「difference pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

The increase of the potential difference permits the seed layer 2 to be readily etched, and permits the circuit pattern 4 to be hardly etched owing to cathodic protection.例文帳に追加

電位差の増大により、シード層２はエッチングされ易くなるが、回路パターン４はカソード防食によりエッチングされ難くなる。 - 特許庁

The level-difference pattern comprises a plurality of line patterns arranged at a specified interval.例文帳に追加

また、前記段差パターンは、所定の間隔で配列された複数のラインパターンで構成されていることを特徴とするアライメントマークとした。 - 特許庁

To calculate a difference value corresponding to one-to-multiple between a character string of an example sentence pattern and a character string of an input sentence, and to translate the input sentence by use of an obtained reference parallel translation pattern.例文帳に追加

例文パターンの文字列と入力文の文字列間で１対複数に対応した相違値の算出し、求められた参照対訳パターンを用いて、入力文を翻訳する。 - 特許庁

When a difference between the traffic pattern and a current traffic is equal to or larger than a threshold, the possibility for the congestion to occur is decided on the basis of the current traffic while referring to a link pattern.例文帳に追加

トラフィックパターンと現在のトラフィックとの差が閾値以上となった場合に、リンクパターンを参照しつつ、現在のトラフィックに基づき輻輳が発生する可能性を判定する。 - 特許庁

In order to match an inputted observation pattern and a standard pattern in a database, a system for judging similarity through the used of an exponential function having the difference between the waveforms of both patterns as a vehicle is used.例文帳に追加

入力された観測パターンとデータベースにある標準パターンとのマッチングに、両パターンの波形間の差を変数とした指数関数を用いて類似度を判断する方式を使用する。 - 特許庁

A decoded bit sequence is fed to a first specific pattern detection circuit 8 and a first reverse pattern detection circuit 9, a path metric difference ΔM is fed to a reproduced signal evaluation circuit 10.例文帳に追加

復号ビット列は第１特定パターン検出回路８及び第１反転パターン検出回路９に入力され、パスメトリック差ΔＭは再生信号評価回路１０に入力される。 - 特許庁

To provide an adjusting method for an exposure device, a pattern forming method, and an exposure device capable of reducing the difference in optical proximity effect between exposure devices, and carrying out stable pattern formation.例文帳に追加

露光装置間の光近接効果の差異を低減し、安定したパターン形成を行うことができる、露光装置の調整方法、パターン形成方法、および露光装置を提供する。 - 特許庁

In a circuit board having a wiring pattern formed on each of both surfaces of an insulating material, thermal shrinkages of the respective wiring patterns are set to have different values depending on the difference between pattern densities.例文帳に追加

また、絶縁材の両面に配線パターンが形成されている回路基板において、各配線パターンの熱伸縮量を、パターン密度の相違に応じて互いに異なる値に設定する。 - 特許庁

To prevent size valuation due to difference in a mask pattern layout when a linear pattern of a gate electrode/wiring or metal-wiring of a MOS transistor.例文帳に追加

ＭＯＳ型トランジスタのゲート電極・配線又はメタル配線等のライン状パターンを形成するときに、マスクパターンレイアウトの違いに起因して寸法ばらつきが生じることを防止する。 - 特許庁

Next, the image generation part takes difference between the upload image data and the imaging device unique pattern image data and creates the image data with the reduced imaging device unique pattern from which the imaging device unique patterns are removed.例文帳に追加

次に画像生成部は、アップロード画像データと撮像素子固有パターン画像データとの差分を取り、撮像素子固有パターンを取り除かれた固有パターン減少画像データを作成する。 - 特許庁

By specifying and designing this pattern gap L, the overlap between the bend of the active area and the gate pattern is avoided so that the difference between element characteristics and a designed value may become large.例文帳に追加

このパターン間隔Ｌを規定して設計することにより，アクティブ領域の湾曲部がゲートパターンに重ならず，素子特性と設計値との差異が大きくなるのを防ぐことができる。 - 特許庁

To provide a semiconductor device which can reduce characteristics difference from a designed value when it has a bent pattern, by preventing the bend of the bent pattern affecting the characteristics of an element.例文帳に追加

曲折したパターンを有する場合に，曲折したパターンの湾曲部が素子の特性に影響を与えることを防ぎ，設計値との特性差を小さくできる半導体装置を提供する。 - 特許庁

The lithographic apparatus has a means of controlling imaging so that the influence due to the difference between two substrate holders is reduced, when a second pattern is imaged on a substrate imaged by a first pattern.例文帳に追加

第１のパターンが結像された基板に第２のパターンを結像するときに２つの基板ホルダー間の差の影響を低減するように結像を制御する手段を備える。 - 特許庁

A determination reference of a pattern dimensional difference used when determining whether or not the pattern shape is identical is set to a value corresponding to a distance for the every distance from the first reference position.例文帳に追加

パターン形状が同一であるか否かを判定する際に用いるパターン寸法差の判定基準を、前記第１の基準位置からの距離毎に当該距離に応じた値に設定する。 - 特許庁

To provide a method for forming a rugged pattern onto a metallic surface by which a rugged pattern with a subtle difference capable of discriminating others using the same goods can easily be obtained.例文帳に追加

同一商品を使用する他人との差別化が行える微妙に異なる凹凸模様を簡単に得ることができる金属表面への凹凸模様形成法を提供する。 - 特許庁

The image pattern compensation coefficient is determined by an average value of ratio of the difference in the number of pixels between adjacent lines to the total number of pixels for one page or two or more image pattern compensation coefficients.例文帳に追加

画像形態補正係数は，一のページ全体ピクセル個数に対する隣接したライン間のピクセル個数差の比率の平均値，または複数の画像パターン補正係数で決定される。 - 特許庁

Then, an area on the design layout, where a difference in the distribution of the pattern coverage becomes smaller by adding an additional pattern on the design layout, is set as an additional area.例文帳に追加

そして、前記設計レイアウト上に付加パターンを付加することによって前記パターン被覆率の分布差が小さくなる前記設計レイアウト上の領域を付加領域として設定する。 - 特許庁

To provide a temperature measuring device capable of accurately measuring the temperature difference between a region where a pattern to be transferred is formed and a region where the pattern is not formed.例文帳に追加

転写されるべきパターンが形成されている領域とパターンが形成されていない領域との間の温度差を正確に測定することができる温度測定装置を提供する。 - 特許庁

Since the light emission period (light emission length) of the cell (color) in the margin pattern differs thus from the light emission period of the cell (each color) in the data pattern, a receiving side can get to know whether it is the margin pattern or the data pattern by detecting difference of the light emission length.例文帳に追加

このように、マージンパターン中のセル（色彩）の発光期間（発光長）が、データパターン中のセル（各色彩）の発光期間とは異なっているので、受信側では、発光長の相違を検出することによって、マージンンパターンであるのか、データパターンであるのかを知ることが可能である。 - 特許庁

To provide a pattern drawing method for accurately correcting the dimension difference of pattern roughness and fineness by development loading, by adjusting an irradiation energy amount using a relational expression of a pattern area density and a dimension variation amount or a reference table in addition to a circuit pattern density distribution inside a photomask surface.例文帳に追加

フォトマスク面内の回路パターン密度分布に加え、パターン面積密度と寸法変動量の関係式あるいは基準テーブルを用いて照射エネルギー量を調整することで、現像ローディングによるパターン疎密の寸法差を精度良く補正するパターン描画方法を提供する。 - 特許庁

When the PWM signal of each phase is input into a pattern which is not adjacent to the present pattern, when the difference in duty between two phases where the magnitude relation of the duty is reversed is smaller than the predetermined value, the phase of the PWM signal of each phase is moved, based on the pattern not adjacent to the present pattern.例文帳に追加

また、デューティの大小関係が逆転する２相のデューティ差が所定値より小さい場合に、現在のパターンに隣接しないパターンに各相ＰＷＭ信号が入ったときは、隣接しないパターンに基づいて各相ＰＷＭ信号の位相を移動させる。 - 特許庁

Next, contour extraction p5 is applied to the extracted pattern to acquire a pattern contour line, comparative measurement p6 is performed from data of the contour line to quantitatively measure a form difference of the pattern, and an acceptance/rejection decision p7 is performed to inspect the pattern appearance of the inspection target mask.例文帳に追加

次に抽出されたパターンに対して輪郭抽出処理ｐ５を行いパターン輪郭線を取得し、輪郭線のデータから比較計測ｐ６を行ってパターンの形状差を定量的に計測し、合否判定ｐ７することにより検査対象マスクのパターン外観検査を行う。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a mask blank and a mask, wherein the linearity is suppressed to 10 nm or less by suppressing a difference (real dimensional difference) between a design dimension of a line width of a transfer pattern on a transfer mask and a dimension of a line width of a transfer pattern formed on a substrate.例文帳に追加

転写用マスクの転写パターン線幅の設計寸法と、基板上に形成された転写パターン線幅寸法との差（実寸法差）を抑え、Ｌｉｎｅａｒｉｔｙを１０ｎｍ以下に抑えることが可能なマスクブランク及びマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an ink keys controlling method and an ink keys controlling device, which is effective for realizing a stable controlling by reducing the influence due to the difference between a high pattern areal percentage and a low one even under the condition that there exists the difference between the high pattern areal percentage and the low one in one printed matter.例文帳に追加

１つの印刷物中で絵柄面積率の高低差がある場合でも、絵柄面積率の高低差による影響を低減し、安定した制御を実現する為に有効なインキキー制御方法及びインキキー制御装置の提供を目的とする。 - 特許庁

In this manufacturing method, as shown by Figure 1(a), a process for forming a step-difference pattern 2 on a surface of a semiconductor substrate 1, and a process for forming a CVD oxide film 10 whose film thickness d1 exceeds 1 μm on the step-difference pattern 2 by using a chemical vapor growth method, are performed.例文帳に追加

図１（ａ）に示すように、半導体基板１の表面に段差パターン２を形成する工程と、段差パターン２の上に化学気相成長法を用いて膜厚ｄ１が１μｍを超えるＣＶＤ酸化膜１０を形成する工程を行う。 - 特許庁

On the other hand, the amount of difference between the integrated three-dimensional information a, b', c' is calculated, and an evaluation index based on the amount of difference is displayed together with an image figure of a contour pattern shown by the three-dimensional model.例文帳に追加

一方で、統合された３次元情報ａ，ｂ´，ｃ´間の差異量を算出し、この差異量に基づく評価指数を３次元モデルが表す輪郭パターンのイメージ図と共に表示する。 - 特許庁

The alignment mark being used for optical alignment in a charged particle beam aligner is formed of a level-difference pattern divided into a plurality of level-difference patterns.例文帳に追加

荷電粒子線露光装置での光学アライメントに用いられる、段差パターンで形成されるアライメントマークであって、 前記段差パターンは、複数の段差パターンに分割されていることを特徴とするアライメントマークとした。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a reflective liquid crystal display panel by which a level difference in film thickness caused by difference in pattern density in CMP of an interlayer insulating film can be decreased.例文帳に追加

層間絶縁膜のＣＭＰでパターン密度差起因により発生する膜厚段差を低減することができる反射型液晶表示パネルの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

CONCAVO-CONVEX PATTERN FORMING SHEET AND ITS MANUFACTURING METHOD, REFLECTION PREVENTING BODY, PHASE DIFFERENCE PLATE, PROCESS SHEET ORIGINAL PLATE, AND METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL ELEMENT例文帳に追加

凹凸パターン形成シートおよびその製造方法、反射防止体、位相差板、工程シート原版ならびに光学素子の製造方法 - 特許庁

Further, a data analysis unit 38 generates a relational chart between the differential peak values and focus positions, and calculates a difference in level of the fine pattern from the relational chart.例文帳に追加

また、データ解析部３８は、微分ピーク値とフォーカス位置の関係図を作成し、関係図から微細パターンの段差を算出する。 - 特許庁

Due to the difference in the amount of the pearl pigment-containing ink filled in cells for every region, a pattern can be formed by the region.例文帳に追加

領域ごとにセルに充填されるパール顔料を含むインキの量が異なるため、領域によりパターンを形成することができる。 - 特許庁

A level difference comparing portion 14 compares amplitudes of the time frequency components X1(f, t) and GfX2(f, t) by time frequency component, and generates a mask pattern m1(f, t).例文帳に追加

レベル差比較部14は、時間周波数成分X1(f,t),GfX2(f,t)の振幅を各時間周波数成分ごとに比較し、マスクパターンm1(f,t)を生成する。 - 特許庁

To prevent a stripe pattern from occurring on a printed image due to a temperature difference between the guiding ribs of a paper guide and space between the respective guiding ribs.例文帳に追加

用紙ガイドの案内リブと各案内リブ間の空間との温度差によって印刷画像に縞模様が発生するのを防止する。 - 特許庁

To provide a controller for hybrid electric vehicle that accurately and properly changes an assist map according to the difference in a driving pattern.例文帳に追加

運転パターンの相違に対応してアシストマップを精度良く的確に変更可能なハイブリッド電気自動車の制御装置を提供する。 - 特許庁

To realize stage control for making a stage sufficiently follow the wafer surface even when the wafer surface has large irregularity or a large pattern level difference.例文帳に追加

ウエハ表面の凹凸やパターン段差が大きかった場合でもステージが十分に追従できるようなステージ制御を実現する。 - 特許庁

The metallic circuit pattern 4b thus obtained is rectangular with a difference between an upper surface width (a) and a lower surface width b of 10% or less of a thickness t.例文帳に追加

得られる金属回路パターン４ｂは、上面幅ａと下面幅ｂの差が厚さｔの１０％以下の矩形形状となる。 - 特許庁

Since the same test pattern TPb is also formed on the other surface Sb of the sheet S, the density difference between these images is emphasized when observed.例文帳に追加

シートＳの反対面Ｓｂにも同様のテストパターンＴＰｂを形成するので、両画像部の濃度差が強調されて見える。 - 特許庁

The data pattern is stored in a register and any difference between the predicted arrival time of the data and the actual arrival time of the data is determined by logic circuitry.例文帳に追加

データパターンはレジスタに格納され、データの予測到着タイムとデータの実到着タイムとの差がロジック回路によって測定される。 - 特許庁

Further, this difference does not show variation of the luminosity of an image of a normal pattern on the substrate as it is, but suppresses the luminosity variation.例文帳に追加

また、この様な差は、基板上の通常のパターンの像の明度変化をそのまま反映せず、この明度変化を抑制したものとなる。 - 特許庁

A behavior evaluation part 33 evaluates a difference between events included in the event data series and the standard pattern series in the optimal alignment.例文帳に追加

行動評価部３３は、最適アラインメントにおけるイベントデータ系列と基準パターン系列に含まれるイベント間の相違を評価する。 - 特許庁

The phase error calculator 17 calculates a phase difference between the phase of a reproduction signal from an interpolation filter 12 and the phase of the pull-in pattern.例文帳に追加

位相誤差計算器１７は、補間フィルタ１２からの再生信号の位相と、引き込みパターンの位相との位相差を計算する。 - 特許庁

A halftone pattern is adjusted by the difference of the dot reproducibility at each level in the method for screening a digital halftone using a multi-valued dot.例文帳に追加

多値ドットを使用するデジタルハーフトーンスクリーニング方法において、各レベルのドット再現性の違いによりハーフトーンパターンを調整する。 - 特許庁

Thus, a difference between the information concerning pattern control and the information concerning the character and the background can be easily judged in a display control means.例文帳に追加

従って、表示制御手段において、容易に図柄制御に関する情報とキャラクタや背景に関する情報とを判別できる。 - 特許庁

The comparison determining part 17 compares the difference in the luminance with a reference value to detect the abnormal resistance value portion in the wiring pattern.例文帳に追加

比較判定部１７で、この輝度差を基準値と比較することにより、配線パターンの抵抗値異常個所の検出が行われる。 - 特許庁

Herein, a deterioration degree measurement part 1-3 scans the regulated input character pattern, finds the number of black pixels from a scanning range, and finds the degree of deterioration of the number of black pixels due to a difference value from the standard character pattern in the standard pattern dictionary 1-5.例文帳に追加

ここで、劣化程度計測部１−３は、正規化入力文字パターンを走査し、走査範囲から黒画素数を求め、標準パターン辞書１−５の標準文字パターンとの間で差分値による黒画素数の劣化程度を求める。 - 特許庁