「difference pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

A contraction difference between an insulating substrate 1 and the pattern 2 is absorbed when the bend part 6 is deformed positively.例文帳に追加

絶縁基板１と導体層パターン２との間の収縮差は、曲げ部６が積極的に変形することで吸収する。 - 特許庁

CONCAVO-CONVEX PATTERN FORMING SHEET AND ITS MANUFACTURING METHOD, AND PROCESS SHEET FOR MANUFACTURING REFLECTION PREVENTING BODY, PHASE DIFFERENCE PLATE, AND OPTICAL ELEMENT例文帳に追加

凹凸パターン形成シートならびにその製造方法、反射防止体、位相差板および光学素子製造用工程シート。 - 特許庁

To provide an interferometric lithography system for producing a pattern having a sharp field edge and minimal optical path length difference.例文帳に追加

鋭いフィールドエッジおよび最小の光路長差を有するパターンを生成する干渉型リソグラフィシステムを提供する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus capable of drawing a tiling pattern having a small difference, even if a size of a tile is a decimal value.例文帳に追加

タイルサイズが小数値であっても、ずれの少ないタイリングパタンを描画できる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

SCANNING ELECTRON MICROSCOPE, PATTERN MEASURING METHOD USING THE SAME, AND APPARATUS FOR CORRECTING DIFFERENCE BETWEEN SCANNING ELECTRON MICROSCOPES例文帳に追加

走査型電子顕微鏡及びそれを用いたパターン計測方法並びに走査型電子顕微鏡の機差補正装置 - 特許庁

To provide a method capable of forming a flat metallic pattern excellent in adhesion and free of difference in level through simple steps.例文帳に追加

密着性に優れ、かつ段差のない平坦な金属パターンを簡易な工程で形成することができる方法を得る。 - 特許庁

The management of the rugged step difference amount after the CMP treatment can also be performed by the measuring pattern and the AFM measuring unit.例文帳に追加

なお、ＣＭＰ処理後の凹凸段差量の管理も、測定パターンとＡＦＭ測定装置によって行うことができる。 - 特許庁

To prevent the influence of eccentricity and surface wobbling in an optical disk from causing a difference in learning precision for each pattern.例文帳に追加

光ディスクにおける編心や面ぶれの影響がパターンごとの学習精度に差異をもたらさないようにする。 - 特許庁

A difference between the size of the transparent portion and that of the colorless transparent resin pattern is to be equal to accuracy of alignment of the aligner.例文帳に追加

透明部の寸法と無色透明樹脂パターンの寸法の差が、露光装置の合わせ精度と同一であること。 - 特許庁

At this time, if there is a torque difference in the neighborhood of the switching point of injection pattern, engine rotating speed changes in response to torque steps.例文帳に追加

このとき、噴射パターン切替点前後にトルク差が有る場合、エンジン回転速度はトルク段差に応じて変化する。 - 特許庁

To provide a photomask capable of transferring an appropriate mask pattern to the objective film where a systematic level difference is formed.例文帳に追加

系統的段差が形成された被加工膜に対して適切なマスクパターンの転写が可能なフォトマスクを提供する。 - 特許庁

To provide a material for forming an antireflection film which can enhance the difference in an etching rate between a resist pattern and an antireflection film.例文帳に追加

レジストパターンと反射防止膜とのエッチングレートの差を大きくできる反射防止膜形成用材料を提供する。 - 特許庁

The method includes to decide a reference imaging function, to decide a parameter of a difference function expressing a difference between the reference imaging function and an additional imaging function, and to calculate the difference between the reference image of the pattern and the additional image on the basis of the difference function and decided parameter.例文帳に追加

この方法は、基準結像関数を決定すること、基準結像関数と追加結像関数との差を表す差分関数のパラメータを決定すること、差分関数及び決定されたパラメータに基づいてパターンの基準イメージと追加イメージとの差を計算することを含む。 - 特許庁

Therefore, by judging the examination pattern where the maximum value of the amplitude difference is the smallest to be the best examination pattern, even if the density data is a gradually changing examination pattern, it can be judged as the best examination pattern, to be able to obtain the result of judgement close to a sense of the human being.例文帳に追加

このため、振幅差分最大値が最も小さい検査パターンを最良検査パターンと判定することで、濃度データが緩やかに変化する検査パターンであっても、最良検査パターンと判定でき、人間の感覚に近い判定結果を得ることができる。 - 特許庁

In a step S1, an exposure amount corresponding to the size difference between a sparse pattern and a dense pattern is determined by using first correlation between the exposure amount of pre-acquired exposure light with which an exposure device is irradiated and variations in size of the sparse pattern and dense pattern.例文帳に追加

ステップＳ１では、予め取得された、露光装置で照射する露光光の露光量と疎パターン及び密パターンの各寸法の変化との第１の相関関係を用いて、疎パターンと密パターンとの寸法差に対応した露光量を決定する。 - 特許庁

To provide a photomask which prevents the degradation in pattern accuracy during etching by a difference in aperture ratios from appearing at a chip pattern 11 by improving the unbalance of the aperture ratios between the peripheral region of the chip pattern 11 and the central part of the chip pattern 11 and a method for manufacturing the photomask.例文帳に追加

チップパターン１１の周辺領域とチップパターン１１の中央部との開口率の不均衡を改善し、開口率の違いによるエッチング時のパターン精度低下がチップパターン１１に現れることのないフォトマスク及びフォトマスク製造方法を提供する - 特許庁

The surface of a transparent substrate is provided with colored picture element patterns at least composed of a red picture element pattern, a green picture element pattern and a blue picture element pattern having respectively different retardation, and each colored picture element pattern is respectively provided with a phase difference control layer.例文帳に追加

透明基板上に、それぞれ異なるリタデーションを有する、少なくとも赤色画素パターン、緑色画素パターン、および青色画素パターンからなる着色画素パターンを設け、前記着色画素パターン毎にそれぞれ位相差制御層を設けることにより解決した。 - 特許庁

The method further comprises the steps of storing the imaging pattern suitably adhering the ACF4 to the board 2A in the second memory 74, and storing the difference between the imaging pattern of the memory 74 and the imaging pattern of the memory 73 as a reference pattern in a third memory 75 (second memory).例文帳に追加

次に、基板２ＡにＡＣＦ４が適正に貼付された撮像パターンを第２メモリ７４に記憶し、この第２メモリ７４の撮像パターンと、先の第１メモリ７３の撮像パターンとの差を基準パターンとして第３メモリ７５（第２のメモリ）に記憶する。 - 特許庁

A phase difference monitoring pattern capable of measuring a phase difference on the way of fabricating a phase shifting mask is created and the engraving quantity of a translucent substrate on a phase shifting part is controlled so as to be measured by a level difference measuring instrument even in a deposited state of resist.例文帳に追加

位相シフトマスク作製途中に位相差を測定可能な位相差モニタパターンを作成し、その位相シフト部における透光基板の掘り込み量をレジスト付きの状態でも段差測定器で測定できるようにする。 - 特許庁

To provide a method for monitoring the state of a pattern drawing apparatus, precisely discriminating a pattern change production place from the contrast caused by the difference in the quantity of diffracted light in a pattern having periodicity, and also monitoring the state of the pattern drawing apparatus by simply leading out the change production period of the pattern change production place.例文帳に追加

周期性のあるパターンにおいて、回折光量差によるコントラストからパターン変動発生箇所を精度良く識別し、かつ、その変動発生周期を簡便に導出することによってパターン描画装置の状態監視を実施できるパターン描画装置の状態監視方法を提供する。 - 特許庁

Correcting the target time of each pattern PF on the track TF by using a timing error of the pattern PE, and modulating the clock frequency using the difference of the reading time of each pattern PF and its corrected target time, each pattern PG is written on a track TG with the time delay obtained by calculation after reading the pattern PF.例文帳に追加

トラックTFの各パターンPFのターゲット時刻をパターンPEのタイミング誤差を使用して補正し、各パターンPFの読み出し時刻とその補正されたターゲット時刻との差分を使用してクロック周波数を変調しながら、各パターンPFを読み出してから計算で求められた遅延時間後にトラックTGに各パターンPGを書き込む。 - 特許庁

A calculation result is determined by inputting the difference N_list(n, m) of the sequence of access and the difference t_margin(n, m) of the time of access to a monotonous decrease function f_1, and access pattern similarity α_n-m based on the access pattern about the data n, m is determined.例文帳に追加

単調減少関数ｆ_１に、アクセス順番差Ｎ_ｌｉｓｔ（ｎ，ｍ）及びアクセス時刻差ｔ_ｍａｒｇｉｎ（ｎ，ｍ）を入力した計算結果を求めることにより、データｎ，ｍについてのアクセスパターンに基づくアクセスパターン類似度α_ｎ−ｍを求める。 - 特許庁

Further, in the flaw detecting step ST5, the difference between the inspection data and the data positioned in the background pattern direction in the respective comparison data is calculated, and the flaw is detected on the basis of the difference value.例文帳に追加

また、欠陥検出工程ＳＴ５は、検査データおよび各比較データにおいて前記背景パターン方向に位置するデータの差分を求め、その差分値に基づいて欠陥を検出する。 - 特許庁

A phase difference generator 4 outputs phase difference information indicating the phase error of an A/D converter output based on the pattern row identification information and the output of the A/D converter 1.例文帳に追加

位相差生成器４は、パタン列識別情報とＡ／Ｄ変換器１の出力に基づいてＡ／Ｄ変換器出力の位相誤差を示す位相差情報を出力する。 - 特許庁

A processing parameter selector 12 comprising a plurality of preset indicators corresponding to a specified difference of parameter value is also provided wherein the specified difference of parameter value and the specified distance correspond to a specified radiation pattern.例文帳に追加

所定のパラメータ値差に対応する複数のプリセット・インジケータを含む処理パラメータ選択装置１２を備え、所定のパラメータ値差および所定距離は、所定放射パターンに対応する。 - 特許庁

Thus, the light having the optical path difference longer than the coherent length and various optical path difference differing according to the number of times of circulation in the light guide part, thereby suppressing generation of a speckle pattern.例文帳に追加

こうすれば、コヒーレント長以上の光路差を有し、導光部内を循環する回数応じて異なる光路長を有する光を出力でき、スペックルパターンの発生を抑制できる。 - 特許庁

To make unevenness in the density of an image sufficiently small to the extent of being negligible by sufficiently suppressing variation of ejection speed and the difference of ejection volume among nozzles due to difference of print pattern.例文帳に追加

印字パターンの違いによるノズル間の吐出速度のばらつき、ノズル間の吐出体積の差を充分に小さくして、画像の濃度むらを充分に無視できる程度に小さくする。 - 特許庁

To provide a pattern forming method capable of uniformly removing a resist residue independent of difference in an irregularity ratio depending on a region of a stamper and difference in film thickness of the resist residue associated therewith.例文帳に追加

スタンパの領域に依存した凹凸比の違いおよびそれに伴うレジスト残渣の膜厚の違いによらず、レジスト残渣を均一に除去できるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device with high reliability, wherein a size difference which varies with a variety of factors and is generated owing to a sparse/dense difference of a mask pattern is securely controlled to be reduced as much as possible, and a pattern of the semiconductor device to be formed is formed with high precision without depending upon the sparse/dense difference.例文帳に追加

様々な要因により変化する、マスクパターンの疎密差に起因して生じる寸法差を確実に制御して当該寸法差を可及的に低減させ、形成される半導体装置のパターンを疎密差に依存することなく高精度に形成することを可能とし、信頼性の高い半導体装置を実現する。 - 特許庁

In the changeover device for the analog voice, difference circuits 18 and 27 take the difference signal of two input voice signals, noise detectors 19 and 28 extract noise mixed in the middle of the transmission of the two voice signals, and a noise pattern-matching part 29 compares the pattern of the noise with a noise pattern registered beforehand and determines whether the difference signal is the noise.例文帳に追加

アナログ音声用チェンジオーバ装置は、差分回路１８，２７において入力された２つの音声信号の差分信号をとり、ノイズ検出器１９，２８において２つの音声信号の伝送途中で混入したノイズを抽出し、ノイズパターンマッチング部２９においてそのノイズのパターンを予め登録されたノイズパターンとを比較して前記差分信号がノイズか否かを判断する。 - 特許庁

In order to evaluate a difference between design data and a formed resist pattern in detail by using observation data of the resist pattern formed through a semiconductor lithography process, the design data and the observation data of the resist pattern are superposed to calculate a one-dimensional or two-dimensional geometric characteristic value expressing the difference between them.例文帳に追加

半導体リソグラフィ工程を経て形成されたレジストパターンの観測データを用いて、設計データと形成されたレジストパターンの差異を詳細に評価するために、設計データとレジストパターンの観測データとを重ね合わせ、両者の差異を表現する１次元或いは２次元の幾何学的特徴量を算出する。 - 特許庁

In particular, such a structure is preferable that the decorative image is visible with a halftone state according to the difference in the diffraction efficiency between the pattern which regulates the exiting direction and range of diffracted light and the pattern which constitutes a decorative image different from the above pattern.例文帳に追加

特に、回折光の出射方向・範囲を規定するパターンと、前記パターンとは異なる装飾画像を構成するパターンとの回折効率の差に応じて、前記装飾画像がハーフトーン調に視覚される構成が好ましい。 - 特許庁

A switch control means SW inputs the multilevel hologram pattern corrected by the hologram pattern correction part 6 to the hologram pattern binarization part 2 until a normal/defective condition decision part 10 in the difference calculation part 4 outputs a normal decision result.例文帳に追加

切替制御手段ＳＷは、差分計算部４内の良／否判定部１０が良の判定結果を出力するまで修正ホログラムパターンにより修正された多値ホログラムパターンをホログラムパターン二値化部２に入力する。 - 特許庁

An address shift amount setting means sets either one of shift amount absence and an address difference as an address shift amount depending on whether a special pattern to start variation is a first special pattern or a second special pattern.例文帳に追加

アドレスずれ量設定手段は、変動を開始する特別図柄が第１の特別図柄であるか第２の特別図柄であるかの別に応じて、アドレスずれ量としてずれ量なし及びアドレス差のうちの何れか一方を設定する。 - 特許庁

When the master pattern M is shifted from the object pattern P to the right side in a figure by 0.4 picture elements, further satisfactory coincidence is generated in the both pattern as shown in (c), and the gradation difference is reduced in the both patterns as shown in (d).例文帳に追加

これに対してマスターパターンＭをオブジェクトパターンＰに対して０．４画素分、図中右側へ揺すらせると（ｃ）に示すように両パターンがよりよい一致を示し、（ｄ）に示すように両パターンには階調差が少なくなっている。 - 特許庁

A pattern information generating section 100 generates pattern information of an image line pattern by employing a twice-difference arithmetic processing (A-2×C+E) for luminance values among opposed pixels on three adjacent lines of a field image, a coring processing, and an information collection processing.例文帳に追加

パターン情報生成部１００において、フィールド画像の隣接３ラインで対向画素間の輝度値２回差分演算（Ａ−２×Ｃ＋Ｅ）とコアリング処理、情報収集処理により画像ラインパターンのパターン情報を生成する。 - 特許庁

To obtain a resist pattern which has a desired resist step, even when the difference in transmission properties between two or more translucent portions is small.例文帳に追加

２種類以上の半透光部の透過率差が小さい場合においても、所望のレジスト段差をもつレジストパターンを得ること。 - 特許庁

To suppress a length measuring error by difference of a shrink amount by scanning of an electron beam in each pattern.例文帳に追加

本発明の目的は、電子線の走査によるシュリンク量がパターンごとに異なることによる測長誤差を抑制することにある。 - 特許庁

When the area of the difference graphic pattern is without a prescribed area range, correction is decided to be inappropriate.例文帳に追加

また、差分図形パターンの面積が所定の面積範囲外である場合には、不適切な補正として判定することができる。 - 特許庁

To enable a user to easily recognize that a variation or difference in printing density is caused in printing a ground pattern image.例文帳に追加

地紋画像の印刷に関して濃度の変動や違いを生じていることをユーザが容易に認識することを可能とする。 - 特許庁

Since type of the pattern generated according to a temperature range, rotor temperature can be estimated from difference of the type.例文帳に追加

温度範囲に応じて発生するパターンの種類が異なるので、その種類の違いからロータ温度を推定することができる。 - 特許庁

The pattern generator 20 stores a step of logical data which generates the difference of the current values corresponding to the signal from the comparator 50.例文帳に追加

パターンジェネレータ２０はコンパレータ５０からの信号に対応する電流値の差を発生させた論理データのステップを記憶する。 - 特許庁

A master disk 21 is formed by forming a convex-concave shape that corresponds a convex-concave shape of a pattern phase difference film on a flat plate.例文帳に追加

平板上に、パターン位相差フィルムの凹凸形状に対応する凹凸形状を作製して原盤２１を作製する。 - 特許庁

To provide dummy pattern design for reducing the performance drift of a MOS device caused by a difference of stress applied on the MOS device.例文帳に追加

MOSデバイスに加えられる応力の違いに起因するMOSデバイスの性能のドリフトを低減するダミーパターン設計を提供する。 - 特許庁

To decrease the number of micro figures generated in large quantity owing to a difference in position of very small steps of opposite edges of a mask pattern.例文帳に追加

マスクパターンの対向するエッジの微小段差の位置の相違により大量発生する微小図形の数を削減する。 - 特許庁