「electron beam control」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

Switching between a primary electron ray fact deflection control circuit 43 for inspection and a primary electron beam deflection control circuit for obtaining a defective image 56 is done through a switch 54.例文帳に追加

検査用一次電子線高速偏向制御回路４３と欠陥画像取得用一次電子線偏向制御回路５６はスイッチ５４により切り替えられる。 - 特許庁

The electronic beam drawing device 1 has: a data generation circuit 43 for generating control data to control an electron beam optical system 200 based on drawing data; and a data processing circuit 45 for processing control data for outputting.例文帳に追加

電子ビーム描画装置１は、描画データに基づいて電子ビーム光学系２００を制御するための制御データを発生させるデータ発生回路４３と、制御データを処理して出力するデータ処理回路４５とを備えている。 - 特許庁

A beam forming slit is placed at a former stage of a charging control slit for the charging control slit to be irradiated with an electron beam for precharging, and to prevent the secondary electrons from disturbing the charging control.例文帳に追加

また、帯電制御スリットの前段にビーム成形スリットを配し、予備帯電のための電子ビームが帯電制御スリットに照射され帯電制御を擾乱する2次電子の発生を抑制した。 - 特許庁

The electron beam drawing device includes: a deflection control recording means recording history data of operation of a deflector; a stage movement control recording means recording history data of operation of stage movement; and an electron beam irradiation determination means determining presence of irradiation of the electron beam to the blanks by receiving the respective recorded history data.例文帳に追加

偏向器の操作の履歴データを記録する偏向制御記録手段と、ステージ移動の操作の履歴データを記録するステージ移動制御記録手段と、記録された前記各履歴データを受け取って前記ブランクスに対する電子ビームの照射の有無を判断する電子ビーム照射判断手段とを有する電子ビーム描画装置を提供する。 - 特許庁

To provide an electron beam processing machine that can make a pulse beam to high frequency and optionally control a maximum or minimum value of the pulse beam, thereby allowing high quality welding.例文帳に追加

パルスビームを高周波化できるとともに、パルスビームの最大値や最小値の値を任意にコントロールでき、品質の高い溶接を可能にする電子ビーム加工機を得ることである。 - 特許庁

To provide an electron beam control device capable of setting long focal length, without having to increase the number of lenses.例文帳に追加

レンズの個数を増やさずに焦点距離を長く設定することができる電子ビーム制御装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an X-ray generating device and an electron beam control method in which effect by Coulomb interaction can be made small.例文帳に追加

クーロン相互作用による影響を小さくすることができるＸ線発生装置および電子ビーム制御方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

Electron-beam-induced chemical reactions with precursor gases are controlled by adsorbate depletion control.例文帳に追加

吸着物質の枯渇を制御することによって、前駆体ガスとの電子ビーム誘起化学反応を制御する。 - 特許庁

SHAPE PROCESSING CONTROL TECHNOLOGY FOR LOCALLY REMOVING AND CUTTING CARBON NANO MATERIAL BY ELECTRON BEAM, AND APPARATUS THEREFOR例文帳に追加

電子線によるカーボンナノ材料の局部除去及び切断による形状加工制御技術及び装置 - 特許庁

To provide a magnetic storage device adapted to electron beam lithography and capable of highly accurately attaining tracking servo control of an electromagnetic conversion element.例文帳に追加

電子線描画に適応し、高い精度で電磁変換素子のトラッキングサーボ制御を実現することができる磁気記憶媒体を提供する。 - 特許庁

A data control section 20 operates drawing data obtained from a drawing data storage section 50 to generate data for controlling an electron beam drawing apparatus.例文帳に追加

データ制御部２０は、描画データ記憶部５０から得られた描画データを演算して、電子ビーム描画装置を制御するデータを生成する。 - 特許庁

In this method, an electron beam switch is switched to increase a resolution by a voltage control different from a publicly known FED.例文帳に追加

本方法は、公知のFEDとは異なる電圧制御により、電子ビームのスイッチを切り換え、解像度を増加させる。 - 特許庁

A computer control system, coupled to the electron beam patterning machine, has a plurality of pre-computed distortion maps.例文帳に追加

電子ビームパターニング装置と結合したコンピュータ制御システムが、複数の事前に算出された歪みマップを備えている。 - 特許庁

To reduce mis-landing of an electron beam and electric discharge generation in a spacer end portion, and to control color unevenness and black spot defects.例文帳に追加

スペーサ端部における電子ビームのミスランディングや放電発生を低減して色ムラや黒点欠陥を抑制する。 - 特許庁

The computer control system controls the electron beam patterning machine using the distortion maps in order to adjust the expected distortions.例文帳に追加

コンピュータ制御システムは、予想された歪みを調整するために、歪みマップを用いて電子ビームパターニング装置を制御する。 - 特許庁

The CPU 18 controls a deflection system control part 15 so as to irradiate the analyzing points contained in the reference image with finely throttled electron beam.例文帳に追加

ＣＰＵ１８は基準画像に含まれる分析点に、細く絞った電子ビームを照射するように偏向系制御部１５を制御する。 - 特許庁

To provide a thin type CRT manufacturable by a simple process and allowing proper electron beam control and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

製造工程が簡単で適正な電子ビーム制御が可能な薄型ＣＲＴおよび製造方法を提供する。 - 特許庁

In addition, connecting the switch 54 to the primary electron beam deflection control circuit 56 for obtaining the defective image allows low-speed deflection.例文帳に追加

また、スイッチ５４を画像取得用一次電子線偏向制御５６に接続することにより低速偏向が可能となる。 - 特許庁

A control computer 14 turns a second switch 19 on and a current I_0 is measured while irradiating an electron beam continuously.例文帳に追加

制御コンピュータ１４から第２のスイッチ１９をＯＮ側に切り換え、電子ビームを継続的に照射している状態で電流Ｉ_０を測定する。 - 特許庁

An electron beam source is made by forming the cathode K and a first control electrode G1 on the same plane in parallel with the rear face substrate SUB 1 on a rear face substrate SUB 1, and the image display of the high brightness is obtained by installing a second control electrode G2 to focus electrons taken out of this electron beam source.例文帳に追加

背面基板ＳＵＢ１上に、陰極Ｋと第１の制御電極Ｇ１を該背面基板ＳＵＢ１と平行な同一平面上に形成して電子線源とし、この電子線源から取り出される電子を集束する第２の制御電極Ｇ２を設けることにより、高輝度の画像表示を得る。 - 特許庁

In a transmission electron microscope having a fluorescent plate 6 for image observing and a television camera 7, the transmission electron microscope comprises an electron beam detector 8 formed with a hole allowing the electron beam which is incident to the television camera 7, and a control means for controlling a shutter 4 based on the exposure time calculated from the exposure time of a film shot.例文帳に追加

像観察用の蛍光板（６）とテレビカメラ（７）とを備えた透過型電子顕微鏡において、テレビカメラ（７）に入射する電子線（２）を遮断しない孔を形成した電子線検出器（８）と、電子線検出器（８）で測定した電子線量によりフィルム撮影時の露光時間を算出し、算出した露光時間に基づいてシャッター（４）を制御する制御手段（９）とを備えるようにしたものである。 - 特許庁

The electron beam exposure apparatus for exposing a desired pattern on a sample mounted on a wafer stage 124 with an electron beam generated from an electron gun 101 comprises a means 129 for injecting reducing gas into a column 100 containing the electron gun 101 and the wafer stage 124, and a control means 209 for sustaining injection of reducing gas into the column 100 for a predetermined time.例文帳に追加

電子銃１０１から発生させた電子ビームでウエハステージ１２４に載置した試料上に所望のパターンを露光する電子ビーム露光装置において、前記電子銃１０１及びウエハステージ１２４が収納されているコラム１００内に還元性ガスを注入する手段１２９と、前記コラム１００内に前記還元性ガスの注入を所定の時間継続して行わせる制御手段２０９とを有する。 - 特許庁

When the electron beam 2 is made to perform exposure on an XY arbitrary deflection position, lens correction control voltage is added and applied to polar lenses (18, 19), and thus beam deflection control is performed.例文帳に追加

電子ビーム２をＸＹ任意の偏向位置に露光する際に、偏向ＸＹ座標位置に応じて極子レンズ１８、１９にレンズ補正制御電圧を加算して印加することによりビーム偏向制御をおこなう。 - 特許庁

The control device 32 checks the input control signal, energizes a beam blanking power supply 11 when any of the respective devices is in operation, and performs the blanking of an electron beam.例文帳に追加

該制御装置３２は、入力される制御信号をチェックし、前記各装置のいずれかが動作中であるとビームブランキング電源１１を付勢し、電子ビ−ムをブランキングする。 - 特許庁

Either of a plurality of DC power supplies 11 14 is connected to a beam control coil 5 in order to control the electron beam orbit.例文帳に追加

電子ビームの軌道を制御するためのビーム制御コイル５に対し、複数の直流電源１１ないし１４のいずれか１つを接続する構成とする。 - 特許庁

The electrically charged particle beam drawing apparatus 1 includes a drawing chamber 51 wherein a guide 4 provided with a stage 3 where a mask substrate 2 is mounted is disposed at a bottom part, an electron lens barrel 20 capable of performing irradiation with an electron beam, and a drawing control computer 50 which draws a predetermined pattern by irradiating the mask substrate 2 with the electron beam in accordance with predetermined drawing data.例文帳に追加

電子ビーム描画装置１は、マスク基板２が載置されるステージ３が設けられたガイド４を底部に配置した描画室５１と、電子ビームを照射可能な電子鏡筒２０と、所定の描画データに従い、マスク基板２に電子ビームを照射して所定のパターンを描画する描画制御コンピュータ５０とを備える。 - 特許庁

In the inspection device using an electron beam, an electron beam deflection control circuit includes a first deflection circuit part generating a signal of a component in an electron beam running direction, and a second deflection circuit part generating a signal of a component in the moving direction of an inspection object sample, and further includes a setting means for independently setting deflection circuit characteristics of the first and second deflection circuit parts.例文帳に追加

電子ビームを用いた検査装置において、電子ビーム偏向制御回路は、電子ビーム走査方向成分の信号を生成する第一の偏向回路部と、被検査試料の移動方向成分の信号を生成する第二の偏向回路部を備え、前記第一及び第二の偏向回路部の偏向回路特性を独立に設定する設定手段を備える。 - 特許庁

The electron beam control device is equipped with a selecting means which selects one or more parameters that specify a curve to approximate by the curve waveforms that represent the strength of the reflected electron beam, and a modifying means which modifies, at least, either the irradiation conditions or the reflection conditions of the electron beam.例文帳に追加

本装置は、反射電子ビームの強度を表す波形を曲線で近似するために、曲線を規定する１以上のパラメータの値を選択する手段と、前記１以上のパラメータの値が許容値でない場合に、電子ビームの放射条件及び反射条件の少なくとも一方を変更する手段とを備える。 - 特許庁

To provide a novel nano-structure making control method using an electron beam-inductive vapor deposition method, capable of expanding an application range, by enhancing a degree of freedom of making a nano-structure, including controlling of the incident axis direction of an electron beam without inclining the nano-structure in the middle when making the nano-structure by using the electron beam-inductive vapor deposition method.例文帳に追加

電子ビーム誘起蒸着法を用いてナノ構造を作成する際に途中でナノ構造物を傾けることなく電子ビームの入射軸方向の制御を行うことができることを含め、ナノ構造作成の自由度を高め、応用範囲を広げることのできる新規な、電子ビーム誘起蒸着法を用いたナノ構造作成制御方法を提供する。 - 特許庁

A control electrode 10, the accelerating electrode 11, and the focusing electrode 12 are each equipped with an electron beam passing hole 10h, 11h, 12h for letting pass electron beams emitted from a cathode 9.例文帳に追加

制御電極１０、加速電極１１及び集束電極１２には、陰極９から出射された電子ビームを通過させる電子ビーム通過孔１０ｈ、１１ｈ、１２ｈがそれぞれ設けられている。 - 特許庁

To provide an electron gun and a cathode-ray tube using it, which can decrease voltage applied to an acceleration electrode according to the simple electrode structure of a electron gun, even if a diameter of a electronic beam passage hole of a control electrode is made small.例文帳に追加

制御電極の電子ビーム通過孔の径を小さくしても、簡便な電子銃の電極構造によって加速電極に印加する電圧を小さくできる電子銃及びそれを用いた陰極線管を提供することを目的とする。 - 特許庁

This picture display device evaluates electron emitting characteristics by providing a detection electrode 4 between a control electrode 3 controlling the intensity of an electron beam and an anode 5 and by setting an anode voltage so as to become lower than the voltage Vd of the detection electrode 4.例文帳に追加

電子線強度を制御する制御電極３と、陽極５の間に検出電極４を設け、陽極電圧が検出電極電圧Ｖｄより低くなるように設定を行なって電子放出特性評価を行なう。 - 特許庁

To provide a control method of charged particles in which the shading by optical aberration can be minimized at the time the charged particle beams such as electron beams are deflection controlled, and its device as well as an electron beam lithography device.例文帳に追加

電子ビーム等の荷電粒子ビームを偏向制御した際に、光学収差によるぼけを小さくできる荷電粒子の制御方法とその装置ならびに電子ビーム描画装置を提供すること。 - 特許庁

To eliminate a defect of a prior-art, due to the fact that a distance between a conductor track and an aluminum layer is short a high electrostatic capacity is formed there, and that a time constant of electron for deciding a signal for electron beam control is increased.例文帳に追加

導体トラックとアルミニウム層との間の短い距離により、そこに高静電容量が形成され、これが電子線制御用の信号の決定のための電子の時定数を増加させるという従来技術の欠点を改善する。 - 特許庁

To provide an electron beam lithographic apparatus in which temperature changes of a sample, a stage structure member and a sample chamber structure member can be reduced without causing a magnetic field change inside a sample chamber and temperature control can be performed even during irradiation with electron beams.例文帳に追加

試料室内に磁場変化を生じることなく、試料、ステージ構造部材、試料室構造部材の温度変化を低減でき、電子ビーム照射中も温度制御可能な電子線描画装置を実現する。 - 特許庁

Further, by dividing the areas into symmetry, and applying individual driving and switching control, the element breaking is prevented, the emitted area of electron forms a symmetric shape, and an electron beam with good convergence is realized.例文帳に追加

また、対称形に領域を分割し、個別駆動および切り替え制御を行うことにより、素子破壊を防ぎ、電子放出形状の対称形を保つことが可能となり、収束性のよい電子ビームを実現することが可能となる。 - 特許庁

The wafer 18 is irradiated at a high speed with the electron beam while moving the wafer 18, before acquiring the image of the secondary electron, to control a wafer 18 surface at a desired charge voltage.例文帳に追加

二次電子画像取得前にウエハ１８を移動させながら高速に電子線を照射し、ウエハ１８表面を所望の帯電電圧に制御する。 - 特許庁

To provide an electron beam irradiation apparatus which can control the generation of ozone in an irradiation portion to prevent the deterioration in the flavor of a food material, when the material such as a granular material or a powdery granular material, used for food is irradiated with electron beams.例文帳に追加

粒体、粉粒体などの食材となる被処理物に電子線を照射する場合において、照射部でオゾン発生を抑制し風味の低下を防ぐこと。 - 特許庁

To provide a method of producing a diffraction grating by direct plotting using charged particle beam such as electron beam or ion beam and in detail, a method of precisely plotting the diffraction grating having an optional spatial frequency without depending on beam irradiation position control resolution of the plotting device.例文帳に追加

本発明は、電子ビームやイオンビーム等の荷電粒子ビームを用いた、直接描画による回折格子の形成方法に係り、さらに詳しくは、描画装置のビーム照射位置制御分解能によらず、任意の空間周波数の回折格子を精度良く描画する方法に関するものである。 - 特許庁

To provide a vacuum display device for an electron microscope sample cell capable of more accurately displaying the degree of vacuum in the sample cell than before without giving poor effect on the control of a primary electron beam or a signal for secondary electrons during examination via an electron microscope.例文帳に追加

電子顕微鏡の検鏡時に、一次電子線の制御や二次電子の信号に悪影響を与えることなく、試料室内の真空度を従来よりも正確に表示することのできる電子顕微鏡試料室の真空度表示装置を提供する。 - 特許庁

To automatically end discharges when electric discharge occurs between an electrode of an electron gun and an anode or a cathode, in a display device comprising a CRT having such a type of an electron gun as a voltage is applied thereto by a voltage source dedicated to the electron beam control and an electrode current is supplied thereto.例文帳に追加

電子ビーム制御用の電極に専用の電圧源により電圧が印加され電極電流が供給されるタイプの電子銃を有するＣＲＴを含む表示装置において、電子銃の電極とアノードまたはカソードとの間に放電が発生した場合、自動的に放電を終息させる。 - 特許庁

When scanning the electron beam on a specimen, a lock-in amplifier 13 gets the second order derivative of a secondary electron energy spectrum for each pixel, and an error amplifier 17 sets the value of voltage applied to the electrode of an electron spectrometer 11 by feedback control so that the second order derivative becomes zero.例文帳に追加

試料上で電子線を走査させたとき、ロックインアンプ１３は各画素ごとに２次電子エネルギースペクトルの２次微分量を求め、エラーアンプ１７はその２次微分量が零となるように電子分光器１１の電極に印加する電圧値をフィードバック制御によって設定する。 - 特許庁

A collision position changing control part 21 changes the direction of the center orbit E of the electron beam e which enters into a throttle hole 8 by interlockingly operating these deflection coils 11, 13 while the center orbit E of the electron beam e passes through the throttle hole 8.例文帳に追加

衝突位置変更制御部２１は、これら偏向コイル１１、１３を連動操作することで、電子ビームｅの中心軌道Ｅが絞り孔８を通過しつつ、絞り孔８へ入射する電子ビームｅの中心軌道Ｅの方向を変える。 - 特許庁

The apparatus includes a deflection control part 30 for deflecting the electron beam to a plurality of positions shielded by the second aperture 18 at the periphery of the opening of the second aperture 18 when actual drawing is not performed so as to radiate a prescribed irradiation amount of the electron beam to the respective positions.例文帳に追加

実描画が行われていないときに、第２のアパーチャ１８の開口部の周囲であって第２のアパーチャ１８によって遮蔽される複数の位置に電子ビームを偏向し、各位置に所定の照射量の電子ビームが照射されるようにする偏向制御部３０を備える。 - 特許庁

Deflection control means 13 transmits a deflection signal for deflecting a secondary electron in synchronization with a primary beam scanning to a deflector power supply 12 so that the secondary electron emitted from a sample is incident along an optical axis of an analyzer (a center of an incident slit 15) irrespective of the primary beam scanning.例文帳に追加

偏向制御手段１３は、１次ビーム走査に拘わらず試料から放出された２次電子がアナライザの光軸（入射スリット１５の中心）に沿って入射するように、１次ビームの走査に同期して２次電子を偏向させるための偏向信号を偏向器電源１２に送る。 - 特許庁