「electron beam control」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

Pattern writing by the electron beam lithography system is controlled by single proximity effect control function and fogging effect control function coupled in one data processing step using the same algorithm as that being executed in a standard proximity correction unit.例文帳に追加

電子ビームリソグラフィーシステムによるパターン描画は、標準の近接補正装置で実行される同じアルゴリズムを用いて、１データ処理ステップで、結合した単一の近接効果制御関数及びかぶり効果制御関数によって制御される。 - 特許庁

If a specific image is selected among these specimen images displayed, a control device 15 controls a stage control unit 21 on the basis of the read coordinates and drives an X-Y stage 17, and the stage is moved so that the specimen position corresponding to the selected image lies on the optical axis of electron beam.例文帳に追加

この試料像から特定の試料像を選択すると、制御装置１５は、読み出した座標値に基づき、ステージコントロールユニット２１を制御し、Ｘ−Ｙステージ１７を駆動し、選択した像に対応した試料位置が電子ビームの光軸上に位置するようにステージを移動させる。 - 特許庁

Electron beam holes are formed in electrostatic-field control electrode provided to at lest one main lens generating electrode; among the holes, the holes on the two sides are combination of circular and square shape, vertical width (V2) of the square hole is made larger than vertical width (V1) of a central beam hole in the electrostatic-field control electrode.例文帳に追加

少なくとも一つのメインレンズ形成電極内に配置された静電場制御電極には電子ビームの通過孔が形成されており、その電子ビームの通過孔のうち、両側ビームの通過孔は円形孔と四角形孔とが結合された形状で、その四角形孔の垂直幅（Ｖ２）が静電場制御電極の中央ビームの通過孔の垂直径（Ｖ１）より大きくしたことを特徴とする。 - 特許庁

A transmission electron microscope comprises a means for calculating an deviation amount in visual field among a plurality of sample permeation images, a means for changing an electric current given in a deflector for deflecting an electron beam or moving a sample to automatically correct the deviations in visual field, and a control means for repeating this operation means to decrease the deviations in the visual field.例文帳に追加

透過型電子顕微鏡において、複数の試料透過像間の視野ずれの量を計算する手段と、電子線を偏向させる偏向器に与える電流をかえて、または試料を移動させて視野ずれを自動的に補正する手段と、以上の手段の動作を繰り返して視野ずれを減少させる制御手段とを備える。 - 特許庁

In the electron beam type testing device, the deflection control means 2 to control the electrostatic deflector has a deflection waveform forming means 21 to form a deflection control signal, and a deflection signal output means 20 of applying different voltages to respective stages of the electrostatic deflector by amplifying formed control signals and by branching these amplified control signals.例文帳に追加

電子ビーム式検査装置において、静電偏向器を制御する偏向制御手段２は、偏向制御信号を生成する偏向波形生成手段２１と、生成された制御信号を増幅し、この増幅された制御信号を分岐して静電偏向器の各段に違う電圧を印加する偏向信号出力手段２０とを有する。 - 特許庁

To provide a gravure ink which does not need any VOC control device required by EPA at all by essentially eliminating the volatile solvent, and a method of gravure printing comprising a step of curing by electron beam radiation with the use of the ink.例文帳に追加

揮発性溶媒を本質的に除去することにより、ＥＰＡにより要求されるＶＯＣ制御装置を一切必要としなくなるグラビアインキ、及び該インキを使用した電子線放射による硬化ステップを含むグラビア印刷の方法の提供。 - 特許庁

To accurately detect irradiation intensity of the radiation irradiated from an irradiation apparatus such as an electron beam irradiation apparatus with a simple and inexpensive means, and to stop operation of the irradiation apparatus or to output a control signal for operating an alarm device when the illuminance intensity varies.例文帳に追加

電子ビーム照射装置等の放射線照射装置から照射される放射線の照射強度を簡易で安価な手段によって正確に検出して、その照度強度が変化したときに照射装置の稼動を停止させたり、警報装置を作動させる制御信号を出力できるようにする。 - 特許庁

Then the control device 6 rotates the sample 3 on the basis of a set angle α for inspection between the scanning directions X, Y (coincident with reference coordinates) of the electron beam inputted by an input device 10 and the align direction of the contact hole group to be inspected.例文帳に追加

その後、制御装置６は、入力装置１０によって入力された電子ビームの走査方向Ｘ，Ｙ（基準座標に一致）と、検査すべきコンタクトホールが整列された方向との間の検査時の設定角度αに基づいて、試料３を回転させる。 - 特許庁

To enhance shape control of a T-type gate electrode against variation in resist film thickness or light exposure (electron beam irradiation amount) incident to exposure of a multilayer film in fine T-type gate process employing multilayer resist, and to prevent impairment in the high frequency characteristics of a high frequency device.例文帳に追加

多層レジストを用いた微細T型ゲートプロセスでの多層膜の露光に伴う、レジスト膜厚や露光量（電子線照射量）の変動に対するＴ型ゲート電極の形状制御を向上させるとともに、高周波装置の高周波特性の劣化を防ぐ。 - 特許庁

The control means may make the offset voltage generating circuit operate with reference to the casing of the electron beam lithographic apparatus and make the focus correcting voltage generating circuit operate with reference to an offset voltage output from the offset voltage generating circuit.例文帳に追加

制御手段は、オフセット電圧発生回路を、電子ビーム露光装置の筐体を基準として動作させ、フォーカス補正電圧発生回路を、オフセット電圧発生回路により出力されるオフセット電圧を基準として動作させるようにしてもよい。 - 特許庁

To provide an environment control type electron beam device, in which the attachment, removal, position adjustment, and replacement of a differential exhaust diaphragm can be carried out within a short time by an easy work, without having to open to atmosphere the inside of a sample chamber, and high resolution becomes possible.例文帳に追加

本発明の目的は、試料室内を大気開放することなく容易な作業により短時間で差動排気絞りの着脱，位置調整，交換が行え、高分解能化が可能になる環境制御型電子線装置を提供することにある。 - 特許庁

When the target irradiation period exceeds an X-ray set stopping time, the control circuit 49 controls a driving circuit 48, the generation of electron beam is stopped by stopping the power supplied to a micro-focus X-ray generating tube 2, and the X-ray generated by the target irradiation is stopped.例文帳に追加

ターゲット照射時間がＸ線停止設定時間以上になると、制御回路４９では駆動回路４８を制御しマイクロフォーカスＸ線発生管球２への電源を停止して電子ビームの発生を停止、ターゲット照射によるＸ線の発生を停止させる。 - 特許庁

In the screen grid G2 (114), a divergent lens of an electron beam is formed at a low voltage side part in the direction of the control grid G1 (112), and a focus lens of a large diameter is formed on the high voltage side in the direction of the focus electrode G3 (120).例文帳に追加

スクリーングリッドＧ２（１１４）は、電圧がかけられると、制御グリッドＧ１（１１２）方向の低電圧側部に電子ビームの発散レンズが形成され、フォーカス電極Ｇ３（１２０）方向の高電圧側に大きな直径のフォーカス集束レンズが形成される。 - 特許庁

The display control means 33 displays the CL image of red light on a screen of a color display 35 according to a signal sent from the addition amplifier 30, that is, an intensity signal of red light generated from the sample and an electron beam deflecting signal given to the deflector 4.例文帳に追加

表示制御手段３３は、加算アンプ３０から送られてくる信号、すなわち試料から発生した赤色光の強度信号と、偏向器４に与えられる電子線偏向信号に基づいて、赤色光のＣＬ像をカラーディスプレイ３５の画面上に表示させる。 - 特許庁

When the SEM observation is carried out under such a condition, secondary electrons emitted from the lower face of the sample support part 11 are pulled by the potential control part 14 in the optical axis direction of the electron beam, thus random emission of the secondary electrons is suppressed, and the high resolution of an obtained ISEC image can be achieved.例文帳に追加

このような条件でＳＥＭ観察を行なうと、電位制御部１４により、試料支持部１１の下面から出射された２次電子が電子線の光軸方向に引き寄せられるために２次電子のランダム放出が抑制され、得られるＩＳＥＣ画像の高分解能化を図ることができる。 - 特許庁

A main control system 34 preliminarily prepares and stores in a storage 43 a voltage map showing a defocus level of a multi-beam B1 on a sample surface, according to a charged-up level caused when the sample 10 is irradiated with the primary electron beams B1.例文帳に追加

主制御系３４は、試料１０上に一次電子ビームＢ１を照射した際に生ずるチャージアップ量に応じ、試料面におけるマルチビームＢ１の焦点ずれ量を示す電圧マップを予め作成し記憶装置４３に記憶する。 - 特許庁

On the basis of information of drawing data input to an input unit 20, a control computer 19 divides a predetermined region where drawing is to be performed by an electron beam 54 into smaller regions in at least one frame unit, and evaluates area densities of patterns to be drawn in respective sectioned regions.例文帳に追加

入力部２０に入力された描画データの情報に基づいて、制御計算機１９で、電子ビーム５４により描画する所定領域を少なくとも１つのフレーム単位で区分けし、各区分けされた領域に描画される予定のパターンの面積密度が評価される。 - 特許庁

To provide an image display device with improved image quality through an easy control of an orbit of electron beam without bringing forth temperature rise, power consumption increase, and manufacturing cost hike, and to provide a manufacturing method of a spacer, and an image display device equipped with the spacer manufactured by the method.例文帳に追加

温度上昇、消費電力増加、製造コスト増加を引き起こすことなく、電子ビームの軌道を容易に制御し、画像品位の向上した画像表示装置、スペーサの製造方法、この方法により製造されたスペーサを備えた画像表示装置を提供する。 - 特許庁

The control means 21 controls the scanning of the deflection means 2 by superposing a scan signal on a deflection signal, when electron beam profiles such as an emission pattern are displayed on a displaying means based on x-ray detection data obtained by the x-ray detection means 20.例文帳に追加

制御手段２１は偏向信号にスキャン信号を重畳して各偏向手段２を走査制御し、そのとき表示手段には前記Ｘ線検出手段２０で得られたＸ線検出データに基づいて電子ビームプロファイル、例えばエミッションパターンが表示される。 - 特許庁

Since adverse influence is exerted on the film deposition when recoil atoms from an electron beam heating source 22 reach the substrate W to be treated, a recoil atom control board 23 for preventing the arrival of the recoil atoms at the substrate W to be treated is provided; thus the charge potential of the substrate W to be treated is controlled.例文帳に追加

電子ビーム加熱源２２からの反跳電子が被処理基板Ｗに到達してしまうと膜形成に悪影響を及ぼすため、被処理基板Ｗに反跳電子が到達するのを防ぐための反跳電子制御板２３を設けて、被処理基板Ｗのチャージ電位を制御する。 - 特許庁

This invention relates to realization of a novel jyrotron operation control technique of obtaining highly efficient jyrotron oscillation by positively controlling electron beam parameters of the jyrotron during oscillation conventionally generated using fixed parameters.例文帳に追加

これは通常ジャイロトロンが運転される空胴磁場よりも、さらに低い空胴磁場領域に存在するが、従来の方法に従ってこの空胴磁場に設定してオペレーションを行おうとすると、より低い周波数の発振モードが成長してしまい、目的モードの発振が得られなかった。 - 特許庁

The abnormal current in this protective net 16 is detected by a detecting part 17 to stop the driving of the coil 12 for primary deflection by a control part 18, and, moreover, the coil 13 for secondary deflection is driven to apply the electron beam (b) to a safe position.例文帳に追加

この防御ネット１６の異常電流を検出部１７で検出して、制御部１８で第１偏向用コイル１２の駆動を停止させると共に、第２偏向用コイル１３を駆動させて電子ビームｂを安全な位置へ照射させるようにする。 - 特許庁

To improve the productivity in electron beam drawing by predicting the stage position of the subfield (SF) position to be drawn in a deviation control circuit so as to enable it to calculate distortion without waiting for the last end of SF drawing, thus resulting in reduction in useless time.例文帳に追加

偏向制御回路内で描画すべきＳＦ位置のステージ位置を予測することにより、前回のＳＦ描画終了を待たずに、偏向歪の計算を行うことが可能になり、無駄時間を低減し、電子ビーム描画における生産性を向上させる。 - 特許庁

This apparatus is equipped with a focused ion beam optical system and electron optical system in the same evacuation device and a manipulator, to separate a trace sample, including a desired region of the sample by a charged particle beam molding work and to pick up the separated trace sample, and a manipulator control device for driving the manipulator, independently of a wafer sample board.例文帳に追加

上記課題を解決するために本発明装置では、同一真空装置に集束イオンビーム光学系と電子光学系を備え、試料の所望の領域を含む微小試料を荷電粒子線成型加工により分離し、分離した該微小試料を摘出するマニピュレータと、該マニピュレータをウェーハ試料台と独立に駆動するマニピュレータ制御装置を備えた。 - 特許庁

In the method and the apparatus for ionizing cluster, a cluster ion beam source 5 is included, the cluster ion beam source has a wavelength control mechanism (diffraction grating, aperture slit) capable of controlling the wavelength of the light irradiated on the cluster in a wavelength range having the energy to cause ionization by inner shell electron, and the cluster is ionized in multivalent manner by utilizing Auger process.例文帳に追加

クラスターのイオン化方法または装置において、クラスターイオンビーム源５を備え、該クラスターイオンビーム源を、クラスターに照射される光の波長を内殻電子による電離が起きるエネルギー持つ波長範囲に制御可能とした波長制御機構（回折格子，アパチャースリット）を有する構成とし、オージェ過程を利用してクラスターを多価にイオン化するように構成する。 - 特許庁

The drawing control computer 50 predicts temperature change of the mask substrate 2 and guide 4 with time due to the electron beam irradiation from the drawing data, and performs the temperature control over the periphery of the guide 4 by placing the liquid cooling controller 55 in operation according to the temperature change prediction in parallel with a drawing operation from a start of drawing of the predetermined pattern.例文帳に追加

描画制御コンピュータ５０は、描画データから電子ビーム照射により生じるマスク基板２およびガイド４の時間に対する温度変動を予め予測し、所定のパターンの描画開始を起点に描画作業をするのと並行して、その温度変動予測に従って液冷コントローラ５５を動作させてガイド４近傍の温度制御をする。 - 特許庁

A drawing control unit 100 for deflecting an electron beam to perform drawing on a desired position of a sample surface makes graphic data include specified information on a least deflection address unit (LSB) and retrieves LSB every time it calls the graphic data within a pattern from a buffer memory, thereby allowing the changeover of LSB by a gain switch 7 of an analog control unit 6.例文帳に追加

電子ビームを偏向して試料面の所望の位置へ描画する描画制御部１００は、描画パターンの図形データに最小偏向アドレス単位（ＬＳＢ）の指定情報を持たせ、パターン内の図形データをバッファメモリ１から呼び出す度にＬＳＢを取り出し、アナログ制御部６のゲイン切替７によってＬＳＢ切替を可能にしている。 - 特許庁

It becomes easy to form the etching pattern representing information in a desired shape and size under control by imposing a negative bias to the micro chip 50 and using heat up and melt by the electron beam 30 generated from the micro chip 50 with imposed by the prescribed voltage without applying strong mechanical force like in a conventional way.例文帳に追加

マイクロチップ５０に負のバイアスを印加することにより、従来のように機械的な強い力を加えずに、所定電圧を印加したマイクロチップ５０から発生された電子ビーム３０による加熱及び溶解を実行する方式を用いて、情報を表すエッチングパターンを所望の形状と大きさに制御して形成することが容易となる。 - 特許庁

This device is equipped with a pressure sensor 30 for detecting pressure in the irradiation chamber 10, and a control device 32 for controlling the speed of an exhaust blower 24 in response to a signal from the pressure sensor 30 so that the pressure in the chamber 10 can be kept at a specified negative pressure during the irradiation of an electron beam 6.例文帳に追加

照射室１０内の圧力を検出する圧力センサ３０と、この圧力センサ３０からの信号に応答して排気用送風機２４を制御して、電子線６の照射中に照射室１０内の圧力が所定の負圧になるように、排気用送風機２４の回転数を制御する制御装置３２とを設けた。 - 特許庁

To provide an inspection image, inspection method and inspection device using electron beams, with an expanded beam scan dimension (a field of vision; FOV) and with uniform or near-uniform CD distribution in the field to stabilize measurement in the FOV, in order to make an easy process control including variations in local CD, CD difference of vertical and horizontal line and the like.例文帳に追加

ビームスキャン範囲（視野、ＦＯＶ）を拡大し、ＦＯＶ面内の測定値がばらつかないようにＣＤの面内分布を均一又は略均一に分布させ、ローカルなＣＤのばらつき、縦線と横線のＣＤの違いなどのプロセス管理が容易な、電子ビームを用いる検査画像、検査方法、検査装置を提供する。 - 特許庁

By providing a means changing the setting of the secondary signal converging lens 69 in response to an optical condition of the primary electron beam (for instance, a retarding voltage, a charge control electrode or the like), an SEM image always preventing occurrence of in-view shading caused by omission of a secondary signal can be provided.例文帳に追加

また、前記一次電子線の光学条件（たとえば、前記リターディング電圧や帯電制御電極など）に応じて上記二次信号収束用レンズ６９の設定を変更する手段を備えることで、常に視野内二次信号の取りこぼしに起因するシェーディングが発生しないＳＥＭ像を得ることを可能にする。 - 特許庁

These changes are compared with the mislanding of each electron beam on the red, green and blue phosphors without wobbling, to calculate their differences by means of a control 105 and personal computer 106, thus adjusting the deflection unit so as to minimize the deviation amount.例文帳に追加

蛍光体面１０１Ａを白色発光させ、前記白色発光をプリズム１０３により赤色、緑色、青色に分光し、ウォブリング磁場に伴う赤色、緑色、青色の輝度変化を測定し、測定データからウォブリング磁場の無いときの、赤色蛍光体、緑色蛍光体、青色蛍光体各々に対する電子ビームのずれ量を制御系１０５、パーソナルコンピューター１０６にて解析計算し、ずれ量を最小にするように偏向系を調整する。 - 特許庁