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difference patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1082件
For the EL display device, a hydrophilic layer part is formed so as to get over the level difference of a substrate and cover wider area than that of an electrode opening, and a light emitting layer is formed depending on the selection pattern of hydrophilic/water repellent property.例文帳に追加
本発明のEL表示装置は、基板段差を乗り越えて電極開口部よりも広い範囲にわたって親水層部を設け、親水性/撥水性の選択パターンによって発光層を形成する。 - 特許庁
In this case, the test picture is obtained as a concentric circle-shaped pattern whose variable density is repeated like a sine wave so that a repeating cycle can be made longer and a luminance difference (amplitude) can be made larger as a distance from the center is made larger.例文帳に追加
ここで、当該試験画像は、中心からの距離が大きくなるに従って繰り返し周期が長く、輝度差(振幅)が大きくなるように正弦波状に濃淡を繰り返す同心円状のパタンとなっている。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a ceramic lamination wherein step-difference due to a conductor pattern formed on a ceramic green sheet can be eliminated, and imperfect adhesion between the ceramic green sheets and delamination after baking can be prevented.例文帳に追加
セラミックグリーンシート上に形成された導体パターンによる段差を解消できるとともに、セラミックグリーンシート間の密着不良並びに焼成後のデラミネーションを防止できるセラミック積層体の製法を提供する。 - 特許庁
After that, the secondary transfer roller is brought into pressure contact with the intermediate transfer belt (S21), a speed difference detecting pattern is formed on the intermediate transfer belt in the Y color (S22), and after formation, the secondary transfer roller is separated from the intermediate transfer belt (S24).例文帳に追加
その後、二次転写ローラを中間転写ベルトに圧接し(S21)、Y色で速度差検出用パターンを中間転写ベルトに形成し(S22)、形成後、二次転写ローラを中間転写ベルトから離間させる(S24)。 - 特許庁
To provide a phase difference layer capable of effectively suppressing the deterioration of display quality without producing a contrast pattern in a display image even when being arranged between a liquid crystal cell and a polarizing plate.例文帳に追加
液晶セルと偏光板との間に配置した場合でも、表示画像に明暗模様を発生させることがなく、表示品位が低下してしまうことを効果的に抑制することができる位相差層を提供する。 - 特許庁
To provide an apparatus for manufacturing patterned tempered glass, in which the temperature difference between inner and outer parts of a glass substrate subjected to heating and surface pattern formation is increased to the maximum, and thereby tempering is more thoroughly performed through rapid cooling.例文帳に追加
表面のパターン形成と共に加熱されたガラス基板の内外部の温度差を最大に大きくし、急冷却を通じて強化がより完全になされるようにするパターンド強化ガラスの製造装置を提供する。 - 特許庁
The device is provided with a circuit 14 for detecting the wear at the front end of the probe 9 which detects the wear at the front end 9A of the probe 9 from the shape of an eye pattern formed from the various level difference or pulse width or servo signal of the output of the probe.例文帳に追加
探針出力の高低レベル差やパルス幅あるいはサーボ信号から形成したアイパターンの形状から探針9の先端9Aの磨耗を検知する探針先端磨耗検知回路14を設ける。 - 特許庁
The degree of confidence of appearance of a ready-to-win display mode in any of the variable display areas (1) to (4) varies depending on a difference of the sequence in which the right pattern is stopped in each of the variable display areas (1) to (4).例文帳に追加
可変表示領域(1)〜(4)の何れかにリーチ表示態様が出現することの信頼度は、可変表示領域(1)〜(4)の各々に右図柄が停止される順序の違いによって、異なるものとなっている。 - 特許庁
To provide an alignment pattern and its forming method in which a peak can be read out readily by detecting a level difference surely through scanning even when planarization is performed by CMP without requiring any extra process.例文帳に追加
新たな工程を付加することなく、CMPによる平坦化を行った場合でも、スキャンにより段差を確実に検出して容易にピークを読み取ることができる目合わせパターン及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
This woven fabric comprises the cotton yarn and the polyester fiber and cotton/polyester mixed yarn as a component and develops a pattern by the difference of dyeing properties of cotton and polyester to the hydrophilic dye.例文帳に追加
綿糸、ポリエステル繊維及び綿・ポリエステル混紡糸を構成成分とする織物であって、この織物は、綿とポリエステルの親水性染料に対する染色性の違いによって図柄を発現させたことを特徴とする。 - 特許庁
To provide a mask for mask ROM as well as manufacturing method for mask ROM, wherein the variation in size of a resist opening part caused by difference in density of an ROM pattern is controlled to provide a sufficient work margin.例文帳に追加
ROMパターンの疎密によるレジスト開口部の大きさのばらつきを制御し、十分な加工マージンを得ることができるマスクROM用マスクと、これを用いたマスクROMの製造方法を提供すること - 特許庁
The blocks 18 of five types are different mutually in length along the circumferential direction R, and a tread pattern has five kinds of pitches P1, P2, P3, P4, and P5 appropriate to a difference in the length of the block 18.例文帳に追加
トレッド14の周方向Rに沿った長さが相互に異なるブロック18が5種類存在し、ブロック18の長さの相違に合わせてトレッドパターンに5種類のピッチP1、P2、P3、P4、P5が存在している。 - 特許庁
A signal generator 11 calculates a phase difference pattern for displaying an image 18 to be formed with a preset brightness such as the same brightness according to the use efficiency of light or the area of the image 18 to be formed.例文帳に追加
形成される画像18の光の利用率や面積に応じて、形成される画像18を同じ明るさなど予め設定した明るさで表示するための位相差パターンを信号発生器11が算出する。 - 特許庁
Light from a discharge light emitter 24a of the discharge bulb is diffused, deflected and reflected by a reflection surface 20a of a reflector 20, thereby forming a light distributing pattern P having right and left horizontal cut-off lines CL1, CL2 with a stepped difference.例文帳に追加
そして、放電バルブの放電発光部24aからの光をリフレクタ20の反射面20aで拡散偏向反射させて、左右段違いの水平カットオフラインCL1、CL2を有する配光パターンPを形成する。 - 特許庁
To provide a controlling method for the sintering temperature pattern for realizing the consistent control with small difference ΔT between maximum and minimum values in the temperature variance when the sintering temperature is controlled by adjusting the number of revolution of an exhauster.例文帳に追加
排風機の回転数を調整し焼結温度を制御する場合において、温度バラツキ最大最小差△Tの小さい安定した制御を行う焼結温度パターンの制御方法を提供する。 - 特許庁
A pattern detection section 407 determines whether the pixel block of interest is a pixel block including the regular patterns according to the magnitude comparison result with the total value, difference value, count value, and a preset threshold value.例文帳に追加
パターン検出部407は、合計値、差分値、カウント値と、予め設定された閾値との大小比較結果に基づいて、着目画素ブロックが規則的なパターンを含む画素ブロックであるのか否かを判定する。 - 特許庁
The second aperture 2a and the first aperture 5a are separately adjusted based on the line width data and the line width density difference data of the pattern transferred by the aligner onto a wafer 6, and this changes the optical intensity of the image plane on the wafer 6 for the adjustment of the density of the resist pattern to be transferred onto the wafer 6.例文帳に追加
この露光装置によってウェハ6上へ転写したパターンの線幅データおよび線幅疎密差データに基づいて、第2の開口2aおよび第1の開口5aをそれぞれ調整することにより、ウェハ6上の結像面での光強度を変化させ、ウェハ6上に転写されるレジストパターンの疎密性を調整する。 - 特許庁
Such a constitution can surely detect an open state, since a remarkable difference is generated in a detecting level of an inspection electric current by its sensor 13, when there is the sensor 13 on the normal conductive pattern without an open state, and when the sensor 13 is positioned on the conductive pattern having an open place.例文帳に追加
かかる構成とすることで、オープン状態のない正常な導電パターン上にセンサ13がある場合と、オープン箇所のある導電パターン上にセンサ13が位置したときとで、そのセンサ13による検査電流の検出レベルに顕著な相違が生じるため、オープン状態の検出を確実に行える。 - 特許庁
On the periphery of a large pattern 1 existing on a substrate and having a level difference and an area large enough to cause uneven coating 3, a small pattern 2 having an area small enough to cause no uneven coating is arranged and coated with liquid by spin coating to form a thin film having a uniform film thickness.例文帳に追加
基板上に存在する塗布ムラ3を生じさせる程度の大きな高低差と大きな面積を有する大きなパターン1の周囲に、塗布ムラを生じさせない程度の小さな面積を有する小さなパターン2を配置し、回転塗布法により液体を塗布し、均一な膜厚の薄膜を形成する。 - 特許庁
In the case of receiving an establishment command before receiving a fluctuation pattern command, a CPU for display control calculates the time before stopping the rotation of a drum motor in the state of displaying stop patterns corresponding to a difference between data for indicating left, right and center stop patterns and the data for indicating present display pattern data.例文帳に追加
変動パターンコマンドを受信していないうちに確定コマンドを受信した場合には、表示制御用CPUは、左右中の停止図柄を示すデータと現在表示図柄データを示すデータとの差に応じて、停止図柄を表示した状態でドラムモータの回転を停止するまでの時間を算出する。 - 特許庁
Such a constitution can surely detect an open state because a remarkable difference in detecting levels of an inspection current by the sensor 13 is generated between when the sensor 13 is on the normal conductive pattern with no open state and when the sensor 13 is positioned on the conductive pattern having an open portion.例文帳に追加
かかる構成とすることで、オープン状態のない正常な導電パターン上にセンサ13がある場合と、オープン箇所のある導電パターン上にセンサ13が位置したときとで、そのセンサ13による検査電流の検出レベルに顕著な相違が生じるため、オープン状態の検出を確実に行える。 - 特許庁
When an original image is smoothed, since a pixel 35 of interest before being shifted is shifted according to the density difference between the pixel 35 of interest before being shifted and a comparison pixel at its circumference, the image can be smoothed without spoiling the edge of the pattern, so that accurate fault place detection can be carried out without misrecognizing the end part of the pattern as the fault place.例文帳に追加
元画像を平滑化する際に、シフト前の注目画素35とその周囲の比較画素の濃度差によりシフト前の注目画素35のシフトを行うために、パターンのエッジを損なうことなく平滑化できるので、パターンの端部を故障箇所と誤認することなく正確な故障箇所検出を行うことができる。 - 特許庁
When continuously detecting that the density variation value of a toner pattern image exceeds a predetermined value (α) two or more times and if a difference between the first density variation value and the second density variation value obtained after the first density variation value is smaller than a predetermined value (β), the image forming apparatus judges that the pattern reading means is abnormal.例文帳に追加
トナーパターン画像の濃度変動値が予め決められた値(α)を超えることを複数回連続して検知した場合に、第1の濃度変動値と該第1の濃度変動値よりも後に得られた第2の濃度変動値との差分が、予め決められた値(β)より小さい場合は、パターン読み取り手段が異常と判断する。 - 特許庁
With respect to communication using the multicarrier, an error quantity which is the amount of difference between the coordinate point of the eye pattern detected from an actual reception signal in each sub-carrier and that essentially scheduled from the reception signal is calculated by an eye pattern display control part 105 and is displayed on an oscilloscope 107.例文帳に追加
マルチキャリアを用いる通信において、各サブキャリアにおける現実の受信信号から検知されるアイパターンの座標点とその受信信号から本来予定されるアイパターンの座標点との差異量であるエラー量をアイパターン表示制御部105で算出し、オシロスコープ107に表示させる。 - 特許庁
To obtain a printer for printing a pattern onto a cloth by discharge ink of a desired color, in which an operation on a user side for switching the drive voltage or the drive pulse width in order to stabilize the discharge quantity of ink regardless of difference in the viscosity characteristics of ink is eliminated, when the pattern is printed with the same color while varying the density.例文帳に追加
布帛に絵柄等を所望の色のインクを吐出させて染色するものにおいて、同一色においても濃度を変えて染色する場合、インクの粘度特性の違いに関係なくインクの吐出量を安定させるために駆動電圧又は駆動パルス幅を切換えるユーザ側での操作を省く。 - 特許庁
To provide a charged particle beam exposure method and a device, where image forming conditions can be efficiently corrected on shape astigmatism caused by a pattern distribution difference between sub-fields in a charged particle beam exposure method of a split transfer system, and resultantly, a pattern of high resolution and high accuracy can be projected for exposure and transferred.例文帳に追加
分割転写方式の荷電ビーム露光において、各サブ・フィールド内のパターン分布の相違に起因する形状非点収差等の結像条件の補正を効率良く実行でき、結果的に高解像・高精度のパターン転写露光を実現できる荷電ビーム露光方法及び荷電ビーム露光装置を提供する。 - 特許庁
In the wiring board provided with a conductor pattern 3a having a solder joint P, on at least one side of an insulation layer 16, outer surface of the conductor pattern 3a is entirely located lower than the outer surface of the insulation layer 16, and a level difference wall 16a is formed on the boundary to the insulation layer 16.例文帳に追加
ソルダ接続部Pを有する導体パターン3aが、少なくとも一方の表面の絶縁層16に設けられた配線基板において、導体パターン3aの外表面の全体が、絶縁層16の外表面より低い位置に配置されて、絶縁層16との境界に段差壁16aが形成されている。 - 特許庁
To provide a dry etching method with which no undercut occurs and a working shape difference hardly occurs between an isolate pattern and a congestion pattern, in the step of selectively removing a chemical compound semiconductor layer containing neither Al nor In and laminated on a chemical compound semiconductor layer containing either Al or In.例文帳に追加
AlもしくはInを含む化合物半導体層の上に積層されたAlもしくはInを含まない化合物半導体層を選択的に除去する工程において、アンダーカットが生じず、且つ、孤立パターン部と密集パターン部における加工形状差の生じにくい、ドライエッチング方法を提供する。 - 特許庁
An irregular pattern is formed to a part of the face, and the building board having design properties along the height difference of the irregular pattern is obtained by utilizing the fluidity, viscosity, surface tension or the like of metallic paints by coating the face with the metallic paints having little pigment components (much resin components).例文帳に追加
化粧面の一部に凹凸模様を形成し、該化粧面に顔料成分の少ない(樹脂成分の多い)メタリック塗料を施すことにより、そのメタリック塗料の流動性、粘性、表面張力等を利用し、凹凸模様の高低差に沿った意匠性を有した建築用板を得るものである。 - 特許庁
To provide a Pachinko machine for allowing a beginner and an aged person to understand game progress of a Pachinko game, and to enjoy the game regardless of victory or defeat of the game, so as to be put in an excellent mood, by imparting a difference to a display method of a pattern displayed on a pattern display device composed of a liquid crystal display arranged on a board surface.例文帳に追加
盤面に設けた液晶ディスプレイよりなる図柄表示装置に表示される図柄の表示方法などに違いを持たせることで、初心者やお年寄りでもパチンコ遊技のゲーム運びが理解でき、遊技の勝敗に関係無く遊技を楽しんだり、遊技後も良い気分にさせるパチンコ機を提供することにある。 - 特許庁
A part for forming a watermark pattern by microirregularity is formed on a nonwoven fabric and the upper paper layer is laminated to the nonwoven fabric to form a watermark pattern by the difference of fiber quantities between the protruded part and the recessed part and, as necessary, a lower paper layer is laminated relative to the nonwoven fabric to obtain the watermarked multi-ply paper.例文帳に追加
不織布に微細な凹凸による透かし模様形成部が形成され、不織布上に上層紙層を積層することで、凸部に対する繊維量と、凹部に対する繊維量の差により透かし模様が形成され、必要に応じて、不織布に対して下層紙層を積層した透かし模様入り多層抄き合わせ紙である。 - 特許庁
Subsequently, the difference between the address of peak value of the first intensity waveform 75A and the minimum address jmin is multiplied by the scanning movement of an exposure pattern image 66 per address to determine the distances of the exposed images 673 and 671 in the direction of X-axis thus measuring the dimensions of the exposure pattern image 66.例文帳に追加
続いて、この第1強度波形75Aのピーク値のアドレスと該最小値アドレスjminとの差に、1アドレス当たりの露光パターン像66の走査移動量を乗算して、露光像673と露光像671とのX軸方向の距離寸法を算出して、露光パターン像66の寸法を測定する。 - 特許庁
It comprises a phase detecting means 2 for detecting the phase of a power supply voltage, a first level discriminating means 3 for discriminating relationship, difference in level, of respective phase power supply voltages from the detected phase, and a commutation pattern generating means 4 for deciding the switching pattern of the AC switch according to the level discrimination signal.例文帳に追加
電源電圧の位相を検出する位相検出手段2と、検出した位相から各相電源電圧の大小関係を判別する第1の大小判別手段3と、この大小判別信号に従って交流スイッチのスイッチングパターンを決定する転流パターン生成手段4と、を備える。 - 特許庁
In the image obtained by inverse-transforming the matrix to which the small component ΔF is added a phase difference pattern W01 corresponding to the small component ΔF is embedded, and if the original image is secretly hidden, this pattern cannot be taken out of an embedded image or cannot be erased by an overwriting attack.例文帳に追加
微小成分ΔFを加えた行列を逆変換することにより得られた画像には、微小成分ΔFに対応した位相差パターンW01が埋め込まれており、このパターンは、原画像が秘匿されていれば、埋め込み済みの画像から取り出したり、上書き攻撃により抹消したりすることができない。 - 特許庁
A mask correction pattern for narrowing an etching opening width is formed in a position in irrelevance to a sensor shape, in an etching opening part for etching the semiconductor substrate, and the etching difference within the wafer face is narrowed by regulating a size of the mask pattern toward a wafer outer circumferential part to enhance the yield and to reduce the cost.例文帳に追加
半導体基板をエッチングするマスク開口部において、センサ形状と無関係の位置にエッチング開口幅を狭めるマスク補正パターンを形成し、ウエハ外周部に向かって、マスク補正パターンのサイズを調整することにより、ウエハ面内でのエッチングレート差を縮め、歩留まりの向上及び低コスト化を図る。 - 特許庁
To provide a heat-curable resin decorative sheet which is free from the effacing of a matte effect upon a matte pattern due to thermal molding under pressure and shows a superb texture feel due to a sufficient difference in luster, in the heat-curable resin decorative sheet having the matte pattern formed on the surface of a heat-curable resin-impregnated paper layer.例文帳に追加
熱硬化性樹脂含浸紙層の表面に艶消模様を有する熱硬化性樹脂化粧板において、加熱加圧成形によっても艶消模様の艶消効果が減殺されることがなく、十分な艶差による優れたテクスチャー感を有する熱硬化性樹脂化粧板を提供する。 - 特許庁
The prior control means forms only one toner pattern for detection 9x on an intermediate transfer belt 5 by developing a bias decided by the last adhesive amount control, compares a detection value for prior control by an optical toner sensor 9 concerning the pattern 9X with a target detection value, obtains a difference between them, and variously sets a number of toner patterns for detection formed in the adhesive amount control based on the difference.例文帳に追加
該事前制御手段は、前回の付着量制御によって決定された現像バイアスによって、中間転写ベルト5上に検出用トナーパターン9Xを1個だけ形成し、パターン9Xについての光学式トナーセンサ9による事前制御用検出値を、目標検出値と比較して、その差異を求め、その差異に基づいて、付着量制御において形成する検出用トナーパターンの個数を種々設定する。 - 特許庁
The waveform pattern of the load at the rear end side is made to coincide with a standard signal pattern equivalent to the waveform pattern of the load at the rear end side to make time axes of both patterns coincide with each other, and the difference between the both patterns is compared.例文帳に追加
検出された荷重波形パターンを記憶し、この記憶された荷重波形パターンを荷重波形パターンの後端側から先端側に向かって走査して所定しきい値を超えた部分の後端側の荷重波形パターンを抽出し、この後端側の荷重波形パターンをこの後端側の荷重波形パターンに相当する基準信号パターンに一致させて両パターンの時間軸を一致させ、両パターンの差を比較することを特徴とする。 - 特許庁
A frequency correcting portion 22 detects a synchronization word from the digital demodulation signal, compares a received pattern of the detected synchronization word and a fixed pattern of the synchronization word which is held in advance as a known fixed pattern, calculates a difference in average amplitude value as a frequency deviation correction value, and adds the digital demodulation signal and the frequency deviation correction value to correct a frequency deviation of the digital demodulation signal.例文帳に追加
周波数補正部22は、上述したデジタル復調信号から同期ワードを検出し、検出した同期ワードの受信パターンと、あらかじめ既知の固定パターンとして保持している同期ワードの固定パターンとを比較し、平均振幅値の差を周波数偏差補正値として算出し、上述したデジタル復調信号と周波数偏差補正値とを加算して、デジタル復調信号の周波数偏差を補正する。 - 特許庁
To provide a ring lighting type color measuring method and a device thereof in which the difference of formation of shadows is small regardless of the inegularity pattern and the effect of the relation between the direction of a material to be measured and the lighting direction is not generated.例文帳に追加
凹凸模様の状態にかかわらず影の出来方の相違が小さく、被測定物の向きと照明方向との関係の影響が生じないリング照明式色彩測定方法及びその装置を提供すること。 - 特許庁
To enable electron-beam-lithography on the whole surface of a disk with precision, evenness, and optimal exposure, by correcting an decrease in exposure in the contour section of an element set area of a desired pattern caused by a difference between proximity effects.例文帳に追加
近接効果の差による所望のパターンの素子集合領域の輪郭部における露光量の低減を補正し、ディスクの全面にパターンを高精度にかつ均一に最適露光量による電子ビーム描画が行えるようにする。 - 特許庁
The pattern memory prepares a switching patter for the switching portion corresponding to an output set point from 1 to 100%, and each of the switching patterns is set so that one set comprises eight cycles and an output difference in the two consecutive cycles is as small as possible.例文帳に追加
パターンメモリには1〜100%の出力設定値に対応するスイッチ部の切り替えパターンを用意し、各切り替えパターンは8サイクルを1セットかつ連続する2サイクルの出力差をできるだけ小さくなるような設定とする。 - 特許庁
Provided are an unevenness inspection device and an unevenness inspection method capable of precisely discriminating a pattern change production place from the contrast caused by the difference in the quantity of diffracted light, and also performing an unevenness inspection by simply leading out the change production period thereof.例文帳に追加
回折光量差によるコントラストからパターン変動発生箇所を精度良く識別し、かつ、その変動発生周期を簡便に導出することによってむら検査を実施することができる検査装置およびむら検査方法。 - 特許庁
To provide an external connection structure of a semiconductor package with high reliability by eliminating a step difference between a conductor pattern connected with external connection terminals and a surrounding insulation layer, so as to avoid variations in heights of the external connection terminals.例文帳に追加
外部接続端子が接続する導体パターンと周囲の絶縁層との間に段差をなくして、外部接続端子の高さのばらつきを解消し、信頼性の高い半導体パッケージの外部接続構造を提供する。 - 特許庁
The cross-sectional structure of the heater wiring 50 has a level difference arranged such that the pattern width of the first conductive wiring layer 51b is wider than that of the second conductive wiring layer 52b and the third conductive wiring layer 53b.例文帳に追加
また、第1の導電性配線層51bのパターン幅が、第2の導電性配線層52b及び第3の導電性配線層53bのパターン幅よりも広く構成された段差を備えた断面構造を有している。 - 特許庁
Phase difference between a detection phase cycle and a reference phase cycle is detected, based on the image of the periodic pattern 33 by a main control system 23, and based on the detection result, the imaging characteristics of the projection optical system 24 are corrected.例文帳に追加
主制御系23により、前記周期パターン33の像に基づく検出位相周期と前記基準位相周期との位相差を検出し、その検出結果に基づいて投影光学系24の結像特性を補正する。 - 特許庁
When an etching mask for actual processing is formed on the substrate, the numerical aperture of the second pattern portion is determined, based on the data determined previously, such that the in-plane variations of the etching conversion difference in the film to be etched becomes small (ST6).例文帳に追加
被エッチング膜におけるエッチング変換差の面内ばらつきが小さくなるように、基板に実処理のためのエッチングマスクを形成する際の第2パタン部の開口率を先に求めたデータに基づいて決定する(ST6)。 - 特許庁
A high edge quantity pattern area 17 is formed on an original platen 6 being a background, and image processing is operated by using a specific Laplacian filter for read image data so that an edge quantity difference between the original and the background with the high edge area can be detected.例文帳に追加
背景となる原稿台6に高エッジ量パターン領域17を施し、読み取り画像データについて特定のラプラシアンフィルタを用いて画像処理することで、原稿と高エッジ領域の背景とのエッジ量差を検出する。 - 特許庁
The pattern drawing apparatus 1 measures the irradiation position of pulse light by each optical head and changes the time interval Ts of the calibration process in accordance with the deviation amount P of the irradiation position and with the difference ΔP in the deviation amounts.例文帳に追加
本実施形態のパターン描画装置1は、各光学ヘッドによるパルス光の照射位置を計測し、その照射位置のずれ量Pおよびずれ量の差分ΔPに応じて較正処理の時間間隔Tsを変更する。 - 特許庁
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