「difference pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

The organic film pattern is disposed on the lower substrate, and includes a level difference part in a pixel region.例文帳に追加

有機膜パターンは、前記下部基板上に配置され、画素領域に段差部を含む。 - 特許庁

To achieve improvement in visibility by alleviating a difference in brightness at a cut-off line in a light distribution pattern.例文帳に追加

配光パターンにおけるカットオフラインの明暗差を緩和して、視認性の向上を図る。 - 特許庁

A control pattern determiner 13 automatically determines the control pattern of a cooling water pump 26 so as to enlarge the temperature difference ΔT when the temperature difference ΔT is small, and so as to raise the generation efficiency when the temperature difference ΔT is large, based on the temperature difference ΔT.例文帳に追加

制御パターン決定部１３は、温度差ΔＴに基づいて、温度差ΔＴが小さい時には温度差ΔＴを大きくするように、温度差ΔＴが大きい時には発電効率を高めるように、冷却水ポンプ２６の制御パターンを自動的に決定する。 - 特許庁

To prevent a pattern-forming accuracy at each pattern junction from degrading, caused by alignment difference between exposure light and an exposure electronic beam, without making a exposure light pattern or an exposure electron beam pattern to be thick.例文帳に追加

光露光パターンや電子線露光パターンを太らせることなく、光露光と電子線露光の合わせずれに起因する各々のパターンの接続部分でのパターン形成精度劣化を防止する。 - 特許庁

Since the mask pattern is formed on the amorphous silicon film 21 having no level difference, an occurrence of falling caused by a stress difference can be suppressed.例文帳に追加

マスクパターンは、段差のない非晶質シリコン膜２１上に形成されるので応力差に起因した倒れの発生を抑制できる。 - 特許庁

The phase difference abnormality and transmittance difference abnormality are detected, base on the relation to correct the device pattern of the Levenson phase shift mask 4.例文帳に追加

そして、この関係に基づいて、位相差異常及び透過率差異常を検出し、レベンソン位相シフトマスク４のデバイスパターンを補正する。 - 特許庁

Even when difference in etching transformation arises in an etching step, a mask pattern can be generated while considering the variation of the pattern on a wafer due to the difference in etching transformation.例文帳に追加

これにより、エッチング工程でエッチング変換差が発生する場合であっても、エッチング変換差によるウェハ上でのパターンの変動を考慮したマスクパターンを生成することができる。 - 特許庁

The density difference between the first pattern 30 and the second pattern 31 by every position of the LED head is determined and the position where the density difference is maximized is made to be the focusing position of the LED head.例文帳に追加

そして、ＬＥＤヘッドの位置毎の第１パターン３０及び第２パターン３１の濃度差を判断し、濃度差が最大となった位置をＬＥＤヘッドの合焦位置とする。 - 特許庁

A sidewall part 17 of the first step difference pattern 11 and a sidewall part 18 of the second step difference pattern 13 are formed at the same angle and is formed so as to have the same crystal orientation.例文帳に追加

そして、第１段差パターン１１の側壁部１７と、第２段差パターン１３の側壁部１８とが、同一の角度で形成され、かつ同一の結晶方位を有するように形成する。 - 特許庁

Concerning this phased array antenna system, a sum pattern and a difference pattern can be obtained while utilizing the fact that the bore site direction (direction of tracking axis) of the sum pattern is same as that of the difference pattern even when the number of phase shifters capable of adjusting the phase shift quantity is equal to the number of element antennas.例文帳に追加

和パターンと差パターンのボアサイト方向（トラッキング軸の方向）が同じであることを利用して、移相量を調整可能な移相器の数が素子アンテナの数と同じでも和パターンと差パターンを得ることができるフェーズドアレーアンテナシステムを構成する。 - 特許庁

A pattern comparing part 57 compares the variable region code default value (pattern) with the pattern of the recognition result, and searches the difference, that is, which section of the variable region code has been shielded.例文帳に追加

パターン比較部５７は、可変領域コードデフォルト値（パターン）と、認識結果のパターンを比較し、その差分、つまり可変領域コードのどの部分が隠蔽されたかを求める。 - 特許庁

A position having a difference between an actual pattern and a layout pattern of a semiconductor integrated circuit is detected (ST11), a characteristic value is corrected only in the position having the difference to perform the characteristic extraction (ST14), and the characteristic extraction is performed from the layout pattern in a position except the position having the difference (ST13).例文帳に追加

半導体集積回路のレイアウトパターンと実パターンとの間に差異がある個所を検出し（ＳＴ１１）、該差異がある個所のみ特性値を補正して特性抽出し（ＳＴ１４）、前記差異がある個所以外は前記レイアウトパターンから特性抽出する（ＳＴ１３）ように構成する。 - 特許庁

Pattern 1: an expression method producing a first time difference expression to grant an access right to the specific approach road L1, pattern 2: an expression method for producing a second time difference expression to grant an access right to the oncoming approach road L5, and pattern 3: an expression method producing none of the first and second time difference expression.例文帳に追加

パターン１：特定流入路Ｌ１に通行権を与える第１時差現示を出現させる現示方式 パターン２：対向流入路Ｌ５に通行権を与える第２時差現示を出現させる現示方式 パターン３：第１及び第２時差現示をいずれも出現させない現示方式 - 特許庁

In this imprint mold 100, a first mold pattern 40 and a second mold pattern 50 are formed on one surface of a substrate 11, and a first phase difference compensating pattern 45 and a second phase difference compensating pattern 55 are so formed on the other surface of the substrate as to face the first mold pattern 40 and the second mold pattern 50, respectively.例文帳に追加

本発明のインプリントモールド１００は、基板１１の一方の面に第一モールドパターン４０と第二モールドパターン５０が形成され、基板の他方の面に前記第一モールドパターン４０と相対するように第一位相差補正用パターン４５が、前記第二モールドパターン５０と相対するように第二位相差補正用パターン５５がそれぞれ形成されている。 - 特許庁

The system consists of a function that receives the pattern allocated with the commodities, a storage device that records difference information when the unique shelf space allocation pattern is generated on the basis of the previous pattern received, and a pattern generator that generates unique shelf space allocation pattern for the pattern received this time, on the basis of the difference information recorded.例文帳に追加

商品を棚に割り当てたパターンを受信する手段と、前回の受信したパターンをもとに独特の棚割してパターンを作成したときの差分情報を記憶する手段と、受信した今回のパターンに対して、記憶した差分情報をもとに独特の棚割したパターンを作成する手段とを備えるように構成する。 - 特許庁

Correction based on a work conversion difference depending on a pattern at the time of process using a first resist pattern as a mask is performed for the pattern dimension of a first photomask, and correction based on a work conversion difference depending on a pattern at the time of etching process of a film to be processed by using a mask pattern as a mask is performed for the pattern dimension of the first photomask.例文帳に追加

第１のフォトマスクのパターン寸法に対して、第１のレジストパターンをマスクに用いた加工時のパターンに依存する加工変換差に基づく補正を行い、前記第１のフォトマスクのパターン寸法に対して、前記マスクパターンをマスクに用いた前記被加工膜のエッチング加工時のパターンに依存する加工変換差に基づく補正を行う。 - 特許庁

The dimension of the wafer pattern formed by using the first mask and the dimension of the wafer pattern formed by using the second mask are compared and the dimensional difference occurring in the difference of the mask pattern and the dimensional error occurring the other factor are discriminated and detected.例文帳に追加

第１マスクを使って形成したウェハパターンの寸法と、第２マスクを使って形成したウェハパターンの寸法とを比較して、マスクパターンの差に起因する寸法差と、その他の要因に起因する寸法差とを区別して検出する。 - 特許庁

The pattern for leveling management has the first hole pattern for level difference inspection consisting of an approximate circle in the diameter (a) of a plane shape and the second hole pattern for level difference inspection consisting of an approximate circle in the diameter (a) of a plane shape.例文帳に追加

このレベリング管理用パターンは、平面形状が直径ａの略円形からなる第１の段差検査用ホールパターンと、平面形状が直径ａの略円形からなる第２の段差検査用ホールパターンと、を有する。 - 特許庁

The ink flows away from the coating caused by difference in surface tension to form the pattern of raised ink between the pattern and the coating.例文帳に追加

インキは、表面張力の差によって被覆から流れ去り、かくして模様と被覆との間にインキの浮出し模様が形成される。 - 特許庁

To perform accurate gas detection by reducing a drift of an electric signal when a speckle pattern changes by reducing the brightness difference of the speckle pattern.例文帳に追加

スペックルパターンの明暗の差を小さくしてスペックルパターンが変化したときの電気信号のドリフトを低減し正確なガス検出を行う。 - 特許庁

To provide a method for forming a pattern, by which a transfer pattern having a desired level difference in a resist film thickness can be formed on a transfer object body.例文帳に追加

被転写体上に所望のレジスト膜厚段差を有する転写パターンを形成できるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

A pattern contour line 2 is formed on a drawing board 1 in a convex level difference fashion and a plane part 3 partitioned by the pattern contour line 2 is pigmented.例文帳に追加

画板１に図柄輪郭線２を凸段差状に形成し、この図柄輪郭線２で仕切った平面部３を着色する。 - 特許庁

The straightening plates 37 are formed in a staircase pattern approximately in parallel with each other with difference in level.例文帳に追加

整流板３７は、互いに略平行且つ段差を有する階段状に形成されている。 - 特許庁

To provide a method to decide a difference between a reference image of a pattern and additional image.例文帳に追加

パターンの基準イメージと追加イメージとの差を決定するための方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a drawer device capable of appropriately coping with the difference of the allocation pattern of a drawer.例文帳に追加

引出しの割り付けパターンの違いに適切に対応可能とした引出し装置を提供する。 - 特許庁

A pattern detection section 102 classifies patterns based on the difference between extracted pixel levels.例文帳に追加

抽出される画素レベル間の差分に基づいて、パターン検出部１０２がクラス分類を行う。 - 特許庁

The lower the temperature of the etchant is, the larger the potential difference becomes between the seed layer 2 and the circuit pattern 4.例文帳に追加

エッチング液の温度が低いほど、シード層２と回路パターン４との電位差が大きくなる。 - 特許庁

Non-ordinariness scoring processing 215 evaluates the extracted difference from the daily life pattern.例文帳に追加

非日常性スコアリング処理２１５が、抽出された日常の生活パターンとの差異を評価する。 - 特許庁

To form an embossed pattern with which a decorative sheet having matting feeling and matting difference and changing in the difference according to an observing direction can be formed.例文帳に追加

艶消し感を備えると共に、艶差があって、その艶差が見る方向による変化する化粧シートを作成できるエンボスパターンを作成する。 - 特許庁

A difference arithmetic section 92 obtains a difference of video data between the full black image and the test pattern image and output from the imaging element control section 91.例文帳に追加

撮像素子制御部９１から出力された全黒画像とテストパタン画像の映像データの差が差分演算部９２により求められる。 - 特許庁

The difference calculation part 202 calculates the difference between detected template and each element which continues thereafter, and records attribute and value in each pattern.例文帳に追加

差分計算部２０２は、検知されたテンプレートと、それ以後に連続する各要素との差分を計算し、各パターン内の属性及び値を記録する。 - 特許庁

Thus, regardless of the difference in intake port connection pattern, the air resistance difference of the venting passage R can be decreased between the intake port connection patterns.例文帳に追加

これにより、吸気口接続パターンの違いに関わらず、各吸気口接続パターン間における通気路Ｒの空気抵抗差を小さくできる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a conductive pattern-covered body for eliminating definite visibility between a conductive pattern part and a non-conductive pattern part by reducing a difference in color phase, light transmittance and haze value between the conductive pattern part and the non-conductive pattern part; and to provide the conductive pattern-covered body.例文帳に追加

導電性パターン部と非導電性パターン部との色相、光線透過率、ヘイズ値の差異を少なくし、導電性パターン部と非導電性パターン部とが明確に視認されることのない導電性パターン被覆体の製造方法および導電性パターン被覆体を提供するものである。 - 特許庁

This resist pattern measuring method acquires two resist pattern images, measures an inner dimension and an outer dimension of the resist pattern in each resist pattern image, determines which resist pattern is the remaining part (line pattern) or the cut-out part (space pattern), by comparing measured values, and calculates the shrinkage amount, based on a difference between the measured values.例文帳に追加

２枚のレジストパターン画像を取得し、各レジストパターン画像においてレジストパターンの内側寸法と外側寸法を測定し、測定値の比較によってレジストパターンが残し部（Ｌｉｎｅパターン）と抜き部（Ｓｐａｃｅパターン）のどちらであるかを判定するとともに、測定値の差分からレジストのシュリンク量を算出する。 - 特許庁

A light intensity pattern is formed by optical simulation using the pattern data (S13), and a model for specifying the quantity of corrections correlated with the difference in size between the light intensity pattern and the test pattern is developed (S14, S15).例文帳に追加

パターンデータを用いた光学シミュレーションにより光強度パターンを形成し（Ｓ１３）、テストパターンに対する光強度パターンの寸法相違に相関する補正量を規定するモデルを生成する（Ｓ１４，Ｓ１５）。 - 特許庁

In order to reduce the difference between right and left of toner amount depending on an image pattern, the difference of conveying force is reduced by a means for reducing the difference between the right and left of the toner amount, when the difference between the right and left of the printing rate in development of an image is equal to or higher the predetermined one.例文帳に追加

画像パターンによるトナー量の左右差を低減するため、画像の展開時印字率の左右差が所定以上であった場合、トナー量の左右差を低減する手段で、搬送力の差を低減する。 - 特許庁

To provide a mechanism capable of reducing a difference in processed dimensions caused by a difference in density of a pattern, when processing the pattern formed on a semiconductor substrate by chemical reaction with a reactive gas.例文帳に追加

半導体基板に形成されたパターンを、反応性ガスとの化学反応により加工する場合に、当該パターンの疎密差に伴う加工寸法差を低減することができる仕組みを提供する。 - 特許庁

To provide a mask pattern design method for easily and rapidly designing a mask pattern free from a dimensional error caused by a difference of a resist film thickness due to the level difference part of a base layer.例文帳に追加

下地層の段差部によって生じるレジスト膜厚の相違が原因となる寸法誤差を解消したマスクパターンを容易にかつ迅速に設計することが可能なマスクパターンの設計方法を提供する。 - 特許庁

A fingerprint collation part 16 collates a spectrum pattern of the registered fingerprint image with the extracted spectrum pattern and calculates the minimum difference level and displacement quantity of both spectrum patterns when the difference level between the spectrum patterns is minimum.例文帳に追加

指紋照合部１６は、登録指紋画像のスペクトルパターンと抽出されたスペクトルパターンとを照合し、最小相違度と最小相違度となるときの両スペクトルパターンの位置ズレ量を求める。 - 特許庁

An error rate of transmission data is acquired on the basis of difference between the received content of the test pattern data and the transmitted content of the test pattern data.例文帳に追加

そして、テストパターンデータの受信内容と当該テストパターンデータの送信内容との差に基づいて送受信データの誤り率が求められる。 - 特許庁

To provide a long pattern alignment film capable of easily manufacturing a large number of pattern phase difference films.例文帳に追加

本発明は、パターン位相差フィルムを容易かつ大量に製造することが可能な長尺パターン配向膜を提供することを主目的とする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a jacket provided with a net-like pattern without level difference on a surface thereof, having the deep net-like pattern, and reducing cost, time and trouble.例文帳に追加

網状パターンが深く、コストや手間を軽減し、表面に段差などがない網状パターンを設けたジャケットの製造方法を提案する。 - 特許庁

To exactly obtain a distribution of a line width difference between a pattern which is constituted on a mask and a design pattern, or a distribution of positional errors of these patterns.例文帳に追加

マスク上に形成されたパターンと設計パターンとの線幅の差の分布、または、これらのパターンの位置ずれ量の分布を正確に求める。 - 特許庁

The time difference ΔT is variably set, a first pattern is recorded by the ink droplet D1, and a second pattern is recorded by the ink droplet D2.例文帳に追加

時間差ΔＴを可変設定し、インク滴Ｄ１によって第１のパターンを記録し、インク滴Ｄ２によって第２のパターンを記録する。 - 特許庁

At this time, an error due to elapsed variation is detected from the sum pattern, and an error due to posture variation in mounted equipment is detected according to the difference pattern.例文帳に追加

この際、和パターンから経時的な変動による誤差を検出し、差パターンから搭載機器の姿勢変動による誤差を検出する。 - 特許庁