「dummy pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

A dummy pattern is formed in a thin pattern region on a mask by utilizing phase contrast to impart the same shape as the shape of light diffracted by a dense pattern to light diffracted by the thin pattern, thereby reducing the thin-dense deflection of an element pattern formed on a wafer.例文帳に追加

マスク上の疎らなパターン領域に位相差を利用してダミーパターンを形成して、疎らなパターンの回折光を密なパターンの回折光と同じ形にすることによって、ウェーハ上に形成される素子パターンの疎密偏差を低減する。 - 特許庁

Thus, a decouping capacitor formed of the field dummy areas, the gate insulating film dummy patterns 21a and the gate electrode dummy patterns 31a in the p- well 23 is connected to a main electronic circuit in parallel, by using the dummy pattern used in the CMP process.例文帳に追加

上記の構成により、ＣＭＰ工程において用いられるダミーパターンを利用することによって、ｐ^-ウェル２３内のフィールドダミー領域、ゲート絶縁膜ダミーパターン２１ａおよびゲート電極ダミーパターン３１ａからなるデカップルコンデンサが主たる電子回路に並列に接続されることとなる。 - 特許庁

The liquid crystal display panel includes a first substrate provided with a pixel pattern piled up on a display area R and a dummy pattern 41 having two or more kinds of dummy pattern parts of mutually different thicknesses, a second substrate, a liquid crystal layer, and a plurality of spherical spacers 15.例文帳に追加

液晶表示パネルは、表示領域Ｒに重なった画素パターンと、互いに厚みの異なる複数種類のダミーパターン部を有したダミーパターン４１とを具備した第１基板と、第２基板と、液晶層と、複数の球状スペーサ１５とを備えている。 - 特許庁

To prevent a short circuit with metal lines which ought not be connected by constituting a dummy pattern in a position proximate to the outline of the pattern of the wiring concentrated with a charge and inducing a charge damage by a a charge difference with the adjacent metal lines to the dummy pattern.例文帳に追加

本発明は、チャージが集中する配線のパターン外廓と近接された位置でダミーパターンを構成して隣接されたメタルラインとのチャージディファレンスによるチャージダメージをダミーパターンへ誘導することによって連結してはならないメタルラインとの短絡を防止する。 - 特許庁

The dummy pattern 7 is formed through the same steps as those for forming a function pattern (gate wiring 5a) which arranges the elements each consisting of an MOS (metal oxide semiconductor) transistor.例文帳に追加

ダミーの導電パターン７は、ＭＯＳトランジスタからなる素子を構成する機能パターン（ゲート配線５ａ）と同一工程で形成されたものとする。 - 特許庁

A region 28 where no wiring pattern 18 is provided is located at each corner of the device hole 16, and a dummy pattern 30 is provided in the regions 28 respectively.例文帳に追加

ここでデバイスホール１６の四隅には配線パターン１８が引き回されない領域２８が存在するが、当該領域２８には、ダミーパターン３０が設けられる。 - 特許庁

The photomask has a pattern-concentrated region 21 where F-shape patterns 1 are densely arranged, and a pattern scattered region 22 where small square dummy patterns 2 are scattered.例文帳に追加

「Ｆ」の字型のパターン１が密集するパターン密集領域２１と、小さな矩形状のダミーパターン２が点在するパターン点在領域２２とが存在している。 - 特許庁

Positions of a phase shifter 106 to a phase shifter 109 are determined based on the layout data with the underlay pattern 102 and the dummy underlay pattern 105 placed.例文帳に追加

下層パターン１０２及びダミー下層パターン１０５が配置されたレイアウトデータを基に位相シフタ１０６から位相シフタ１０９の配置を決定する。 - 特許庁

A stripe or linear gate electrode dummy pattern 4 is inserted into the empty region 3 where an active region pattern 1 and a gate electrode pattern 2 are not provided among regions arranged with a circuit pattern, so that the gate electrode circumferential edge length per unit area of the total of the gate electrode pattern 2 and the gate electrode dummy pattern 4 is set within a specified range.例文帳に追加

回路パターンの配置領域のうち、活性領域パターン１及びゲート電極パターン２が設けられていない空き領域３に、短冊状又は線状のゲート電極ダミーパターン４を挿入し、それによってゲート電極パターン２とゲート電極ダミーパターン４との合計の単位面積当たりのゲート電極周縁長が所定の範囲に設定されるようにする。 - 特許庁

A dummy wiring pattern 16d is formed as corresponding to a non-display region and in contact with a sealing material 16s.例文帳に追加

非表示領域に対応しシール材１６ｓに接するようにダミー配線パターン１６ｄが形成されている。 - 特許庁

An element array formed by combining MTJ (magnetic tunnel junction) elements 23 and dummy elements 28 has a lattice-shaped dense pattern.例文帳に追加

ＭＴＪ素子２３及びダミー素子２８を合わせた素子アレイは、格子状の密集パターンを有している。 - 特許庁

To suppress eddy current generated in a dummy conductor pattern provided in a layer different from a high-frequency wiring.例文帳に追加

高周波配線と相異なる層に設けられたダミー導体パターンに発生する渦電流を抑制する。 - 特許庁

A first dummy pattern 18 is provided on a green resin layer 16 having the highest hardness on the outer side of a color filter layer 14.例文帳に追加

カラーフィルタ層14の外側に最も硬度が高い緑色樹脂層16にて第１ダミーパターン18を設ける。 - 特許庁

WSiN is formed into a film (step S12), and this film is etched (step S14) to form a dummy pattern.例文帳に追加

ＷＳｉＮを成膜し（工程Ｓ１２）、このＷＳｉＮ膜をエッチングし（工程Ｓ１４）、ダミーパターンを形成する。 - 特許庁

The dummy conductor pattern 20 is, in a plane view, so arranged as to avoid a region overlapping with the high-frequency wiring.例文帳に追加

ダミー導体パターン２０は、平面視で、高周波配線と重なる領域を避けるように配置されている。 - 特許庁

The method of manufacturing the flexible printed wiring board includes a pattern forming step and a dummy terminal forming step.例文帳に追加

フレキシブルプリント配線板の製造方法において、パターン形成工程とダミー端子形成工程とを行う。 - 特許庁

The step A2 to step A5 are then repeated until the size of the dummy pattern becomes the minimum size which meets a design rule.例文帳に追加

そしてステップＡ２乃至ステップＡ５を、ダミーパターンのサイズがデザインルールを満たす最小サイズに至るまで繰り返す。 - 特許庁

To provide a semiconductor device which can suppress a step difference in a wiring layer by using a dummy pattern.例文帳に追加

本発明は半導体装置に関し、ダミーパターンを用いて配線層の段差を抑制することを目的とする。 - 特許庁

To design a semiconductor device by taking into consideration capacity fluctuation between wiring patterns due to the insertion of a dummy pattern.例文帳に追加

ダミーパターンの挿入による、配線パターン間の容量変動を考慮した半導体装置の設計をする。 - 特許庁

Dummy pattern 44a, 44b are formed by the same material film with a first gate 120a of a peripheral circuit transistor.例文帳に追加

ダミーパターン４４ａ、４４ｂは周辺回路トランジスタの第１ゲート１２０ａと同一の物質膜で形成される。 - 特許庁

No dummy pattern is formed in the region within the predetermined distance on both sides of the second gate electrode.例文帳に追加

ダミーパターンは、第２のゲート電極の両側方における所定の距離以内の領域には形成されていない。 - 特許庁

A trench isolation region 12 having a dummy pattern 12DMY of trench is formed on a semiconductor substrate 10.例文帳に追加

半導体基板１０上にトレンチのダミーパターン１２ＤＭＹを有するトレンチ素子分離領域１２を形成する。 - 特許庁

A dummy pattern is formed on the outside of device patterns formed in an exposure region in the surface of a photomask.例文帳に追加

フォトマスクの面内における露光領域内に形成されたデバイスパターンの外側にダミーパターンを形成する。 - 特許庁

To quickly discharge to a substrate positive and negative charge charged to a dummy pattern for CMP.例文帳に追加

ＣＭＰ用ダミーパターンにチャージした正の電荷と負の電荷の双方を、速やかに基板に放電できるようにする。 - 特許庁

Patterning data of the electrode pattern, the wiring pattern and the dummy wiring pattern is generated by a CAD system, patterning data of the electrode pattern and the dummy wiring pattern is coupled as a component cell data corresponding to the electronic component, and previously registered in the component library of the CAD system.例文帳に追加

ここで、電極パターン、配線パターン及びダミー配線パターンのパターン形成用データはＣＡＤシステムによって生成されるものであり、電極パターン及びダミー配線パターンのパターン形成用データは電子部品に対応する部品セルデータとして結合されており、ＣＡＤシステムの部品ライブラリに予め登録されたデータであることを特徴とする。 - 特許庁

The pattern arranging device 50 is provided with: an arrangement region setting part 54 which sets the arrangement region where a dummy pattern is arranged in an intermediate region between the wiring patterns adjoining each other in such a way that distances from both adjoining wiring patterns are substantially constant; and a pattern arranging part 55 for arranging the dummy pattern in the arrangement region.例文帳に追加

パターン配置装置５０は、ダミーパターンが配置されるべき配置領域を、互いに隣り合う配線パターンの中間領域に、かつ両隣の配線パターンに対する間隔が実質的に一定になるように設定する配置領域設定部５４と、ダミーパターンを配置領域に配置するパターン配置部５５と、を備える。 - 特許庁

Stress migration occurs at the connection between the dummy Cu pattern 43B and the dummy via plug 47D of the lower wiring layer at the tip, and occurrence of the stress migration is prevented at the connection between the via plug 47C and the lower-layer wiring pattern 43A.例文帳に追加

ストレスマイグレーションは先端部の下層配線層のダミーＣｕパターン４３Ｂとダミービアプラグ４７Ｄの接続部で発生し、ビアプラグ４７Ｃと下層配線パターン４３Ａの接続部ではストレスマイグレーションの発生は防止される。 - 特許庁

To provide a method of flattening a semiconductor device which can suppress irregularity in a chip while minimizing a quantity of dummy pattern insertion by removing part of a dummy pattern, and also a semiconductor device flattening system.例文帳に追加

ダミーパターンの一部を削除することにより、ダミーパターン挿入量を最小化しつつ、かつチップ内の凹凸を抑制することができる半導体装置の平坦化方法および半導体装置の平坦化システムを提供する。 - 特許庁

A dummy pattern 21 is formed on both sides of waveguide cores 11a, 11b opposed adjacently to each other to arrange a structure interposed between the dummy pattern and the waveguide core in a non-gap part (an area which is not interposed between two waveguide cores).例文帳に追加

近接して対向する導波路コア１１ａ，１１ｂの両側にダミーパターン２１を形成し、非ギャップ部（２つの導波路コアに挟まれていない領域）にダミーパターンと導波路コアに挟まれた構造を設けている。 - 特許庁

By this setup, the solder left on the dummy pattern 6 is reduced in volume, and solder is restrained from moving to the lands due to a reaction that occurs when the solder attached to the dummy pattern is separated from a solder jet, so that a solder bridge is prevented from being produced between the lands.例文帳に追加

これにより、ダミーパターンに残るはんだの量を減らして、ダミーパターンに付着したはんだがはんだ噴流から分離する際の反動でランド側に移動するはんだの戻りを抑え、よってランド間のはんだブリッジを回避する。 - 特許庁

Further, in the low dielectric constant film 4 or the like, materials (a first dummy pattern 10 or the like, a second dummy pattern 12 or the like, for examples) are formed below a pad unit 47 with hardness harder than that of the low dielectric constant film 4 or the like.例文帳に追加

そして、当該低誘電率膜４等において、パッド部４７の下方部分には、低誘電率膜４等よりも硬度の硬い材料（たとえば、第一のダミーパターン１０等，第二のダミーパターン１２等）が形成されている。 - 特許庁

Variable display is performed by three symbols using the dummy pattern of the substantially same shape as the failure pattern, whereby apparently it is made similar to the conventional three-digit display so that the relationship between the dummy symbol and the real symbol is not leaked to a game player.例文帳に追加

外れ図柄と実質同形のダミー図柄を用いて、３つの図柄にて変動表示を行うので、見かけ上は従来の３桁表示と同じになり、遊技者にダミー図柄と本図柄との関係がばれることはない。 - 特許庁

In the case of forming an upper pattern only on the lower pattern 2, using a scanning exposure system on the surface of a wafer where a difference in level exists by the lower pattern 2, dummy patterns 1 having the same height as the lower pattern 2 are arranged in the right and left positions of the lower pattern 2.例文帳に追加

下層パターン２により段差が存在するウェハ表面に，スキャン型の露光装置を用いて下層パターン２上にのみ上層のパターンを形成する場合，下層パターン２と同等の高さを有するダミーパターン１を下層パターン２の左右位置に配置する。 - 特許庁

The dummy conductor pattern 12 is caused to prevent the formation region of the lead-out conductor pattern 7 from falling from the formation region of the main conductor pattern 5, and damages of the lead-out conductor pattern 7 caused by the falling can be avoided.例文帳に追加

ダミー導体パターン１２によって、メイン導体パターン５の形成領域に対する引き出し導体パターン７の形成領域の落ち込みが防止されて、その落ち込みに起因した引き出し導体パターン７の損傷を回避できる。 - 特許庁

In the semiconductor device having copper wiring 26b buried into an insulating film 16 and a dummy pattern 26c for CMP buried into the insulating film 16 near the copper wiring 26b, a unit pattern for composing the dummy pattern 26c is formed with a density of 10-25% per unit area.例文帳に追加

絶縁膜１６に埋め込まれた銅配線２６ｂと、銅配線２６ｂの近傍の絶縁膜１６に埋め込まれたＣＭＰ用のダミーパターン２６ｃとを有する半導体装置において、ダミーパターン２６ｃを構成する単位パターンを、単位面積あたり１０〜２５％の密度で形成する。 - 特許庁

In the process to form a pole part of a recording head, a dummy pattern is formed by using the material such as photoresist so that the end of the pattern is positioned at the position for forming the pole part, and a soft magnetic material becoming the pole is formed to the film on the side surface of this dummy pattern by using a method such as a gradient sputtering.例文帳に追加

記録ヘッドのポール部分を形成する工程において、ポール部分を形成する位置にパターンの端が位置するようにフォトレジストなどの材料を用いてダミーパターンを形成し、このダミーパターンの側面に傾斜スパッタリングなどの手法を用いてポールとなる軟磁性材料を成膜する。 - 特許庁

Below the capacitive element, a conductor pattern 8b which is a dummy gate pattern for preventing dishing in a CMP step, and an active region 1b which is a dummy active region are arranged, and both regions are connected to the metal pattern for shielding, consisting of the wirings M1-M5, thus being connected to a fixed potential.例文帳に追加

容量素子の下方には、ＣＭＰ工程のディッシング防止のためのダミーのゲートパターンである導体パターン８ｂと、ダミーの活性領域である活性領域１ｂとが配置され、これらは配線Ｍ１〜Ｍ５からなるシールド用の金属パターンに接続されて固定電位に接続されている。 - 特許庁

Further, the small-area dummy pattern of a lower layer and the small area dummy pattern Ds2 of an upper layer are arranged to a region with a wide inter-pattern space in patterns (active regions L1, L2, L3, and a gate electrode 17 or the like) that act as elements in a product region PR and the scribe region SR.例文帳に追加

また、製品領域ＰＲおよびスクライブ領域ＳＲの素子として機能するパターン（活性領域Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３、ゲート電極１７等）のパターン間スペースが広い領域に下層の小面積ダミーパターンと上層の小面積ダミーパターンＤｓ２を配置する。 - 特許庁

Both the length of one side of the metal dummy pattern 109 and the width of the dummy keep-out region 108 are set shorter than the minimum pitch between the power supply lines 104 and GND lines 105.例文帳に追加

金属ダミーパターン１０９の一辺の長さと、ダミー禁止領域１０８の幅とを共に、電源配線１０４とＧＮＤ配線１０５との間の最小ピッチよりも小さくする。 - 特許庁

To provide a layout method and layout apparatus for obtaining the constitution of a dummy pattern group whereby dummy patterns can be inserted efficiently into the layout of actual patterns while suppressing the increase of the data amount required therefor.例文帳に追加

データ量の増加を抑えた上で実パターンのレイアウト内にダミーパターンを効率良く挿入できるダミーパターン群の構成が得られるレイアウト方法及びレイアウト装置を提供する。 - 特許庁

When the reading operation of the synchronizing pattern fails, the data between the synchronizing pattern and the re-synchronizing pattern are reproduced in accordance with the error correcting process without storing dummy data in the buffer memory 13.例文帳に追加

同期パターンの読み取りに失敗したとき、該同期パターンと前記再同期パターンとの間のデータは、ダミーデータをバッファメモリ１３に格納することなく、誤り訂正処理に基づいて再生される。 - 特許庁

The optical imprint method uses a mold that has a pattern formed in an effective region, and a dummy pattern formed outside the effective region and having at least the same depth as that of the pattern.例文帳に追加

本発明の光インプリント方法では、有効領域に形成されたパターンと、有効領域外に形成され、かつ少なくともパターンと同じ深さを有するダミーパターンとを有するモールドを用いる。 - 特許庁

A wiring structure having a hollow part between the wiring patterns is realized by defining the area where the gap of a final wiring pattern comprising a wiring pattern and a dummy pattern is not larger than a specified as a hollow part.例文帳に追加

配線パターンとダミーパターンとからなる最終配線パターンの間隙がある値以下の領域を中空部と定義することにより、配線パターン間に中空部を有する配線構造が実現する。 - 特許庁

A dummy pattern 102 which is the same in the size of a Y direction as that of a pattern 101 for evaluation and short in the size of an X direction is drawn, and then the pattern 101 for evaluation is drawn in the X direction.例文帳に追加

評価用パターン１０１とＹ方向の寸法が同じでＸ方向の寸法が短いダミーパターン１０２を描画し、次いで、Ｘ方向に沿って評価用パターン１０１を描画する。 - 特許庁

By controlling the distribution of the dummy pattern PD1 and PD2, the division in the device pattern PM kept as minimum to make the pattern density in a plurality of complementary masks almost equal to one another.例文帳に追加

ダミーパターンＰＤ１，ＰＤ２の振り分けを調整することにより、デバイス本体パターンＰＭの分割を最小限に保持し、複数のコンプリメンタリーマスクにおけるパターンの密度をほぼ等しくする。 - 特許庁