oxide pattern reducing or oxidizing the exposed part.例文帳に追加

（ａ）有機金属化合物を基板上にコートして薄膜を形成する段階と、（ｂ）マスクを用いた露光によって前記有機金属化合物を分解させて露光部と非露光部との溶解度差を誘発させた後、溶媒を用いて前記非露光部の有機金属化合物薄膜を除去する段階と、（ｃ）前記露光部を還元または酸化処理して金属または金属酸化物パターンを形成する段階とを含む。 - 特許庁

A microcomputer 10 reads detected temperatures from an indoor temperature sensor 6, accumulates an operation time of each component by the detected temperatures, calculates the volume of temperature stress of each component from each detected temperature and the operation time by the detected temperature, corrects the volume of the temperature stress using temperature difference data in accordance with an operation pattern and writes it in an indoor storage component 11 during an air conditioning mode.例文帳に追加

マイコン１０は、空調運転モード中、室内温度センサ６からの検出温度を読み込んで、検出温度毎に各構成部品の動作時間をそれぞれ積算し、各検出温度とその検出温度毎の動作時間とからそれぞれ構成部品の温度ストレス量を算出し、かつ運転パターンに応じた温度差データを用いてその温度ストレス量を補正し、室内記憶部１１に書き込む。 - 特許庁

The circuit for aligning the print position comprises a plurality of thermal heads, synchronization pattern sensors 11, 12 and 13 associated therewith, and a section 24 for calculating the phase difference of mark positions detected by these sensors.例文帳に追加

本発明のプリンタ印刷位置合わせ回路は、複数のサーマルヘッドと、これに付随する同期パターン検出センサ１１、１２、１３、これらの同期パターン検出センサが検出したマーク位置の位相差を算出する位相差計算部２４を有し、また同期パターン検出センサ１１、１２、１３が紙に印刷されたマークの間隔を検出し、このマークの検出動作を行う毎にカウントアップするカウンタと、マーク間の間隔距離の初期値を保持する初期値保持手段を有する。 - 特許庁