「difference pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(21ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for manufacturing a low-temperature baking multilayer ceramic wiring board capable of increasing the degree of freedom for the design of a wiring circuit layer and a layer configuration of an insulating layer free from any restraint of a difference of a pattern shape of the wiring circuit layer arranged on the laminated body and a layer configuration of the insulating layer consisting of various types of a contraction behavior.例文帳に追加

積層体に配された配線回路層のパターン形状の違いや収縮挙動の異なる数種類からなる絶縁層の層構成にほとんど制約がなく、配線回路層の設計や絶縁層の層構成の自由度を高くできる低温焼成多層セラミック配線基板の製法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device which can ensure a prescribed necessary thickness and a uniform thickness in any position on a semiconductor substrate regardless of a difference in uneveness of a planar pattern constitution forming a base step, and a semiconductor device using it.例文帳に追加

所定の必要十分な厚さを確保することができると共に、その厚さを下地段差を形成している凸部の平面的パターン構成の粗密の違いに因らず半導体基板上のどの位置でも均一なものとすることができる半導体装置の製造方法およびそれによって製造される半導体装置を提供する。 - 特許庁

As regards images acquired by irradiating the electron beam onto a pattern on a substrate formed through the multiple exposure method, the electron beam measuring technique has a means to classify the above respective patterns into two or more groups in accordance to the exposure history based on a difference in luminance or in shape of a white band of the respective patterns within these images.例文帳に追加

多重露光法により形成された基板上のパターンに前記電子ビームを照射して取得した画像について、該複数の画像内のそれぞれのパターンの明るさまたはホワイトバンドの形状の差から、前記それぞれのパターンを露光履歴に応じた複数のグループに分類する手段を有することを特徴とする。 - 特許庁

To obtain an autofocus (AF) system where an AF area as a range to be autofocused is made to automatically track a target subject and by which the target subject is tracked even when a camera performs pan/tilt operation by appropriately setting an image range compared between front and rear frames by the extraction of a difference between the frames by utilizing pattern matching.例文帳に追加

オートフォーカス（ＡＦ）の対象範囲であるＡＦエリアをその対象被写体に自動追尾させるオートフォーカスシステムにおいて、フレーム間差分抽出によって前後フレーム間で比較する画像範囲をパターンマッチングを利用して適切に設定し、カメラがパン／チルト動作している場合にでも追尾できるようにする。 - 特許庁

Further, since the Rh layers 27A are provided in a lattice pattern, it is possible to reduce stress generated according to a difference in a coefficient of thermal expansion from a GaN semiconductor layer and stably inject current to a multilayer 23 without causing a reduction in bonding strength or exfoliation even during reflow bonding at a high temperature.例文帳に追加

また、Ｒｈ層２７Ａを格子状のパターンで設けることにより、ＧａＮ系半導体層との熱膨張率差に基づいて生じる応力を小にでき、リフロー接合時の高温条件下でも接合強度の低下や剥離を生じることがなく、多層２３への安定した電流注入が可能になる。 - 特許庁

To provide a molding method which reduces the molded object weight difference between the end part and central part of a mold in multi-impression molding of a sheet to suppress the weight/strength fluctuations between molded objects, and is capable of obtaining the molded object reduced in the strain of a printing pattern caused by molding, and a mold therefor.例文帳に追加

複数個取りのシート成形で、金型端部と中央部の成形体重量差を少なくし、成形体間の重量・強度変動を抑えると共に、印刷樹脂フィルムを積層したシートの成形においては、成形による印刷図柄の歪みが少ない成形体をうる成形方法及び金型を提供する。 - 特許庁

Thus, even if the non-effective reference chip region adjacent to the effective reference chip region, and other non-effective chip regions remain in exposure of a peripheral region in a periphery aligner, a position of the effective reference chip region can be easily recognized by visual observation, a microscope, or the like according to a difference in a pattern to be formed.例文帳に追加

これにより、周辺露光装置における周辺領域の露光において、有効基準チップ領域に隣接した無効基準チップ領域、その他無効チップ領域が残存していても、形成されるパターンの違いから有効基準チップ領域の位置を目視、顕微鏡などによっても容易に認識することができる。 - 特許庁

A creating means is configured to create modification data to modify the density correction characteristics for a second image forming speed, on the basis of a difference between the density value of the image pattern formed on the image carrier at the second image forming speed by applying the density correction characteristics, and the reference density value stored in the storage means.例文帳に追加

作成手段は濃度補正特性を適用して第２画像形成速度により像担持体に形成された画像パターンの濃度値と記憶手段に記憶されている基準濃度値との差から第２画像形成速度について濃度補正特性を修正するための修正データを作成する。 - 特許庁

One surface of the metal layer 107 comprising a material different from that of an electroformed part 108 is exposed to the surface of the electroformed part as a part or the whole of one surface of an electroformed gear 101 being the electroformed body and other portions are buried in the electroformed part 108 to obtain the electroformed body having a flat pattern having no difference in level.例文帳に追加

電鋳体である電鋳歯車１０１の一表面の一部または全体に電鋳部１０８とは異なる材料からなる金属層１０７のうち一表面を表面に露出し、他の部分を電鋳部１０８に埋め込まれた状態とすることにより、段差なく平坦なパターンを有する電鋳体とする。 - 特許庁

The determiner 40 sets, as constants, thresholds of light intensities at two edges forming a pair prescribing calculated dimensions of the transfer pattern in the simulation, and determines the thresholds and the light reaction coefficient through regression calculation so that a difference becomes minimum between the calculated dimensions and the measured dimensions.例文帳に追加

決定部４０は、当該シミュレーションにおける転写パターンの計算寸法を規定する対をなす２箇所のエッジでの光強度の閾値を定数とし、回帰計算によって、上記修正光強度の下で上記計算寸法と上記測定寸法との差が極小となるように上記閾値および上記光反応係数を決定する。 - 特許庁

The level difference in the base when a photoresist pattern is formed during forming the track width for the lead head is eliminated while conrolling the overetching amount and thickness of deposited films so as to allow the uppermost surface of a magnetoresistance film 30, the uppermost surface of a magnetic domain conrolling film 50 and the uppermost surface of a protective insulating film 40 to be on one plane.例文帳に追加

磁気抵抗効果膜３０の最上面と磁区制御膜５０の最上面と保護絶縁膜４０の最上面が同一平面上にあるように、オーバーエッチング量及びデポ膜厚を制御することにより、リードヘッドのトラック幅形成におけるホトレジストパターン形成時の下地の段差をなくすもの。 - 特許庁

To provide a method of subjecting a substrate to development processing by discharging a developer from a nozzle disposed above in a substrate conveying direction, the method being such that even if there is a difference in progresses of developments in the conveying directions of the substrate, a problem of variations in line widths of a color filter pattern in the front and rear portions of the substrate is solved.例文帳に追加

基板搬送方向の上部に配設されたノズルから現像液を吐出し、前記基板を現像処理する方法において、前記基板の搬送方向で現像の進み具合に差があって、前記基板の前後でカラーフィルタパターンの線幅がばらつくというという問題を解決する手段の提供である。 - 特許庁

When an image forming means forms a gradation pattern chart 100, respective gradation patterns 101/101 are formed so as to avoid emphasis of an electric field due to difference in electric potentials in boundary parts in electrostatic latent images of respective gradation patterns 101/101 being adjacent in the sub-scanning direction of an image forming part.例文帳に追加

画像形成手段が読取用階調パターンチャート１００を形成する場合に、画像形成部の副走査方向に隣接する各階調パターン１０１・１０１の静電潜像における境界部位での電位差の違いによる電界の強調を回避するように、各階調パターン１０１を形成する。 - 特許庁

A light color determination part 14 is configured to, even when any ladder pattern is designated from among the plurality of ladder patterns stored in the storage part 16 in accordance with the determination result by the time difference indication determination part 13, determine whether or not the lighting sequence of a light color with respect to the arbitrary outflow direction of the intersection is equal.例文帳に追加

灯色判定部１４は、時差現示判定部１３による判定結果に応じて記憶部１６に記憶した複数の階梯パターンの中から、いずれの階梯パターンが指定された場合でも、交差点の任意の流出方向に対する灯色の点灯順序が等しいか否かを判定する。 - 特許庁

The stimulable phosphor sheet of inspection is formed by recording the radiation images 20 for inspection consisting of the density pattern lined up and arranged with at least ≥1 sheet of low-density regions 20A and high-density regions 20B having a contrast difference of at least 1:20 into the direction of the main scanning on the stimulable phosphor sheet.例文帳に追加

少なくとも１：２０のコントラスト差を有する１以上の低濃度領域２０Ａおよび高濃度領域２０Ｂを主走査の方向に並べて配列した濃度パターンからなる検査用放射線画像２０を蓄積性蛍光体シートに記録して、検査用蓄積性蛍光体シートを作成する。 - 特許庁

In a focus detecting device arranging a first sensor 113 for outputting a signal for detecting a focus by phase difference detection and a second sensor 110 having a plurality of pixels mutually different in spectral sensitivity on the same substrate, the accumulation of the second sensor 110 is started after correction operation for removing the fixed pattern noise of the first sensor 113.例文帳に追加

位相差検出により焦点検出用信号を出力する第一のセンサ113と、分光感度が互いに異なる複数の画素を持つ第二のセンサ110を同一基板上に配置した焦点検出装置において、第一のセンサ113の固定パターンノイズを除去する補正動作終了後に第二のセンサ110の蓄積を開始する。 - 特許庁

The coma aberration of the laser beam exited from the light emitting part having the deviation of image height is corrected by providing an aberration correcting element 15 having a phase difference pattern between the laser beams different in a light emitting wavelength in an optical path which guides the laser beam exited from a plurality of light emitting parts provided in the two-wavelength laser diode chip 11 to a recording medium 12.例文帳に追加

２波長レーザダイオードチップ１１が持つ複数の発光部から出射されたレーザビームを記録媒体１２に導く光路に、発光波長が異なるレーザビーム間の位相差パターンを有する収差補正素子１５を設けることによって、像高ずれのある発光部から出射されるレーザビームのコマ収差を補正する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an optical element without causing any problem of color unevenness even when being used for a compact liquid crystal display of a transflective type for performing a retardation control by a retardation layer in a pattern lamination layer part composed of the retardation layer and a step difference adjustment layer.例文帳に追加

位相差層と段差調整層とからなるパターン積層部における該位相差層により位相差制御を可能とする光学素子において、小型の半透過半反射型の液晶表示装置に用いた場合であっても色ムラの問題が生じることがない光学素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

There is a difference in allocation of the value of a random R10 relative to each speech display control process table between a failure-time speech determination table 150 and a big win-time speech determination table 151; and a probability of selecting each speech display control process table is differed according to whether or not a display result in a special pattern game is a big win.例文帳に追加

ハズレ時台詞決定テーブル１５０と、大当り時台詞決定テーブル１５１とでは、各台詞表示制御プロセステーブルに対するランダムＲ１０の値の割当が異なっており、特図ゲームにおける表示結果が大当りとなるか否かに応じて、各台詞表示制御プロセステーブルの選択される確率が異なっている。 - 特許庁

A CPU 7 calculates an area where luminance is changed between the latest video image and the previous video image stored in a frame memory 6 and performs an arithmetic operation for taking a correlation coefficient between the time sequential pattern of the area difference of the area where the luminance increases and the area where it decreases and a standard blink eye waveform.例文帳に追加

ＣＰＵ７は、最新の映像と、フレームメモリ６に記憶されている前の映像との間で輝度が変化した領域の面積を算出し、輝度が増加した領域と減少した領域との面積差の時系列的なパターンと標準の瞬目波形との間で相関係数をとる演算を行う。 - 特許庁

To provide a wettability variable coating film covering a substrate surface, made hydrophilic with a photocatalytic reaction, maintaining a large difference of wettability toward a pattern forming material between exposed and nonexposed parts, having high sensitivity and shortening an exposure time and a coating material to form the coating film and to especially use them for the manufacturing of a color filter.例文帳に追加

基板の表面を被覆し且つ光触媒反応によって親水化し、露光部と非露光部の間にパターン形成用材料に対する濡れ性の差を大きくとることができると共に、感度が高くて露光時間を短縮できる濡れ性変化皮膜、当該皮膜を形成するための塗工材料を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive composition undergoing a change in refractive index, which can realize a change in the refractive index of a material by a simple method, giving a sufficiently great difference in refractive index due to the change, and can give a refractive index pattern and an optical material that are stable independent of the service conditions thereafter.例文帳に追加

材料の屈折率変化を簡易な方法で行うとともに、その変化した屈折率差が十分大きな値となり、しかもその後の使用条件によらずに安定な屈折率パターンや光学材料を与えることができる感放射線性、屈折率変化性組成物を提供すること。 - 特許庁

Either tow kinds of driving voltages Va and Vb having different amplitudes or a GND is applied to pattern electrodes 30 to 38 of the electrode 22A through an amplitude modulator 106 and a selection switch 108, a desired phase difference is given to light beams and as a result, astigmatism caused by an optical system is compensated.例文帳に追加

透明電極２２Ａに対して、振幅変調器１０６、選択スイッチ１０８等を介して振幅の異なる２種の駆動電圧Ｖａ、ＶｂあるいはＧＮＤの何れかが各パターン電極３０乃至３８に印加され、光ビームに所望の位相差を与える結果、光学系に起因する非点収差が補正される。 - 特許庁

In this estimation device, a storage part 12 stores a characteristic pattern 12a indicating a relation between reference release voltage values of a reference battery under a plurality of charged conditions including a full charge condition and an overcharge condition, and a difference value between the reference release voltage values and reference discharge voltage values under a discharged condition connected to electric loads.例文帳に追加

満充電状態及び過放電状態を含む複数の充電状態における基準バッテリの基準開放電圧値と、その基準開放電圧値と電気負荷が接続された各放電状態における基準放電電圧値との差分値との関係を示す特性パターン１２ａを記憶部１２に記憶しておく。 - 特許庁

To reduce unevenness in resist patterns on a mask due to a fogging effect in an exposure step in mask production (difference in dimension due to pattern density irregularity) and to provide a mask having high dimensional accuracy required for photolithography by which dimension equal to or below the wavelength of light for exposure (with a large numerical value of MEEF (mask error enhancement factor)) is formed on a wafer.例文帳に追加

マスク製造の露光工程においてFogging効果によるマスク上レジストパターンのばらつき（パターン疎密による寸法差）を低減し、ウェハ上で露光波長以下の寸法を加工する（ＭＥＥＦの数値が大きい）光リソグラフィで要求されるレベルの高寸法精度マスクを提供することを目的としている。 - 特許庁

The sheet S is accommodated in the accommodating path C during normal printing operation and is fed to the image transfer parts during image adjustment and during cleaning the photoreceptor 11, where the toner pattern image is transferred to the sheet S, or the sheet S cleans a surface of the photoreceptor 11, according to the relative difference between conveying speed of the sheet S and the circumferential speed of the photoreceptor 11.例文帳に追加

シートSは通常のプリント動作時には格納通路Cに格納されており、画像調整時及び感光体11のクリーニング時には画像転写部へ送り出され、トナーパターン像を転写され、あるいは、シートSの搬送速度と感光体11の周速との相対的な差によってシートSが感光体11の表面を清掃する。 - 特許庁

The seasons are: (1) as Ecchu fundoshi has the ultimate shape in its kind, the design has not changed for a long time, manufacturers can only make a difference in material, color or pattern; (2) as the most typical color for the fundoshi is white, there is extremely limited demand for other colors or patterns, and thus making a difference cannot be paid off; (3) since this is not so difficult to make, as they were made at home in the previous period, the price and profit rate should be low accordingly; and (4) it's hard to expect a large sale that can pay off the capital investment, as it's hard to expect a growing demand in comparison to other undergarments. 例文帳に追加

越中褌が究極の形状であることから、昔からデザインの変化がないことで、材質や色か柄でしか商品として差別化ができないこと、白色が定番の越中褌では色物や柄物では極端に需要が少なく採算に合わないこと、個人でも縫製できるものであるため、単価も安く利益率が低いこと、他の下着と比べて需要の伸びが大きく見込めず、設備投資に見合う大量販売が見込めないことなどである。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

The reference release voltage value corresponding to the calculated difference value is drawn out based on the characteristic pattern 12a, and a deterioration degree calculating part 11b calculates a deterioration degree of the battery, based on the reference release voltage value, the release voltage value and the full-charge reference release voltage value under the full charge condition of the reference battery stored in the storage part 12.例文帳に追加

算出された差分値に対応する基準開放電圧値を特性パターン１２ａに基づいて導出し、基準開放電圧値、開放電圧値及び記憶部１２に記憶されている基準バッテリの満充電状態における満充電時基準開放電圧値に基づいて、バッテリの劣化度を劣化度算出部１１ｂにて算出する。 - 特許庁

To achieve the recognition of the symbol, the distance is computed from the phase difference between the reference projection signal emitted to the detection member and the received signal reflected from the detection member and the symbol number previously defined corresponding to the loaded distance data undergoes indexing (distance-symbol conversion TBL) to extract the valid pattern.例文帳に追加

また、図柄認識は、検出部材に対して出射される基準投光信号と検出部材から反射される受光信号との位相差により距離を演算し、取り込まれた距離データに対応してあらかじめ定義された図柄番号を索引（距離−図柄変換ＴＢＬ）して有効絵柄を抽出することにより行われる。 - 特許庁

Two probes 2A and 2B are brought into contact with a given point on the wiring pattern on the sample 4, and absorption currents obtained through the probes are inputted to a differential current-voltage converter 6, so that a difference between the absorption currents is converted into a voltage signal and an absorption current image based on the voltage signal is displayed on the display part 7.例文帳に追加

試料４上の配線パターンの任意の箇所に２本のプローブ２Ａ，２Ｂを接触させ、これらのプローブを介して得られる吸収電流を差動電流電圧変換器６に入力することにより、各吸収電流の差を電圧信号に変換し、この電圧信号に基づく吸収電流像を表示部７に表示させる様に成す。 - 特許庁

The decorative glass article for building 10 is composed of a glass sintered compact in which glass tubes 10b consisting of glass having the amount of alkali elution based on JIS R-3502 of 0.3 mg or less are welded together, and has a wavelike uneven pattern 10c with a height difference originated from the shapes of glass tubes 10b of 1.0 mm or more on a design surface 10a.例文帳に追加

本発明の建築用装飾ガラス物品１０は、ＪＩＳ Ｒ−３５０２に基づくアルカリ溶出量が０．３ｍｇ以下であるガラスからなるガラス管１０ｂが互いに熔着したガラス焼結体よりなり、意匠面１０ａにガラス管１０ｂの形状に起因する高低差が１．０ｍｍ以上の波型凹凸模様１０ｃを有する。 - 特許庁

To provide a coloring composition for a color filter which has high luminance, of which the lightness is only slightly reduced in a step to form the color filter, of which the color difference ΔEab* is small, which has high heat resistance, and further which has an excellent pattern shape of a filter segment, and to provide a color filter with high luminance by using the composition.例文帳に追加

本発明の目的は、高輝度であって、カラーフィルタの形成工程においても明度の低下、及び色差ΔＥａｂ＊が小さい高耐熱性のカラーフィルタ、かつフィルタセグメントのパターン形状についても良好なカラーフィルタ用着色組成物を提供すること、及びこれを用いた高輝度のカラーフィルタを提供することである。 - 特許庁

To provide a decorated sheet having a surface unevenness characterized in that the surface roughness of a wood substrate has the maximum difference of unevenness of 20-80 μm, and the thickness of a transparent olefin resin substrate of 60-90 μm, in the decorated sheet provided with at least a picture pattern layer and the transparent olefin resin substrate in this order on the wood substrate.例文帳に追加

木材基板の上に、絵柄模様層、透明オレフィン系樹脂基材を少なくともこの順に設けてなる化粧シートにおいて、前記木材基板の表面粗さが最大凹凸差２０から８０μｍであり、前記透明絵オレフィン系樹脂基材の厚みが６０〜９０μｍであることを特徴とする表面凹凸を有する化粧シート。 - 特許庁

An annular level difference provided with a lower surface portion between the higher surface portions on the outer circumferential side and the inner circumferential side, protrusions or notches provided radially, protrusions or notches provided concentrically, protrusions or notches provided in a lattice form, or protrusions or notches provided in a logo pattern are suitably employed as the three-dimensional shape 3.例文帳に追加

立体形状３としては、外周側および内周側の高面部の間に低面部を設けた環状の段差、放射状に設けられた突起または切欠き、同心円状に設けられた突起または切欠き、格子状に設けられた突起または切欠き、あるいはロゴ模様として設けられた突起または切欠きとするのが好適である。 - 特許庁

This method includes converting frame photographic data of a person imaged by an infrared camera into body surface temperature distribution data with a thermal image; comparing the image with a thermal image pattern database showing the difference of the body surface distribution between male and female to determine the gender; and readably storing the resulting data with addresses in the storage device of a personal computer.例文帳に追加

赤外線カメラで撮影して得られた人物のフレーム撮像データをパソコンで熱画像による体表面温度分布データ化し、これを男性と女性の表面体温分布の違いを示した熱画像パターンデータベースと比較して、その人物の性別を判別し、この判別結果データをアドレス化させてパソコンの記憶装置に読出し可能に記憶させる。 - 特許庁

To provide an antireflection film forming composition, having high power to absorb reflected light and capable of forming an antireflection film which has full resistance, even with respect to a developing solution on which a resist pattern excellent in shape can easily be formed at a high etching rate, even if the antireflection film is made thick and difference in level on a substrate is planarized.例文帳に追加

反射光に対して吸収能が高く、エッチングレートが高く反射防止膜を厚膜にし基板上の段差を平坦化しても形状に優れたレジストパターンが容易に形成でき、かつ現像液に対しても充分な耐性を有する反射防止膜を形成できる反射防止膜形成用組成物を提供すること。 - 特許庁

The radio base station controller 1 utilizes an HFN being used in secret in order to continues the compressed mode and calculates a position of a gap (CNF) at a present time in accordance with a difference from the start time of the compressed mode and indicates the same gap pattern as a radio base station device 2 to the radio base station device 3.例文帳に追加

無線基地局制御装置１ではＣｏｍｐｒｅｓｓｅｄ Ｍｏｄｅを継続するために、秘匿で使用しているＨＦＮを活用し、Ｃｏｍｐｒｅｓｓｅｄ Ｍｏｄｅ開始時からの差分より現時点でのギャップの位置（ＣＦＮ）を計算し、無線基地局装置３に対して無線基地局装置２と同じギャップパターンを指示する。 - 特許庁

In a CCD image pickup device that conducts reading of signal charge by vertically mixing two pixels, that is, field reading, a complementary color coding of its color filter adopts a skew pattern where two color difference signals Cr, Cb obtained through vertically mixing two pixels are alternately in existence in the horizontal direction and shifted by one bit (one pixel) in the vertical direction.例文帳に追加

垂直２画素混合による信号電荷の読み出し、即ちフィールド読み出しを行うＣＣＤ撮像素子において、そのカラーフィルタの補色カラーコーディングを、垂直２画素混合によって得られる２つの色差信号Ｃｒ，Ｃｂが、水平方向において交互に存在しかつ垂直方向において１ビット（１画素分）ずれた斜めパターンとする。 - 特許庁

To provide a measurement method of a profile, an etching dispersion estimation method and a measurement device capable of previously estimating or reducing dimensional dispersion after etching by measuring resist pattern width with a plurality of threshold values to detect the difference of a resist profile in a length measurement SEM, and capable of improving the quality of a product and the manufacturing yield.例文帳に追加

測長ＳＥＭにおいて、複数の閾値でレジストパターン幅を測定し、レジストプロファイルの違いを検知し、エッチング後の寸法ばらつきを未然に予測または低減することができ、製品の品質向上および製造歩留まりを向上させることができるプロファイルの測定方法、エッチングばらつき予測方法および測定装置を提供すること。 - 特許庁

To provide an information recording and reproducing device in which a boundary point of a wobble waveform corresponding to "0" and a wobble waveform corresponding to "1" can be detected accurately even when a wobble signal in which polarity is reversed depending on difference of form of an optical disk is input, further detection performance of a synchronous pattern and a physical address can be improved.例文帳に追加

光ディスクの形態の相違等によって正負が反転したウォブル信号が入力された場合であっても、「０」に対応するウォブル波形と「１」に対応するウォブル波形の境界点を精度良く検出することができ、ひいては、同期パターンや物理アドレスの検出性能を向上させることができる情報記録再生装置を提供する。 - 特許庁

A dielectric film is formed at least on one surface of the opposing plate faces of metal plates firmly fitted to each other with ruggednesses formed of a height difference within a range of 5 μm or more and 50 μm or less and an arbitrary flat-pattern shape, whereby, microplasma discharge is generated between both the metal plates.例文帳に追加

金属板の対向する板面の少なくとも一方の表面は誘電体膜が形成されて、誘電体膜の表面は、５μｍ以上５０μｍ以下の範囲の高低差と任意の平面パターン形状とをもった凹凸が形成された対向金属板の板面が相互に固設されて、両金属板間にマイクロプラズマ放電を生起させる。 - 特許庁

For example, a control part 3 detects the direct current idc, corrects a voltage instruction V* for the alternating current voltage whose phase is according to a switching pattern in each period so that the difference in the offset amount among respective periods of the direct current idc is made smaller, and controls the switching elements S1 to S6 based on the voltage instruction after the correction.例文帳に追加

例えば制御部３は、直流電流ｉｄｃを検出し、直流電流ｉｄｃの各周期間におけるオフセット量の差が低減するように、各周期でのスイッチングパターンに応じた相の前記交流電圧についての電圧指令Ｖ*に対して補正を行い、補正後の電圧指令に基づいてスイッチング素子Ｓ１〜Ｓ６を制御する。 - 特許庁

Of the organic EL transfer member at least composed of a support body, a peeling layer formed on the support body, and an organic EL transfer layer formed on the peeling layer, a transfer surface as a surface at a side of the organic EL transfer layer is made of a pattern transfer layer capable of forming patterns by difference of adhesiveness and/or wettability.例文帳に追加

支持体と、前記支持体上に形成された剥離層と、前記剥離層上に形成された有機ＥＬ転写層から少なくともなる有機ＥＬ転写体であって、前記有機ＥＬ転写層側の表面である転写表面が、接着性および／または濡れ性の違いによるパターンを形成しうるパターン転写層からなる。 - 特許庁

To provide an electronic endoscope apparatus for carrying out field reading by using a CCD provided with color filters adopting the color difference line sequential system, displaying a whole image on the basis of signals of odd number fields and signals of even number fields, and suppressing production of a stripe pattern when the levels of luminance signals differ between the odd number fields and the even number fields.例文帳に追加

色差線順次方式のカラーフィルタの設けられたＣＣＤを用いてフィールド読出しを行い、奇数フィールドの信号と偶数フィールドの信号とに基づいて全体画像を表示させる電子内視鏡装置において、奇数フィールドと偶数フィールドの輝度信号の大きさが異なる場合における縞模様の発生を抑制する。 - 特許庁

One layer is formed by plural times of exposure including high- resolution exposure using plural fine patterns (gate finger parts) and plural phase shift patterns (shifters) which are respectively arranged on both sides in the fine line width direction of the fine patterns and negate the interference of light by the phase difference of the light passing the same and ordinary exposure exclusive of the fine pattern points.例文帳に追加

複数の微細パターン（ゲートフィンガ部）と、当該微細パターンの微細線幅方向両側にそれぞれ配置され、透過する光の位相差により光の干渉を打ち消す複数の位相シフトパターン（シフタ）と用いた高解像度露光と、微細パターン箇所以外の通常露光とを含む複数回露光により一つの層を形成する。 - 特許庁