「difference pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

An essential taper-like level difference side 139 of the insulating film 130 is formed on a pattern edge of the metal film 102.例文帳に追加

金属膜１０２のパターンエッジ上に絶縁膜１３０の順テーパ状の段差面１３９が形成される。 - 特許庁

The straightening plates 41, 42 are respectively formed in a staircase pattern approximately in parallel with each other with difference in level.例文帳に追加

整流板４１，４２は、互いに略平行且つ段差を有する階段状にそれぞれ形成されている。 - 特許庁

In this case, a phase difference correction pattern also needs to have a plurality of steps for correction by only itself.例文帳に追加

このとき、位相差補正パターンのみで補正すると、位相差補正パターンも複数の段差を備える必要がある。 - 特許庁

At the time, the control part 30 searches a peak of 5T amplitude, in a moving phase difference control pattern.例文帳に追加

このとき、レーザパワー制御部３０は、移動位相差制御用パターンの５Ｔ振幅のピークとなるところを探す。 - 特許庁

Non-ordinariness analysis processing 212 analyzes the measurement result, and extracts a difference from a daily life pattern.例文帳に追加

非日常性分析処理２１２が、測定結果を分析して、日常の生活パターンとの差異を抽出する。 - 特許庁

To suppress a difference between etching amounts caused at simultaneous etch-back in regions with different pattern coating rates.例文帳に追加

パターン被覆率の異なる領域で同時にエッチバックを行った際に生じるエッチング量の差を抑制する。 - 特許庁

The colorimetry of a pattern image of each color is performed by means of a chromatometer 17, so that a color difference from a reference colorimetric value can be computed.例文帳に追加

各色のパターン画像は、測色計１７で測色し、基準の測色値との色差を算出する。 - 特許庁

After that, the board 1 is irradiated with light, and the pattern is inspected on the basis of a difference in a reflection state.例文帳に追加

その後，プリント配線板１に光を照射し，反射状況の相違によるパターン検査を実施する。 - 特許庁

To provide a photoluminescent pattern coating film forming method and a coated product having reproducibility as a pattern by positively giving mica ununiformity caused by the difference of hue and the difference of lightness by Hunter's color difference formula between a color base coating film and a mica pigment-containing photoluminescent clear coating film.例文帳に追加

カラーベース塗膜とマイカ顔料含有光輝性クリヤー塗膜との色相差、ハンターの色差式における明度指数差に起因するマイカムラを積極的に発現させ、模様として再現性のある光輝性模様塗膜形成方法および塗装物を提供すること。 - 特許庁

A difference absolute sum calculation section 2 sums difference absolute values of each pixel in two consecutive image patterns by one image pattern to calculate a difference absolute sum as to an original picture before being rearranged by a pre-processing section 1.例文帳に追加

前処理部１による並べ替え前の原画像について、差分絶対値和算出部２により、連続する二画面間における画素毎の差分絶対値を一画面分合計して差分絶対値和を算出する。 - 特許庁

Two hologram images are acquired based on the photo-electron intensity distribution pattern, and a difference hologram image is acquired by taking the difference between the hologram images, and Fourier transform of the difference hologram image is executed to acquire the atomic image.例文帳に追加

この光電子強度分布パターンに基づいて２つのホログラム像を取得し、これらのホログラム像の差をとって差分ホログラム像を取得し、この差分ホログラム像をフーリエ変換して原子像を取得する。 - 特許庁

A consistency degree operation means 5 determines the degree of dispersion of the pixel values of the difference image extracted by the difference image extraction means as the degree of consistency between the distance image and the reference pattern.例文帳に追加

一致度演算手段５は差画像抽出手段により抽出した差画像の画素値のばらつきの程度を距離画像と基準パターンとの一致度として求める。 - 特許庁

Then, a density difference of the pattern formation material, which corresponds to the existence of the conductive primer layer 7 due to a surface resistance difference between the conductive primer layer 7 and the base coat layer 6, is created.例文帳に追加

すると、導電プライマー層７とベースコート層６の表面抵抗値の差により、導電プライマー層７の有無に対応した模様形成材料の密度差が生じる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device having a fine gate electrode, while suppressing the difference in dimensions and difference in shapes, regardless of the density of an electrode pattern.例文帳に追加

電極パターンの疎密の程度に関わらず、寸法差や形状差を抑制して微細なゲート電極を備えた半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The pattern includes a change point at which tone difference before the inverse gamma conversion is one gradation and the gradation difference becomes two gradations or more by the inverse gamma conversion.例文帳に追加

このパターンは、逆ガンマ変換前の階調差が１階調であり逆ガンマ変換によって階調差が２階調以上となった変化点を含むパターンである。 - 特許庁

A conversion difference D1 is calculated which indicates a difference between a measured value of a width W3 of a pattern 45a of a mask layer 45 formed on a diffraction grating layer 41 and a design value of the width.例文帳に追加

回折格子層４１の上に形成されたマスク層４５のパターン４５ａの幅Ｗ３の測定値とその設計値との差を示す変換差Ｄ１を算出する。 - 特許庁

To quickly and exactly predict a part where a level difference equal to or greater than a predetermined level difference occurs when a film to be flattened on a pattern is flattened, thereby correcting the layout in a short time.例文帳に追加

パターン上の被平坦化膜を平坦化する際に所定以上の段差が発生する箇所を迅速かつ的確に予測し、短時間でレイアウト修正を行うこと。 - 特許庁

Accordingly, because the pattern 113 of the conversation and the pattern 123 of the conversation can be simultaneously visually recognized by the video of the step-up notice 2, a player becomes easy to comprehend a difference between the pattern 113 of the conversation and the pattern 123 of the conversation.例文帳に追加

このため、ステップアップ予告２の映像で会話の絵柄１１３および会話の絵柄１２３が同時に視覚的に認識可能となるので、会話の絵柄１１３および会話の絵柄１２３相互間の違いを遊技者が視覚的に把握し易くなる。 - 特許庁

In a shift vector operation means 5a, a shift vector showing a positional difference of blood vessels between a blood vessel pattern X and a comparative blood vessel pattern Y is generated, and the blood vessels within the blood vessel pattern X are shifted by the pattern shift means 5b using the shift vector.例文帳に追加

シフトベクトル算出手段５ａにおいて、血管パターンＸと比較血管パターンＹとにおける血脈の位置ずれを示すシフトベクトルが生成され、パターンシフト手段５ｂにより血管パターンＸ内の血脈がシフトベクトルを用いてシフトされる。 - 特許庁

An inkjet printer 4 detects a difference of a density amplitude value (an amplitude difference value C) from an AD value (density data), and judges a best examination pattern based on data for judgement in which the maximum value (the maximum value of the amplitude difference) is set among a plurality of the amplitude difference values Cj.例文帳に追加

インクジェットプリンタ４は、ＡＤ値（濃度データ）から濃度振幅値の差分（振幅差分値Ｃｊ）を検出し、複数の振幅差分値Ｃｊのうち最大値（振幅差分最大値）が設定された判定用データに基づき最良の検査パターンを判定する。 - 特許庁

This scratch processed metal like decorative sheet 10 is constituted by successively forming a scratch like pattern layer 2 and a metal gloss layer 3 comprising a bright ink layer or the like to the back of a transparent resin sheet 1 and a gloss difference pattern layer 4 for bringing the outermost surface to a scratch like gloss difference pattern on the upper surface of the transparent resin sheet 1.例文帳に追加

スクラッチ加工金属調化粧シート１０は、透明樹脂シート１の裏側に、スクラッチ調絵柄層２、光輝性インキ層等からなる金属光沢層３を順次形成し、表側には最表面をスクラッチ調艶差模様とする艶差絵柄層４を形成した構成とする。 - 特許庁

Continuously, the calculated weight coefficient is actually set to each of antenna elements, the directional pattern of the array antenna at that time is measured, the absolute value of a difference between the calculated directional pattern and the measured directional pattern is respectively found for each direction, and an added total value, to which this difference is added, is found.例文帳に追加

続いて、算出した重み係数を各アンテナ素子に実際に設定し、そのときのアレーアンテナの指向性パターンを測定し、算出した指向性パターンと測定した指向性パターンを各方向毎にその差の絶対値をそれぞれ求め、この差を加算した加算合計値を求める。 - 特許庁

A positional difference between a coordinate of the representative point of the standard pattern and a coordinate of the representative point of the determination pattern in the corresponding divided area is obtained, and when the positional difference is within a predetermined range at every divided area, the determination pattern is judged as a target object.例文帳に追加

対応する分割領域における標準パターン代表点の座標と被判定パターン代表点の座標の位置的差異を求め、すべての分割領域において位置的差異が予め定められた範囲内であるときに被判定パターンは目的の対象物であると判定する。 - 特許庁

For example, phase difference between adjacent element lenses is made 0°, 180°, 0°, 180°; thereby, the pitch of an interference pattern in a lit surface is made half as a whole by superposing a dark part of an interference pattern generated between element lenses of phase difference of 180° in a dark part of an interference pattern generated in element lenses of phase difference of 0°.例文帳に追加

例えば、隣り合う素子レンズ間の位相差を０度，１８０度，０度，１８０度とすることによって、位相差が０度の素子レンズ間で発生する干渉縞の暗部に、位相差が１８０度の素子レンズ間で発生する干渉縞の明部を重ねることによって、全体としての被照明面での干渉縞のピッチを従来の半分にする。 - 特許庁

An image pattern selection section 13 receives the difference and selection reference value corresponding to each reproduction speed, compares them, selects only the image pattern with the difference in excess of the selection reference value and outputs a selection image instruction.例文帳に追加

画面選択部１３は、各画面に対応する差分量と選択基準値とを各々入力し、これらを比較して選択基準値を越える差分量を有する画面だけを選択して、選択画面指示を出力する。 - 特許庁

The main circuit current is flowed from the first circuit pattern through the second circuit pattern via the bonding wires and a potential difference between the pair of terminal patterns is detected to find the potential difference between both the edges of the bonding wire.例文帳に追加

第１の回路パターンからボンディングワイヤを介して第２の回路パターンに主回路電流を流し一対の端子パターン間の電位差を検出することにより、ボンディングワイヤの両端間に生じる電位差を検出する。 - 特許庁

To provide a mask blank and a mask, wherein linearity is suppressed to 10 nm or less by suppressing a difference (actual dimensional difference) between a design dimension of the line width of a transfer pattern on a transfer mask and a dimension of the line width of a transfer pattern formed on a substrate.例文帳に追加

転写用マスクの転写パターン線幅の設計寸法と、基板上に形成された転写パターン線幅寸法との差（実寸法差）を抑え、Linearityを１０ｎｍ以下に抑えることが可能なマスクブランク及びマスクを提供する。 - 特許庁

A distance difference D=Ee-Eo is obtained where Eo is the distance between the reproduced signal and the first pattern and Ee is the distance between the reproduced signal and the arbitrary pattern.例文帳に追加

まず、再生信号と第１のパターンとの間の距離Ｅｏと、再生信号と任意のパターンとの間の距離Ｅｅとの間の距離差Ｄ＝Ｅｅ−Ｅｏが求められる。 - 特許庁

Accordingly, the transfer pattern, following the distortion of pattern of the grounding or the chip of the body 12 to be transferred or the distortion having non-orthogonality or a magnification difference in X, Y directions, for examples, can be obtained.例文帳に追加

従って、被転写体１２の下地のチップのパターンの歪み、例えば非直交性やＸ，Ｙ方向の倍率差をもった歪みに追従した転写パターンが得られる。 - 特許庁

Then, a distance Eo between the reproduced signals and the first pattern and a distance difference D=Ee-Eo are obtained where Ee is the distance between the reproduced signals and the arbitrary pattern.例文帳に追加

まず、再生信号と第１のパターンとの間の距離Ｅｏと、再生信号と任意のパターンとの間の距離Ｅｅとの間の距離差Ｄ＝Ｅｅ−Ｅｏが求められる。 - 特許庁

To provide a method for creating a mask by which the difference in pattern dimensions between local regions in a device pattern forming region is reduced and dimensional accuracy is enhanced.例文帳に追加

デバイスパターンの形成領域内における局所的な領域間でのパターンの寸法差を低減させて、寸法精度の向上を図り得るマスクの作成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of forming a pattern in which even if the different parts of a level difference or surface characteristic exist in a substrate, a disconnection, etc. does not occur in the formed pattern.例文帳に追加

基板に段差や表面特性の異なる部分がある場合であっても、形成されるパターンに断線等を生じさせないパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a mask pattern generating device which corrects the size of a mask pattern printed on the same medium to be etched according to an arrangement position decided by taking a difference in etching rate into account.例文帳に追加

同一のエッチング対象媒体に焼き込むマスクパターンの大きさを、エッチングレートの違いを考慮した配置位置に応じて補正するマスクパターン生成装置を得ること。 - 特許庁

To enable to easily recognize asymmetry in pattern appearance while minimizing the difference between right and left in pattern performance in a pneumatic tire in which a mounting direction is specified.例文帳に追加

装着の向きが指定された空気入りタイヤにおいて、パターン性能の左右差を最小限に留めつつ、パターン外観上、非対称を容易に判断可能できるようにする。 - 特許庁

With this, the pattern is allowed to be seen clearly by the difference of the brightness of the display pattern part with less brightness and other parts with comparatively high brightness.例文帳に追加

これにより、他の部分に比べて輝度の低い表示パターン部と、相対的に輝度の高い他の部分との輝度の差によりパターンを明瞭に視認することができる。 - 特許庁

Rotation angle deviation from a detection object pattern image is detected and further corrected by calculating an angle difference from a reference pattern for detecting rotation angle deviation.例文帳に追加

回転角度ずれを検出するための基準パターンとの角度差を計算することで検出対象パターン画像との回転角度ずれを検出し、さらには補正する。 - 特許庁

Difference between the reduction rate of the conductor pattern 6 forming the low reduction rate region and that of the conductor pattern 6 forming the other part, is ranged to 22% from 10%.例文帳に追加

そして、低縮率領域を構成する導体パターン６の縮率と、それ以外の部位を構成する導体パターン６の縮率との差は１０〜２２％となっている。 - 特許庁

On the other surface of the glass substrate 21, phase difference compensating films 8B, 8G, and 8R are provided in an array pattern corresponding to the array pattern of the filter layers 30B, 30G, and 30R.例文帳に追加

ガラス基板２１の他方の面に、各フィルタ層３０Ｂ，３０Ｇ，３０Ｒの配列パターンに対応した配列パターンで位相差補償膜８Ｂ，８Ｇ，８Ｒを設ける。 - 特許庁

Consequently, a difference in thickness between the end part of the silver paste pattern in the width direction and around the center of the silver paste pattern becomes small, and the shrinkage stress of the bus bar electrode is greatly reduced.例文帳に追加

これにより、銀ペーストパターンの幅方向の端部と中央付近とで厚みの差が小さくなって、バスバー電極の収縮応力が大幅に低減される。 - 特許庁

First, a distance difference D=Ee-Eo between the distance Eo between the reproduction signal and the first pattern and the distance Ee between the reproduction signal and the arbitrary pattern is determined.例文帳に追加

まず、再生信号と第１のパターンとの間の距離Ｅｏと、再生信号と任意のパターンとの間の距離Ｅｅとの間の距離差Ｄ＝Ｅｅ−Ｅｏが求められる。 - 特許庁

Thereafter, the width of a transfer line, corresponding to each dot arrangement pattern of the pattern transferred on the photosensitive agent, is measured to calculate the aberrations from the difference between the width of each transfer line.例文帳に追加

その後、感光剤に転写されたパターンの、各ドット配列パターンに対応する転写ラインの幅を測定し、各転写ラインの幅の差から、収差を算出する。 - 特許庁

A taper 2a is formed in a circumferential part region of a transparent electrode pattern 2 for preventing the generation of a sudden change of phase difference at the boundary of the transparent electrode pattern 2.例文帳に追加

透明電極パターン２の周縁部域に、透明電極パターン２の境目で急激な位相差変化が生じるのを防ぐようにテーパー２ａを形成する。 - 特許庁

To provide a transparent conductive film in which the difference in visibility between a pattern P and a pattern opening O is kept small even when a transparent conductive layer is patterned.例文帳に追加

透明導電層がパターン化された場合でも、パターン部Ｐとパターン開口部Ｏとの視認性の差が小さく抑制された透明導電性フィルムを提供する。 - 特許庁

In the board, since the thickness of the solid pattern 4 is smaller than that of the line pattern 3, a level difference on the surface of the DFA layer 6 can be reduces.例文帳に追加

このプリント配線板では、ベタパターン４の厚さが単独線パターン３の厚さよりも薄いため、ＤＦＡ層６の表面に生じる高低差が低減されている。 - 特許庁

In order to sense a main scanning length difference between respective laser beams, a pattern for compensation is formed by a forming speed of 1/(beam quantity), and the pattern for compensation is sensed by a photo-sensor 60.例文帳に追加

各レーザビームの主走査長差を検知するために、補正用パターンを１／（ビーム数）の形成速度で形成し、フォトセンサ６０で補正用パターンを検知する。 - 特許庁