「difference pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(18ページ目) - Weblio英語例文検索

The blank mask includes a light shielding film pattern formed in a region including a light shielding region on a transparent substrate and a phase inversion film formed on the exposed transparent substrate, and the phase inversion film has a phase difference of 160 to 200° relative to exposure light, and the light shielding film pattern and the phase inversion film are etched with the same etching material.例文帳に追加

透明基板上に遮光領域を含む領域に形成された遮光膜パターンと、露出された該透明基板上に形成された位相反転膜とを持ち、位相反転膜は、露光光に対して１６０゜ないし２００゜の位相差を持ち、遮光膜パターン及び位相反転膜は、同じエッチング物質によりエッチングされることを特徴とするブランクマスク。 - 特許庁

To provide a roll-like printing blanket which can precisely print an ink pattern on an uneven surface for printing with 5 to 16 mm in elevation difference, a manufacturing method of a printed body including the surface to be printed and the ink pattern precisely printed thereon, and the printed body manufactured by the manufacturing method.例文帳に追加

５〜１６ｍｍの高低差がある凹凸を有する被印刷面に対し、インキパターンを精密に印刷することのできるロール状印刷用ブランケット、上記被印刷面と、上記被印刷面に精密に印刷されたインキパターンとを備える印刷体の製造方法、およびこの印刷体の製造方法により製造される印刷体を提供すること。 - 特許庁

To provide a spot resist film peeling machine which can continuously perform etching added to a quartz substrate 1 and peel a resist film pattern 3' of only a pattern for phase difference measurement without repeating the formation of a resist film, electron beam drawing, and development when it becomes evident that the depth of a shifter is insufficient when a Revenson type phase shift mask 60 is manufactured.例文帳に追加

レベンソン型位相シフトマスク６０の製造において、シフターの深さが不足していることが判明した際に、レジスト膜の形成、電子線描画、現像を繰り返し行うことなく、石英基板１に追加したエッチングを継続して行うことができる、位相差測定用のパターンのみのレジスト膜パターン３’を剥膜するスポットレジスト剥膜機を提供すること。 - 特許庁

To improve the print precision of a conductor pattern forming a coil and reduce a characteristic difference in an inductance value or the like, in a laminated chip inductor wherein a non-magnetic electric insulation layer and a conductor pattern are alternately printed and laminated through screen printing to form a coil and a lead conductor for connecting the coil to an external terminal is formed.例文帳に追加

非磁性電気絶縁層と導体パターンがスクリーン印刷で交互に印刷積層されることによりコイルが形成されるとともに、そのコイルを外部端子に接続する引き出し導体が形成された積層チップインダクタにおいて、上記コイルを形成する導体パターンの印刷精度を高め、インダクタンス値等の特性誤差を小さくする。 - 特許庁

To provide an image acquisition method and apparatus which can acquire sub-information easily as an identifiable image in a short time from a matter recording composite image information created by modulating a specific color difference pattern for visible main image information and superimposing the sub-information as a pattern which cannot be recognized visually.例文帳に追加

可視状態の主画像情報に対し特定の色差パターンを変調して目視では認識不可能なパターンとして副情報を重畳することで作成した合成画像情報を記録した記録物から、前記副情報を短時間で簡単に識別可能な画像として取得することができる画像取得方法および画像取得装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of fabricating a semiconductor device that allows preventing occurrence of steps on an interlayer dielectric film due to the pattern difference in the underlying structure, by forming the interlayer dielectric film through many-time simultaneous vapor deposition and etching processes.例文帳に追加

多数回の同時蒸着及びエッチング工程によって層間絶縁膜を形成することにより、下部構造物のパターン差による層間絶縁膜の段差発生を防止することが可能な半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

An electron beam having 100 eV or more and 1,000 eV or less of irradiation energy is scanned/irradiated to the wafer 18 having the pattern with the high step difference under the semiconductor manufacturing process, the defect is inspected quickly based on an image of a secondary electron generated therein.例文帳に追加

半導体製造工程中の高い段差のあるパターンを持つウエハ１８に１００ｅＶ以上１０００ｅＶ以下の照射エネルギ−の電子線を走査・照射し、発生した２次電子の画像から高速に欠陥検査を行う。 - 特許庁

A specified shading pattern is recorded with different frequencies, a nozzle from which ink ejection is reduced or stopped due to increase of path resistance is judged from the difference of density distribution and different correction processing is effected depending on the state of that nozzle.例文帳に追加

所定のシェーディング用のパターンを異なる駆動周波数で記録し、それぞれの濃度分布の差分より、前記路抵抗の増加に伴う吐出量の減少や不吐となったノズルを判別し、そのノズルの状態に応じて異なる補正処理を行う。 - 特許庁

Since almost all of difference in potential between an upper electrode 2 and the lower electrode 3 is borne by the dielectric body 42, an electric damage to a semiconductor element containing element capacity such as a MOS transistor contained in the circuit pattern is reduced that much.例文帳に追加

上部電極部２と下部電極部３の間の電位差のかなりの部分は誘電体４２に負担されるので、回路パターンに含まれるＭＯＳトランジスタなどの素子容量を有する半導体素子が受ける電気的ダメージはそれだけ軽減される。 - 特許庁

To provide an optical element in which a diffraction grating having a pattern of a large difference in refractive index is formed in a waveguide having a large thermophotometric constant (dn/dT) and to provide a method of manufacturing the optical element in a large volume at a low cost.例文帳に追加

大きな熱光学定数(ｄｎ／ｄＴ)を有する導波路中に屈折率差の大きいパターンの回折格子が形成された光学素子と、それを高い量産性で安価に作製することができる製造方法を提供する。 - 特許庁

Considering that the dot flaw and the longitudinal line flaw are adjacently present, the defect compensation circuit 76 performs designated difference operation using pixels around a pixel of an interest to be compensated and determines an interpolation pattern according to the result of comparison between differential operation values.例文帳に追加

点キズと縦線キズとが隣接して存在することを考慮し、欠陥補正回路７６は補正すべき注目画素の周囲の画素を用いた所定の差分演算を実行し、差分演算値の大小比較に応じて補間パターンを決定する。 - 特許庁

A replacement period or cleaning period of the EUV mask is determined in accordance with the difference in growth amount of the foreign bodies growing through EUV exposure on the sunny side and shade side of the pattern of the EUV mask (multilayer reflective mask) for EUV lithography.例文帳に追加

ＥＵＶリソグラフィ用のＥＵＶマスク（多層膜反射マスク）のパターンにおける日向面側と日陰面側とにＥＵＶ露光に伴いそれぞれ成長する異物の成長量の差に応じて、ＥＵＶマスクの交換時期又はクリーニング時期を決定する。 - 特許庁

To overcome a problem that the deformation of a multilayer wiring board is caused and the breaking of a conductive pattern is generated since cracks are generated depending on the difference of a shrinking behavior between a dissimilar material layer and an insulating layer, when the dissimilar material layer is formed in the multilayer wiring board.例文帳に追加

多層配線基板に異種材料層を形成したとき、多層配線基板の変形が発生し、また異種材料層と絶縁層との収縮挙動の差によってクラックが発生することで、導体パターンの断線が生じる。 - 特許庁

Hereby, a lower corner of the floating gate 120 is thermally oxidized to provide a round profile, Thus, a difference between the thickness at an edge of the film and that at the center of the same becomes larger in the gate oxide film 110 than the gate interlayer insulating film pattern 130.例文帳に追加

これによって、浮遊ゲート１２０の下部角が熱酸化されてラウンドされたプロフィールを有し、結果的に、膜のエッジでの厚さと中央での厚さとの差はゲート層間絶縁膜パターン１３０よりゲート酸化膜１１０の方が大きくなる。 - 特許庁

To provide an organic developing process method and an organic developing process device capable of stabilizing a fine line width in a circuit pattern and improving throughput without using a rinsing liquid and without being influenced by a time difference in an organic developing process.例文帳に追加

リンス液を用いずに、かつ有機現像処理の時間差の影響を受けずに回路パターンの微細線幅の安定化及びスループットの向上を図れるようにした有機現像処理方法及び有機現像処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a sulfonium salt in which when used for a resist material, there are little elution and pattern dependence (dark bright difference) to a soaking water, and which is useful as a photoacid generator of a chemistry amplification resist material, and has a fluoro alkoxy chain into a cation part.例文帳に追加

レジスト材料に用いた場合に液浸水への溶出およびパターン依存性（ダーク・ブライト差）が少なく、化学増幅レジスト材料の光酸発生剤として有用である、カチオン部分にフルオロアルコキシ鎖を有するスルホニウム塩の提供。 - 特許庁

To evade a useless printing processing by performing preview display according to finish of print data and confirming characters which are omitted due to difference between printing resolution and display resolution, states of ruled line or dither pattern.例文帳に追加

印刷データの仕上がりに準じたプレビュー表示を行うことができ、印刷解像度と表示解像度との違い等により欠落してしまう文字や罫線の状態またはディザパターンの確認を行って、無駄な印刷処理を回避することである。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a halftone type phase shift mask in which black defects of a light shield layer are removed and black defects in a phase shift layer are not generated and transmissivity is not deduced due to gallium stain and phase difference due to decrease in thickness of a phase shift layer pattern is not varied.例文帳に追加

遮光層の黒欠陥は除去され、位相シフト層の黒欠陥は発生させず、ガリウムステインによる透過率の低下、位相シフト層パターンの厚みの低下による位相差の変化のないハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法。 - 特許庁

When winning the small winning in the high probability game state, a small winning special variation pattern is used until a difference variation number of times γ passes after the upper-limit variation number of times j passes and a low probability game state is set.例文帳に追加

高確率遊技状態において小当たりに当選した場合、上限変動回数ｊが経過して低確率遊技状態が設定されてから、差分変動回数γが経過するまでの間、小当たり特殊変動パターンを用いる。 - 特許庁

The diodes 21, 22 have impedance lower than wiring impedance between a circuit on the signal ground and the connection parts 2, 5 when a potential difference generated between the connection parts 2, 5 and the frame ground pattern 11 is higher than a predetermined set voltage value.例文帳に追加

ダイオード２１、２２は、接続部２、５とフレームグラウンドパターン１１との間で生じる電位差が、所定の設定電圧値より高い時には、シグナルグラウンド上の回路と接続部２、５との間の配線インピーダンスよりも低いインピーダンスを有する。 - 特許庁

To provide a game machine allowing a player to recognize a difference of a play value by outputting a sound corresponding to the play value when a pattern is temporarily stopped at a plurality of indication embodiments with different play values to be imparted.例文帳に追加

付与されるべき遊技価値が異なる複数の表示態様で仮停止させる際に、その遊技価値に対応付けられた音声を出力させることにより、遊技者に遊技価値の違いを認識させることができる遊技機を提供する。 - 特許庁

To provide a decorative material becoming clear by strengthening a difference of a height and a gloss of a rugged part of a coating film on a surface and having excellent solvent resistance and high durability up to an erasure of a pattern even by wiping it by a cloth or the like impregnated with a solvent.例文帳に追加

表面の塗膜の凹凸の高さ及び艶の差がより強調されて鮮明となった化粧材であって、耐溶剤性が優れ、溶剤をしみ込ませた布等で拭いても、模様が消失するまでの耐久性が高いものを提供する。 - 特許庁

To provide a colored curable composition for a color filter capable of maintaining line width sensitivity and discrimination (alkali dissolution rate difference) between an exposure part and an un-exposure part and forming a fine pattern having high rectangularity in a pigment concentration heightened composition.例文帳に追加

顔料濃度を高めた組成において、線幅感度と露光部及び未露光部間のディスクリミネーション（アルカリ溶解速度差）を保ち、微細で矩形性の高いパターンを形成することができるカラーフィルタ用着色硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an information processor capable of accurately executing the voice recognition of a character string which has less difference of display pattern with an HTML sentence of an original sentence, and has difficult reading or has a plurality of reading, and capable of easily following a link by voice operation.例文帳に追加

原文のＨＴＭＬ文章と表示形態の相違が少なく、読みが難しいまたは読みが複数ある文字列があっても正確に音声認識でき、音声操作によりリンクを容易にたどることのできる情報処理装置を提供する。 - 特許庁

By obtaining the difference between the obtained measurement results D1, D2, the displacement amount of the pattern 21 itself in the X axis direction is canceled out, and the amount of variation of the position of the stage 1 during movement at each position in the X axis direction is calculated.例文帳に追加

そして、得られた測定結果Ｄ１，Ｄ２の差分をとることにより、パターン２１自体のＸ軸方向の変位量を相殺し、移動中のステージ１の各位置におけるＸ軸方向についての位置の変化量を算出する。 - 特許庁

In a two-dimensional line pattern formed of: the difference between the target air volume ratio SWFr on a front seat side and the target air volume ratio SWRr on a rear seat side; and the opening of the outlet mode, the actual control coordinate point px in the present input value is specified.例文帳に追加

前席側の目標風量比率ＳＷＦｒと後席側の目標風量比率ＳＷＲｒの差と、吹出口モードの開度で形成された二次元線図パターンにおいて、現入力値における実制御座標点ｐｘを特定する。 - 特許庁

In this case, since an optical disk is attachably and detachably provided in the display control unit 33, the difference of the display contents of the special pattern display device can be coped with by just mounting the optical disk different from the present one to the display control unit 33.例文帳に追加

この場合、表示制御ユニット３３に光ディスクが着脱可能に設けられているので、表示制御ユニット３３に現状とは別の光ディスクを装着する程度で特別図柄表示装置の表示内容の違いに対応できる。 - 特許庁

To provide a multi-scanning type exposure device capable of carrying out satisfactory projection exposure using a plurality of projection optical units while suppressing difference in the line width of a pattern image formed in a superposed exposure region via two projection optical units adjacent to each other.例文帳に追加

互いに隣接する２つの投影光学ユニットを介して重複露光領域に形成されるパターン像の線幅差を小さく抑え、複数の投影光学ユニットを用いて良好な投影露光を行うことのできるマルチ走査型の露光装置。 - 特許庁

The lower reflecting region R2 has a level difference at the boundary part with the upper reflecting region R1, and an intermediate pattern Pc by the refection light at the lower reflecting region R2 is formed so as to be overlapped partially on a high luminous intensity side.例文帳に追加

下部反射領域Ｒ２は、上部反射領域Ｒ１との境界部に段差を有しているとともに、当該下部反射領域Ｒ２での反射光による中間パターンＰｃが高光度側で部分的に折り重なるように形成されている。 - 特許庁

The variation of an electromotive voltage due to the pattern of charging and discharging and the variation of the electromotive voltage due to temperature variation are taken into account because they are canceled when the difference ΔV of the voltage is obtained, so that the abnormality of the set battery can correctly by determined.例文帳に追加

充放電のパターンによる起電圧の変動、温度変化による起電圧の変動は電圧の偏差ΔＶを求める際に相殺されることにより考慮されているから、より正確に組電池の異常を判定することができる。 - 特許庁

Since the active particles produce difference in solubility to the developer component between exposed and unexposed parts by reaction with the photosensitive agent (quinone diazide or the like) in the unexposed part, they are added to the photosensitive resin and are useful for forming a pattern.例文帳に追加

活性粒子は、未露光部での感光剤（キノンジアジド類など）との反応により、露光部と未露光部とで現像剤成分（アルカリなど）に対する溶解度差を生じさせるため、感光性樹脂に添加して、パターンを形成するのに有用である。 - 特許庁

Accordingly, a spot pattern by the colored element (12), (12)... can be clearly floated up and a difference of color of the painted part can be reduced by increasing an amount of colored elements (12), (12)... without impairing the water-proof property and the elastic property of the sealing material (10).例文帳に追加

従って、シーリング材(10)の防水性や伸縮性を損なわずに、着色体(12)(12)…の量を増やす等して、着色体(12)(12)…による斑点模様を鮮明に浮かび上がらせることができ、塗装部との意匠差を低減することができる。 - 特許庁

The variable length encoder also encodes a prediction mode including the integrated motion vector and the integration pattern inputted from an evaluation value detection and prediction mode judgement circuit 13 and transmits it to the decoding side in addition to the quantized difference data.例文帳に追加

可変長符号器は前記量子化差分データの他に、評価値検出及び予測モード判定回路１３から入力される統合化された動きベクトルとその統合化パターンを含んだ予測モードも符号化して復号側に送信する。 - 特許庁

As a basic digital code padding technology, a structure for padding extra information in an image by using a machine readable code arranged to represent digital data by the difference of arrangement pattern between two adjacent pixel groups of different gradation is utilized.例文帳に追加

ベースとなるデジタルコード埋込み技術としては、階調の異なる隣接した２つの画素群の配置パターンの違いによってデジタルデータを表わすようにした機械可読コードを使って付加情報を画像中に埋め込む仕組みを利用する。 - 特許庁

Thus, from the very simple calculation of summing up the number of the metric difference values below the above threshold value, the signal quality evaluation index well correlated with the total error rate reflecting a contribution ratio of each pattern can be obtained.例文帳に追加

これによって、単に上記閾値を下回るメトリック差分の値の数を足し合わせるだけという非常に簡易な計算により、各エラーパターンの寄与率を反映した全体エラーレートと良く相関する信号品質評価指標を得ることができる。 - 特許庁

In the diffraction element 1 for diffracting incident light, a plurality of first and second phase difference regions 10 and 20 for diffracting incident light are alternately arranged to form a diffraction pattern on a transparent substrate 30.例文帳に追加

入射光を回折させるための回折素子１には、透明基板３０上に、入射光を回折させるための第１の位相差領域１０と第２の位相差領域２０とが交互に複数配列されて回折パターンが形成されている。 - 特許庁

As shown by Figure 1(b), a process for forming a contact hole 4 by a dimension exceeding he same degree as the thickness d1 of the CVD oxide film 10 in which hole an end portion 4a which is bored at a distance L1 in a lateral direction from the step-difference pattern 2 is arranged is performed.例文帳に追加

図１（ｂ）に示すように、ＣＶＤ酸化膜１０の膜厚ｄ１の同程度を超える寸法で段差パターン２から横方向の間隔Ｌ１をおいて開孔する端部４ａが配置されるコンタクトホール４を形成する工程を行う。 - 特許庁

To provide a refractive index variable composition in which the refractive index of the material is varied by an easy method and a refractive index difference can be varied in a desired positive or negative direction, and to provide a method for forming a refractive index pattern from the composition.例文帳に追加

材料の屈折率変化を簡易な方法で行うとともに、屈折率差を正または負の任意の方向に変化することができる屈折率変化性組成物および該組成物から屈折率パターンを形成する方法を提供すること。 - 特許庁

To preclude a subtle edge part difference from being detected as a defect candidate or a defect, when forming a pattern unavoidable on a process in an edge part, and to maintain high detection capability with respect to non-edge part defects.例文帳に追加

エッジ部においてはプロセス上不可避なパターン形成時の微妙なエッジ部差異を欠陥候補、または欠陥として検出しないようにする一方で、非エッジ部欠陥に対しては高い検出力を維持するパターン検査ができるようにする。 - 特許庁

In the optical communication system, a light transmitter 1s of a master station 1 becomes an error measuring mode after starting, transmits a test pattern signal memorized in a mode slave station 3 side by the maximum output, and repeatedly transmits decreasing the transmission output step by step by a predetermined level difference.例文帳に追加

親局１の光送信器１ｓは、起動後、エラー測定モードになり、モード子局３側が記憶したテストパターン信号を最大出力から送信し、所定のレベル差で１段ずつ送信出力を下げて繰り返して送信する。 - 特許庁

A floor heating controller 52 previously stores, in a memory, a matching map of a temperature difference between a detected room temperature set assuming the hot water supply at 60°C and a target floor heating temperature with an ON/OFF pattern in a predetermined control cycle of a thermomotive valve 15.例文帳に追加

床暖房コントローラ５２は、６０℃の温水供給を想定して設定された検出室温と目標床暖房温度との温度差と熱動弁１５の所定制御周期におけるＯＮ／ＯＦＦパターンとの対応マップを予めメモリに記憶している。 - 特許庁

The expected time is decided to correct the revolution jitters by the sum of the coefficient applied to the integrated term, the proportional term, and the difference term of the timing error (tes) between the reading time of the NORMAL pattern already read and the expected time.例文帳に追加

予想時刻は、回転ジッタを補償するように、すでに読み出されたＮＯＲＭＡＬパターンの読み出し時刻と予想時刻との間のタイミング誤差（tes）の積分項、比例項、及び差分項のそれぞれに係数をかけた項の和によって決定する。 - 特許庁

A lighting control system 1 changes a lighting pattern according to a difference between a life of an electric lamp 86 of a lighting apparatus 80 included in a first lighting group and a life of the electric lamp 86 of the lighting apparatus 80 included in a second lighting group.例文帳に追加

照明制御システム１は、第１照明グループに含まれる照明器具８０の電灯８６の寿命と、第２照明グループに含まれる照明器具８０の電灯８６の寿命との差に応じて点灯パターンを変更している。 - 特許庁

A value difference between the input value of an aligner used for subjecting a photoresist layer on a wafer W to light exposure and a measured value obtained through an overlay measuring unit 20 which measures the exposed and developed photoresist pattern is obtained, a correction value for correcting the input value so as to reduce the value difference is calculated, and the correction value is managed as exposure process data by the generation hour.例文帳に追加

ウェーハＷ上のフォトレジストを露光するための露光装置の入力値と、露光処理され現像されたフォトレジストパターンをオーバーレイ測定機２０を通じて得た測定値との間の誤差値を得て、誤差値を減少させるように入力値を補正するための補正値を算出し、補正値を次の補正値の算出のための露光工程データとして生成時間単位に管理する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing copper conductive films used for wiring of an image display device, for plating with a uniform plating height in a case where the maximum line width of a level difference structure is four times or more of the minimum line width thereof, and for easily forming a copper wiring pattern having less resistance variation between the level difference structures, without significantly deteriorating the productivity.例文帳に追加

画像表示装置の配線等として用いられる銅導電膜を形成する際に、生産性を大きく低下させることなく、段差構造体の最大線幅が最小線幅に対して４倍以上である場合においても均一なめっき高さでめっきを行ない、段差構造体間での抵抗ばらつきの小さい銅配線パターンを容易に形成できるようにする。 - 特許庁