「difference pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(13ページ目) - Weblio英語例文検索

To obtain a high-quality phase shift mask with high reliability, suppressing generation of haze on the surface without degrading control of pattern dimensions and a phase difference with higher accuracy.例文帳に追加

より高精度なパターン寸法及び位相差の制御を損なうことなく、表面におけるヘイズの発生を十分に抑止し、信頼性の高い高品質の位相シフトマスクを実現する。 - 特許庁

To provide a thick film substrate printing pattern formation method for mounting a chip having a recessed film level difference which prevents the misalignment of a chip relative to a substrate even if the chip is soldered to the substrate through solder reflow.例文帳に追加

はんだリフローによりチップを基板にはんだ付けしても位置ずれの生じない凹膜段差を有するチップ実装用厚膜基板印刷パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

"White", "black", "red", "green", and "blue" are set as the data display colors, "white" and "black" of high contrast difference are set to a positioning pattern 2a, and "white" are set to other parts combining with other colors.例文帳に追加

データ表示色として「白」「黒」「赤」「緑」「青」を設定し、位置決めパターン２ａに、コントラストの大きい「白」と「黒」を設定し、他の部分に「白」と他の色を組み合わせて設定する。 - 特許庁

A matching part 206 performs matching of the count value of the number of strokes, the character characteristic and a standard pattern 207 and outputs a character whose difference is the smallest as a recognition result 208.例文帳に追加

マッチング部２０６が、ストローク数カウント値、および文字の特徴と、標準パタン２０７とのマッチングを行い、差が一番少ないものを認識結果２０８として出力する。 - 特許庁

The computer 13 is provided previously with a reference image and its edge image and pattern matching is performed between an acquired image and the reference image in order to determine a difference image.例文帳に追加

コンピュータ１３には予め基準画像および基準画像のエッジ画像が準備されており、取得画像と基準画像とのパターンマッチングが行われた後に差分画像が求められる。 - 特許庁

A projection pattern is a combination of 7 kinds of luminance stripes formed by dividing 256 gradations into 6 steps, and arrangement is adopted so that each set of adjacent stripe does not have one-step level difference.例文帳に追加

投影パターンは２５６階調を６段階に分けた７種類の輝度ストライプの組み合わせであるが，隣り合うストライプ同士が１段階のレベル差にならないように配置する。 - 特許庁

A pattern for correcting is formed on the photosensitive body drum only by beams (L1, LN) of both ends of beams arranged in a sub scanning direction for detecting the difference of main scanning lengths of individual beams.例文帳に追加

各ビームの主走査長差を検知するために、副走査方向に配列されたビームのうちの両端のビーム（Ｌ１，ＬＮ）のみで補正用パターンを感光体ドラム上に形成する。 - 特許庁

An offset value is added to the intensity difference (including the sign), located in the RANK and assigned with the RANK in the process S3, a repeated pattern is removed, and intensity X' of the target pixel is obtained (S6).例文帳に追加

ＲＡＮＫに位置する処理Ｓ３でＲＡＮＫを付けた輝度差（符号を含む）に、オフセット値を加えて繰り返しパターンを除去し、注目画素の輝度Ｘ’を得る（Ｓ６）。 - 特許庁

To provide an image processing apparatus for suppressing noise and level difference in gradation that is easily generated in the gradation region while restricting the generation of periodical pattern and roughness of image.例文帳に追加

画像の周期的なパターンやザラツキの発生を制限した上で、雑音及びグラデーション領域で発生しやすい階調段差を抑制するようにした画像処理装置を提供する。 - 特許庁

The difference between the recessed parts 38a and the protruded parts 38b is smaller than the wavelength of visible light and the center C of the concentric pattern is set at a position different from the center O of the optical transfer surface 24a.例文帳に追加

そして、この凹３８ａと凸３８ｂの差は可視光の波長よりも小さく、しかも同心状模様の中心Ｃが、光学転写面２４ａの中心Ｏと異なる位置にある。 - 特許庁

To provide a design method of an integrated circuit device capable of reducing characteristic variation of a macrocell due to the difference of an automatic generation part of a dummy pattern for a flattening process of an insulation layer surface; and the like.例文帳に追加

絶縁層表面の平坦化処理用ダミーパターンの自動発生箇所の相違によるマクロセルの特性変動を低減する集積回路装置の設計方法等を提供すること。 - 特許庁

Wiring density, a total perimeter length of wiring, and a range of density difference maximum value where a height variation when CMP (Chemical Mechanical Polishing/Chemical Mechanical Planarization) is performed to a layout pattern is an upper limit are obtained as a critical region.例文帳に追加

レイアウトパターンにＣＭＰを行なった際の高さばらつきが指定された上限となる配線密度、配線周囲長、密度差最大値の範囲をクリティカル領域として求める。 - 特許庁

By using this, a production system is provided which is effective to an observer by utilizing that a presentation pattern of the combination of color material is changed according to the difference of the illumination source.例文帳に追加

これを用いて、照明源の違いに応じて色材の組合せ体の表現パターンに変化をもたせることが可能である事を利用して看者に対し有効な演出システムとする。 - 特許庁

To provide a natural leather having a pattern formed by causing the difference of gloss recognized by a watching angle while keeping the high-quality feeling and texture which are characteristics of the natural leather, and also having good design.例文帳に追加

天然皮革の特徴である高級感や風合いを保ちつつ、見る角度によって光沢差が生じることにより模様を有する、意匠性に富んだ天然皮革を提供する。 - 特許庁

To provide a simple acceleration and deceleration pattern generator capable of following a target input value by a curve of second order integration by improving change like a difference in steps and causing no torque shock.例文帳に追加

段差的変化を改良して２階積分の曲線で目標入力値に追従せしめ、トルクショックのない簡便な加減速パターン発生装置を提供するものである。 - 特許庁

The correlation with deformation of the pattern of the phase shift mask due to the difference in light intensity between a shifter part and a non-shifter part of the phase shift mask by waveguide effect is stored in a rule base.例文帳に追加

導波路効果による位相シフトマスクのシフタ部と非シフタ部との間の光強度の違いに起因する位相シフトマスクのパターンの変形との相関関係をルールベース化する。 - 特許庁

Similarly, a metal film 23 is laminated only in an area outside the seal part 4 of the extension electrode pattern 22 to reduce a wiring resistance difference between other-side electrodes 18.例文帳に追加

同様に各他方電極１８の間にて、配線抵抗差を減少させるべく、延在電極パターン２２のシール部４外の領域のみに対し、金属膜２３を積層する。 - 特許庁

To provide a photomask and a method for manufacturing a semiconductor device capable of suppressing a difference in exposure amounts at a boundary between a circuit pattern area and a multiple exposure area when performing a step exposure.例文帳に追加

ステップ露光の際、回路パターン領域と多重露光領域との境界部の露光量の差を抑えることが可能なフォトマスク及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

A control unit 18 controls a Y direction position for the conductive pattern 110 of the sensor 14 on the basis of a difference between the voltage signals detected by the two tracking electrodes 30a and 30b.例文帳に追加

制御部１８は、二つのトラッキング電極３０ａ，３０ｂで検知された電圧信号の差分に基づいて、センサ１４の導電パターン１１０に対するＹ方向位置を制御する。 - 特許庁

To improve the taper shape or the phase difference accuracy of a mask pattern after dry etching working by controlling the etching rate of each layer of a multilayer half tone blanks.例文帳に追加

多層膜ハーフトーンブランクスの各層のエッチングレートを制御することで、ドライエッチング加工後のマスクパターンのテーパー形状の改善や位相差精度の向上を図ることを目的とする。 - 特許庁

To obtain a diffraction lens formed into an approximate shape with high accuracy by a simple expression formula in the process of converting an optical pass difference function into a practical diffraction relief pattern having steps.例文帳に追加

光路差関数から実際の段差のある回折レリーフ形状に変換する過程において、簡易表現式により高精度の近似形状により作られた回折レンズを提供。 - 特許庁

To significantly reduce the dimensional difference in a resist pattern between a clear field region and a dark field region caused by local flare on exposing using a photomask.例文帳に追加

フォトマスクを用いて露光する時に、ローカルフレアが原因で発生するクリアフィールド領域とダークフィールド領域とのレジストパターンの寸法差を著しく小さくすることを目的とする。 - 特許庁

Thus, two values before/after the first zero cross point after crossing the slice level in the eye pattern are obtained to restrict the amplitude of the difference signal DRF-S.例文帳に追加

これにより、アイパターンにおけるスライスレベルを横切った後の最初のゼロクロス点の前後における２つの値を求め、この値によって差信号ＤＲＦ−Ｓの振幅を制限する。 - 特許庁

After lighting the LED 2, the light emission pattern and emission luminance of the LED 2 are changed according to the difference of a sound detection signal from a sound sensor 3 from a reference value or the magnitude of the variation thereof.例文帳に追加

また、ＬＥＤ２の点灯後、音センサー３からの音検知信号の基準値との差または変化の大きさに応じてＬＥＤ２の発光パターンおよび発光強度が変化される。 - 特許庁

A part input key 7 designates and inputs a part where a symptom appears on the basis of difference of operation position of a push button with a pattern of a human body image and a push button switch provided at each part of the human body image.例文帳に追加

部位入力キー７は、人体像の模様とその各部位に設けた押しボタンスイッチにより、症状が現れた部位を押しボタンの操作位置の違いで指定入力する。 - 特許庁

The difference between a reproduced signal from a magnetic domain 80 sandwiched by the test patterns 98 and 99 of the test pattern 96 and a reproduced signal from an unsandwiched magnetic domain 82 is calculated for each recording light quantity of the test patterns 98 and 99.例文帳に追加

テストパターン96のテストパターン98,99に挟まれた磁区80からの再生信号と、挟まれていない磁区82からの再生信号との差を、テストパターン98,99の記録光量毎に求める。 - 特許庁

Furthermore, a relationship between the level difference D and the dimensions L1 and L2 is compared with a focus dimension theoretical curve 11 that is calculated by measuring a relationship between the focal position of the focus confirmation pattern and the pattern dimension beforehand, thereby finding out an appropriate focus position.例文帳に追加

次に前記段差量Ｄと前記寸法Ｌ１及びＬ２の関係から、予めフォーカス確認用パターンの焦点位置とパターン寸法の関係を測定し算出した焦点寸法理論曲線１１と比較することにより、最適フォーカス位置を求める。 - 特許庁

To provide an image processing method enabling improvement of image quality when outputting as one image by absorbing a difference between characteristics of picture pattern regions in the case that the picture pattern regions from a plurality of sources are mixed on the same manuscript.例文帳に追加

複数のソースからの絵柄領域が同一原稿内に混在している場合に、それぞれの絵柄領域の特徴の差を吸収して一枚の画像として出力した際の画質の向上を可能とした画像処理方法の提供を主たる目的とする。 - 特許庁

However, when the electric charging and discharging management device receives an NG report from an HV control part (530) or difference between the vehicle speed pattern shown by the running history and current vehicle speed pattern exceeds the reference value or more, the management device stops the control by the HV control part based on the charging plan in the electric charging and discharging control.例文帳に追加

ただし、ＨＶ制御部からＮＧ通知を受けるか（５３０）、走行履歴の示す車速パターンと現在の車速パターンの乖離が基準幅以上となった場合、充放電制御は、充電計画に基づいたＨＶ制御部の制御を中止する。 - 特許庁

To perform appropriate correction in order to suppress dimension nonuniformity in the plane of a semiconductor substrate or between the semiconductor substrates to the minimum by suppressing influence from the circumference of a pattern to the minimum when exposing the pattern which is fine with a large difference in crude density.例文帳に追加

微細且つ密度の粗密差の大きいパターンを露光する際に、当該パターンの周囲からの影響を最小限に抑え、半導体基板面内や半導体基板間における寸法ばらつきを最小限に抑えるべく適切な補正を実現する。 - 特許庁

Correction value generating means 41 generates a correction value for the pixel position of each pixel having the same arrangement pattern, the correction value being used for correcting the nonuniformity in pixel characteristics caused by a difference in position between the pixels in the arrangement pattern.例文帳に追加

補正値生成手段４１は、共有画素を構成する画素の画素データのそれぞれについての、配列パターン内における各画素位置の違いに起因する画素特性の不均一性を補正するための補正値を、配列パターン内における各画素位置毎に生成する。 - 特許庁

To give sensation of sight which clarifies a difference in two patterns in a display which has a light scattering pattern formed by surface fine ruggedness and a grating pattern upon the change of observation conditions by brightening both patterns white similarly.例文帳に追加

表面の微細な凹凸により形成される光散乱パターンと回折格子パターンとを有するディスプレイにおいて、双方のパターンが同様に白色で光って見えるようにし、観察条件の変化に伴って、両者の差異が明らかとなるような視覚効果を持たせる。 - 特許庁

To provide a decorative article with a metallic thin coating film, which does not have a clearly defined level difference formed between a pictorial pattern part and a pictorial pattern background part, as a decorative layer, and a method for manufacturing this decorative article in a simple operating way.例文帳に追加

加飾層として、絵柄部分と絵柄背景部分の間に明確な段差が形成されていない金属薄膜を有する加飾された物品を提供すること、及びそのような加飾された物品を簡便な操作によって製造する方法を提供すること。 - 特許庁

The irradiation of the composition with radiations through a pattern mask decomposes the components (C) and (A) at the irradiated part to produce a difference in refractive index between the irradiated part and the unirradiated part, thus forming a pattern different in refractive index.例文帳に追加

この組成物にパターンマスクを介して放射線を照射することにより、放射線照射部の上記（Ｃ）成分および（Ａ）成分が分解し、放射線照射部と放射線未照射部との間に屈折率の差を生じ、屈折率が異なるパターンが形成される。 - 特許庁

In a phase difference servo burst pattern contained in servo information buried and recorded in the servo area of a disk medium by a DTR method, the tilting state of the burst pattern is set in the same direction as that of the in-line angle of a head in a single tilting direction.例文帳に追加

ＤＴＲ方式により、ディスク媒体上のサーボ領域に埋め込み記録されたサーボ情報に含まれる位相差サーボバーストパターンにおいて、当該バーストパターンの傾斜状態を単一傾斜方向で、ヘッドのインライン角と同一方向に設定した構成である。 - 特許庁

To provide an electroformed body on the surface of which a pattern, which has optional design properties such as a letter and a picture pattern, decorative properties and visibility, is formed by using a metal layer comprising a metallic material different from that of the electroformed body so that the metal layer has no difference in level and to provide a method for producing the electroformed body.例文帳に追加

表面に電鋳体とは異なる金属材料からなる金属層により文字、絵模様等任意のデザイン性、装飾性、視認性を有するパターンが形成され、この金属層に段差がない電鋳体とその製造方法を提供する。 - 特許庁

The optical image of the mask is acquired and the shift quantity of the best focus position from the center of the focus of the halftone mask part 10a when the center of the focus of the light shielding pattern parts 10b as an origin is derived and the evaluation of the phase difference in the real pattern is executed.例文帳に追加

そして、このマスクの光学像を取得し、遮光膜マスク部１０ｂのフォーカスの中心を原点としたときの、ハーフトーン膜マスク部１０ａのフォーカスの中心からのベストフォーカス位置のシフト量を導出して、実パターンでの位相差の評価を行う。 - 特許庁

As a result, since a slight difference between the peaks of the standard pattern and the measurement pattern, and the acuities of the peaks, are used as information, this method can identify the material of the object with higher accuracy than conventional material identification methods which use only the positions of the peaks as information.例文帳に追加

この結果、標準パターンおよび測定パターンのピークの若干のずれ、また、ピークの鋭敏度などを情報とするので、ピークの位置のみを情報とする従来の材質識別方法と比較して、さらに正確に対象物の材質を識別することができる。 - 特許庁

Further, when the imaging apparatus displays first image data whose layout is coincident with that of an inadequate layout pattern image and second image data whose layout is coincident with that of an optimum layout pattern image side by side on a display section, since it is naturally understandable, the photographer can really feel the difference.例文帳に追加

さらに、不最適構図パターン画像と構図が一致する第１の画像データと、最適構図パターン画像と構図が一致する第２の画像データとを並べて表示部に表示すると、見た目に明らかであるので、撮像者はその違いを実感することが出来る。 - 特許庁

To provide a process for producing a multilayer ceramic body in which a level difference due to a conductor pattern formed on a ceramic green sheet can be eliminated and variance in the area of the conductor pattern can be suppressed by suppressing a blur even when a low viscosity conductor paste is used.例文帳に追加

セラミックグリーンシート上に形成された導体パターンによる段差を解消できるとともに、低粘度の導体ペーストを用いてもにじみを抑制して導体パターンの面積のばらつきを抑えることのできるセラミック積層体の製法を提供する。 - 特許庁

Each interval between a reference color pattern image and a pattern image of each color other than the reference color is determined as an interval for decreasing each difference between a total change amount of the reference color and a total change amount of each color other than the reference color.例文帳に追加

基準色のパターン画像と基準色以外の各色のパターン画像との間の間隔はそれぞれ、基準色についての合計変化量と、基準色以外の各色の合計変化量との差分をそれぞれ低減する間隔として定められる。 - 特許庁

Consequently, the thickness of an insulating layer 4 in the wiring pattern (T) 6 for measurement can be made to coincide with the thickness of the insulating layer 4 of the signal wiring pattern (S) 1 of the measuring object, so that measurement error of characteristic impedance due to difference of thickness of the insulating layers can be reduced.例文帳に追加

これにより、測定用配線パターン（Ｔ）６における絶縁層４の厚みを、測定対象信号配線パターン（Ｓ）１の絶縁層４の厚みに合わせることが可能となり、絶縁層の厚みの違いによる特性インピーダンスの測定誤差を低減できる。 - 特許庁

The phase difference pattern generated by the signal generator 11 is supplied as a signal according to the image to be formed on a liquid crystal display device 13, whereas the pattern is supplied to a light source power supply 14 to vary the luminous energy of a light source 15 comprising a semiconductor laser.例文帳に追加

信号発生器１１で発生された位相差パターンは液晶表示素子１３に形成する画像に応じた信号として供給される一方、光源用電源１４に供給され半導体レーザからなる光源１５の光量を可変する。 - 特許庁

Only the zero order light of a Fourier conversion image (light diffraction pattern) obtained from a phase object placed in a wide measurement visual field, configured by a Fourier conversion lens set in a coherence parallel laser luminous flux is used as a phase difference reference light different from high order diffraction light, and a sharp phase difference image is obtained by causing it to interfere with a phase object image obtained by a high order light diffraction pattern.例文帳に追加

可干渉性平行レーザ光束中に設置されたフーリエ変換レンズで構成される広い測定視界中に置かれた位相物体から得られるフーリエ変換像(光回折パターン)の零次光だけを高次の回折光と異なる位相差参照光として、高次光回折パターンで得られる位相物体像と干渉させて鮮明な位相差画像を得る。 - 特許庁

An index picture generating section 15 and a representative frame selection section 16, which receive a frame difference pattern (motion information data) obtained by a difference pattern calculation section 14 receiving an object video frame and a succeeding video frame, superimpose a video index excluding video data in excess of a black ratio threshold for selection of a video shot on the succeeding video frame and output the superimposed video frame.例文帳に追加

対象映像フレームと後続映像フレームとから差分パターン算出部１４が求めたフレーム差分パターン（動き情報データ）を受けたインデックス画像生成部１５と代表フレーム選択部１６とは映像ショットの切り替えのため黒割合閾値を越えるような映像データを除いた映像インデックスを後続映像フレームに重ね合わせて作成し出力する。 - 特許庁