「etching solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(15ページ目) - Weblio英語例文検索

Using an etching solution at least comprising phosphoric acid ions, nitric acid ions, acetic acid ions and pure water, and in which the ions are derived from any of phosphoric acid, acetic acid, phosphate, nitrate and acetate, a silver alloy film arranged on a substrate via an adhesive layer is subjected to etching treatment.例文帳に追加

リン酸イオン、硝酸イオン、酢酸イオン、及び純水を少なくとも含み、それらのイオンはリン酸、酢酸、リン酸塩、硝酸塩、酢酸塩のいずれかに由来するエッチング溶液を用い、基板上に密着層を介して配されてなる銀合金膜をエッチング処理する。 - 特許庁

In a cleaning method of a semiconductor wafer, at least a wafer sliced thinly is flattened by lapping and/or surface grinding, the flattened wafer is subjected to alkali etching, and the wafer subjected to alkali etching is cleaned by an acid solution containing citric acid and hydrogen peroxide water.例文帳に追加

少なくとも、薄板状にスライスされたウエーハをラッピングおよび／または平面研削により平坦化し、該平坦化されたウエーハをアルカリエッチングした後に、該アルカリエッチングされたウエーハをクエン酸・過酸化水素水を含む酸性溶液で洗浄することを特徴とする半導体ウエーハの洗浄方法。 - 特許庁

The electrolytic capacitor cathode foil and a method of manufacturing the same are provided, wherein the electrolytic capacitor cathode foil is formed by carrying out immersion treatment for immersing a roughened etching foil in a solution containing molybdate such as sodium molybdate and phosphoric acid to form a film containing molybdenum and phosphorus on a surface of the etching foil.例文帳に追加

粗面化されたエッチング箔にモリブデン酸ナトリウム等のモリブデン酸塩とリン酸を含む水溶液に浸漬する浸漬処理を行い、エッチング箔表面にモリブデンとリンを含む皮膜が形成されてなることを特徴とする電解コンデンサ用陰極箔、およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

Since the etching solution is not repelled by the resist and penetrates to the lower part of the fine pattern while dissolving the film 14, the objective fine pattern free from an unetched part even in a narrow region 17 to be etched is formed by wet etching.例文帳に追加

エッチング液に可溶性の被膜１４がレジスト１３の上層に形成されることで、エッチング液がレジストにはじかれることなく、被膜１４を溶解しながら微細パターン下部まで浸透することで、幅の狭いエッチング領域１７であってもエッチング残りのない微細パターンをウェットエッチングにて形成する。 - 特許庁

The etching apparatus is provided with a case 102, support member in the case, a rotating actuator mounted on the support member, a liquid feeder assembly 106 disposed in the case so as to feed etching solution to the periphery of the substrate on the substrate support member.例文帳に追加

本装置は、容器１０２、容器内に配置されている基板支持体、基板支持体に取付けられている回転アクチュエータ、及び基板支持体上に配置された基板の周縁部分にエッチング液を送給するように容器内に配置されている流体送給アセンブリ１０６を備えている。 - 特許庁

After a Mo/Al/Mo laminated film 9, which is to be a material of signal lines, source electrodes and drain electrodes of pixel TFTs of a liquid crystal display, is formed, a resist pattern 10 is formed on the upper surface and a wet etching is carried out by using an etching solution containing long chain alkyl ester.例文帳に追加

本発明は、液晶表示装置の信号線や、画素ＴＦＴのソース電極やドレイン電極の材料となるMo/Al/Mo積層膜９を形成した後、その上面にレジストパターン１０を形成し、長鎖アルキルエステルを含んだエッチング液を用いてウエットエッチングを行う。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition that is developable with an aqueous alkaline solution, has high sensitivity and high resolution, is tackfree, has good heat resistance, etching resistance and storing stability, and is easy to be removed when used as an etching resist, and to provide an alkaline soluble resin as a constituent thereof.例文帳に追加

アルカリ水溶液を用いて現像可能な、高感度、高解像度を有し、さらに、タックフリーで、耐熱性、耐エッチング性、保存安定性も良好で、しかもエッチングレジストとして用いた場合に容易に除去できる感光性樹脂組成物及びその構成成分であるアルカリ可溶性樹脂を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a solar cell capable of manufacturing a solar cell having high generation efficiency with a high yield by forming a uniform texture in a silicon substrate surface by reducing cation concentration in an etching liquid by a texture etching step which uses an alkali solution and using a substrate whose surface is not contaminated.例文帳に追加

アルカリ溶液を用いたテクスチャエッチング工程によってエッチング液中の陽イオン濃度を低下させることで、シリコン基板面内に均一なテクスチャを形成し、表面の汚染も無い基板を用いることで、高い発電効率を有する太陽電池を高い歩留まりで製造することができる。 - 特許庁

As a result, an oxide film formed on the surface of the aluminum material can be effectively removed with the above aqueous solution, further, the growth of hydrates, the dissolution of an aluminum base and the falling of the Al-Ni based precipitates do not occur, and excellent etching properties in the etching treatment as a post-treatment stage can be obtained.例文帳に追加

この結果、アルミニウム材表面に形成されている酸化皮膜を前記水溶液で効果的に除去できるとともに、水和物の成長やアルミニウム素地の溶解、Ａｌ−Ｎｉ系析出物の脱落が起こらず、後処理工程のエッチング処理において優れたエッチング性が得られる。 - 特許庁

In a wet etching solution for a silicon substrate having a metal silicide film and a silicon oxide film, the content ratio of hydrogen fluoride and ammonium fluoride is 1:7-1:80 in mass ratio, the hydrogen fluoride concentration in the whole wet etching solution is 0.01-10 mass%, and the ammonium fluoride concentration is 0.8-80 mass%.例文帳に追加

金属シリサイド膜およびシリコン酸化膜を備えるシリコン基板用の湿式エッチング溶液であって、フッ化水素とフッ化アンモニウムの含有比が、質量比で、フッ化水素：フッ化アンモニウム＝１：７〜１：８０であり、かつ、湿式エッチング溶液全体におけるフッ化水素濃度が０．０１〜１０質量％であり、フッ化アンモニウム濃度が０．８〜８０質量％であることを特徴とする湿式エッチング溶液である。 - 特許庁

The manufacturing method of the passage substrate comprises at least a step of (A) etching a polyimide resin layer 11 by using an alkaline solution as a chemical etching solution, and performing the hydrophilization of the surface of the etched polyimide resin layer 11, and a step of (B) forming the passage by laminating other polyimide resin layers 12, 13.例文帳に追加

（Ａ）アルカリ性溶液をケミカルエッチング液として用いることで、ポリイミド樹脂層１１をエッチングするとともに、該エッチングされた前記ポリイミド樹脂層１１の表面を親水性化する工程と、（Ｂ）前記エッチングされたポリイミド樹脂層１１に、他のポリイミド樹脂層１２，１３を積層することで流路を形成する工程と、を少なくとも行なうポリイミド樹脂製の流路基板の製造方法とすること。 - 特許庁

In this manufacture of a multilayer printed wiring board using an epoxy resin curing compound containing halogen atoms for insulating layers, interlayer connecting holes are formed by removing the resin curing compound provided in the portions to be the interlayer connecting holes by using an etching solution consisting of alkali metal compounds, an amide solvent and an alcohol solvent and the etching solution is filtrated during the treatment.例文帳に追加

ハロゲン原子を含むエポキシ樹脂硬化物を絶縁層に用いる多層プリント配線板の製造方法であって、層間接続用穴を、層間接続用の穴となる部分の樹脂硬化物を、アルカリ金属化合物、アミド系溶媒、アルコール系溶媒からなるエッチング液により除去する方法であって、かつ、エッチング液を濾過しながら処理を行う多層プリント配線板の製造方法。 - 特許庁

By the method for producing the indium compound, the indium compound can be easily produced from a ferrous chloride solution containing indium (for example, a waste solution produced in an etching process for etching an ITO material or the like by ferric chloride) by using a chelate resin having a polyamine group or N-methylglucamine group.例文帳に追加

本発明者らは、インジウムを含有する塩化第一鉄液（例えばＩＴＯ材等の塩化第二鉄によるエッチング廃液より）からインジウムを回収する方法を鋭意検討した結果、インジウムを含有する塩化第一鉄液からポリアミン基またはN−メチルグルカミン基を有するキレート樹脂を用いることによりインジウム化合物を容易に製造することができることを見出して完成させた。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an organic EL display panel and a thinning method of a glass substrate for the organic EL display panel capable of thinning the glass substrate by immersing it in an etching solution without damaging components of the organic EL display panel by the etching solution; and to provide a glass substrate for an organic EL display panel and an organic EL display using these methods.例文帳に追加

有機ＥＬディスプレイパネルの構成部材をエッチング液によって損傷させることなく、エッチング液に浸漬してガラス基板を薄型化することが可能な有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法及び有機ＥＬディスプレイパネル用ガラス基板の薄型化方法、並びにこれらの方法を使用した有機ＥＬディスプレイパネル用ガラス基板及び有機ＥＬディスプレイの提供。 - 特許庁

In this etching treating method for cleaning a cleaning member, the cleaning member set in a cleaning tank is subjected to wet etching treatment using a chemical solution, the chemical solution after the completion of the treatment is moved to an another tank through at least one piping, and the cleaning member is not moved and is subjected to water washing treatment in the same cleaning tank.例文帳に追加

洗浄部材を洗浄するエッチング処理方法において、洗浄槽内に設置した該洗浄部材を、化学溶液を用いてウエットエッチング処理を行い、処理終了後の該化学溶液を、少なくとも一つの配管を通して別槽へ移動し、該洗浄部材は移動せず、同一洗浄槽内で水洗処理を行うことを特徴とするエッチング処理方法。 - 特許庁

The etching agent for copper or a copper alloy consists of an aqueous solution containing hydroxylamine keeping the solution alkaline, and suppressing the decomposition of an oxidizer, an oxidizer for oxidizing copper, and accelerating its dissolution into the solution, ammonium salt feeding ammonia ions into the solution, and accelerating the dissolution of copper, and an azole compound suppressing the dissolution of copper in the vertical direction, and accelerating the dissolution of copper in the horizontal direction.例文帳に追加

液をアルカリ性に保って酸化剤の分解を抑制するヒドロキシルアミン、銅を参加して液中への溶解を促進するための酸化剤、液中にアンモニヤイオンを供給して銅の溶解を促進するアンモニウム塩および垂直方向の銅の溶解を抑制し水平方向の銅の溶解を促進するアゾール化合物を含有する水溶液からなる銅または銅合金のエッチング剤ならびにエッチング方法。 - 特許庁

This pretreating method for a catalyzing treatment is characterized by dipping the resin base material in a glass etching solution containing a fluorine compound, and then in an oxidizing agent solution containing permanganate or chromic acid, before catalyzing the resin base material containing glass fibers or silica-based fillers with a catalyst solution containing palladium compound.例文帳に追加

ガラス繊維やシリカ系フィラーを含有する樹脂基材をパラジウム化合物を含む触媒液で触媒化するのに先立ち、当該樹脂基材をフッ素化合物を含有するガラスエッチング処理液に浸漬し、ついで過マンガン酸塩またはクロム酸を含有する酸化剤液に浸漬することを特徴とする触媒化処理の前処理方法。 - 特許庁

A laser irradiation microworking method comprises the steps of placing a metal material in the chemical solution, forming a passivity film on this metal front surface in the chemical solution, removing the passivity film by means of a laser ablation by selectively irradiating a laser beam, and removing a material by performing an etching action by the chemical solution with respect to only a part where the passivity film is removed.例文帳に追加

本発明は、金属材料を化学溶液中に置き、この金属表面に化学溶液中で不動態膜を形成し、そこにレーザー光を選択的に照射することにより、不動態膜をレーザーアブレーションにより除去し、不動態膜が除去された部分のみ化学溶液によるエッチング作用で材料除去を行う。 - 特許庁

In order to obtain the support for the lithographic printing plate, the electrochemical roughening processing with AC current in an aqueous solution at least including nitric acid, aluminum nitrate and hydrochloric acid and an etching processing in an alkaline aqueous solution are applied to an aluminum plate in the order named.例文帳に追加

アルミニウム板に、少なくとも、硝酸、硝酸アルミニウム、および塩酸を含有する水溶液中での交流電流を用いた電気化学的粗面化処理と、アルカリ水溶液中でのエッチング処理とを、この順に施し、平版印刷版用支持体を得る、平版印刷版用支持体の製造方法。 - 特許庁

The roughening method of a silicon substrate comprises: a process of applying an organic metal solution or an organic metal dispersion solution on a substrate in a dot shape with an ink jet method; a process of drying the substrate; a process of irradiating the surface of the substrate with plasma; and a process of etching the substrate.例文帳に追加

有機金属溶液あるいは有機金属の分散液を基板にインクジェット法でドット状に塗布する工程と、上記基板を乾燥する工程と、上記基板の表面にプラズマを照射する工程と、上記基板をエッチング処理する工程とを備えたシリコン基板の粗面化方法である。 - 特許庁

As an etchant for wet etching of a ridge stripe provided on a compound semiconductor substrate having an off angle to the [111] direction or [1-1-1] direction from the crystal surface (100), a solution including hydrogen fluoride, a solution including boron, or a buffered hydrofluoric acid is used.例文帳に追加

（１００）結晶面から［１１１］方向または［１−１−１］方向にオフ角を有する化合物半導体基板上に設けられたストライプ状のリッジ部をウェットエッチングするエッチャントとして、フッ化水素を含有する溶液、臭素含有溶液、またはバッファードフッ酸を用いる。 - 特許庁

In reapplying anodic oxidation to an electrode foil obtained by applying anodic oxidation and drying to an aluminum etching foil, the electrode foil is immersed in an acid solution as depolarization processing ST1, and then, anodic oxidation is reapplied using in-solution power feed as restoring chemical treatment ST2.例文帳に追加

アルミニウムエッチング箔に陽極酸化および乾燥を施した電極箔に再度の陽極酸化を行う際、減極処理ＳＴ１として、電極箔を酸性溶液に浸漬した後、修復化成処理ＳＴ２として、液中給電により再度の陽極酸化を行う。 - 特許庁

To provide a polyurethane adhesive composition for a dry laminate, which does not cause yellowing and whitening when using a ferric chloride solution and a sodium hydroxide solution at etching processing, and has sufficient adhesiveness when laminating a PET film and copper foil; and to provide a laminated film using the composition.例文帳に追加

エッチング加工時に塩化第二鉄溶液や水酸化ナトリウム溶液にて，黄変したり白化したりすることがなく，ＰＥＴフィルムと銅箔をラミネートするにあたって十分な接着性を有するドライラミネート用ポリウレタン接着剤組成物およびこれを使用した積層フィルムを提供することにある。 - 特許庁

To provide a method and a device where, from a metal-containing mixed acid aqueous solution such as a metal-containing acid waste solution generated, e.g. from an etching stage for metal such as aluminum in a semiconductor production workshop or the like, the metal is separated, and further, the phosphoric acid is recovered at a high yield.例文帳に追加

半導体製造工場などにおけるアルミニウムなどの金属エッチング工程などから発生する金属含有酸廃液のような金属含有混酸水溶液から、金属を分離するとともにリン酸を高い収率で回収する方法および装置の提供。 - 特許庁

In this method of manufacturing a high purity caustic soda aqueous solution for wafer etching, a caustic soda aqueous solution is contacted with an active carbon activated by immersion treatment in nitric acid, and its iron content is reduced to not higher than 200 ppb, and its nickel content to not higher than 20 ppb.例文帳に追加

苛性ソーダ水溶液を硝酸に浸漬処理して賦活した活性炭と接触させて、その含有鉄分を２００ｐｐｂ以下に、ニッケル分を２０ｐｐｂ以下になるまで除去することを特徴とするウエーハエッチング用高純度苛性ソーダ水溶液の製造方法。 - 特許庁

Namely, SiO2 dissolves in HF aqueous solution, but since Si nitride has resistance to the solution, the mask layer formed of SiO2 is selectively etched, the barrier layer formed of Si nitride and the field oxide film 2 immediately below the barrier layer are protected from wet etching.例文帳に追加

すなわち、ＨＦ水溶液に対してＳｉＯ_2は溶解するが、Ｓｉ窒化物は耐性を有するので、ＳｉＯ_2からなるマスク層は選択的にエッチングされるが、Ｓｉ窒化物からなるバリア層１２及びこれの直下のフィールド酸化膜２はウエットエッチングから保護されることとなる。 - 特許庁

To provide a semiconductor manufacturing apparatus, such as an etching semiconductor apparatus operable to etch a silicon nitride film, which enables a longer service life of phosphoric acid solution by preventing the reduction in the moisture density, and keeping a boiling power for a longer time.例文帳に追加

水分濃度低下を防ぎ、沸騰力を長く持続させたリン酸水のライフ長期化が可能なシリコン窒化膜をエッチングするエッチング半導体装置などの半導体製造装置を提供する。 - 特許庁

Because the etching solution discharge film 22 has no substrate carrying force, a carrier 24 such as a belt conveyor having a member 23 for pushing an end part of the substrate from behind can be provided on the symmetrical position of the substrate 3.例文帳に追加

エッチング液吐出膜２２には基板搬送力がないので、基板３の対称位置に基板の端部を後押しする部材２３を有するベルトコンベア等の搬送装置２４を設けることもできる。 - 特許庁

An Ni metal bonding material 3 dispersed with abrasive grains 2 is immersed in an etching solution, a part of the abrasive grains 2 exposed to both side surfaces are dropped, and recesses 4 are formed by the traces of dropped abrasive grains.例文帳に追加

砥粒２を分散配置したＮｉ金属結合材３をエッチング液に浸漬して、両側面に露出する砥粒２の一部を脱落させ、脱落した砥粒痕によって凹部４を形成する。 - 特許庁

(3) After a circuit pattern is formed by a resist on each copper board face divided by the parting lines of the connected body obtained, the copper circuit is formed, by removing the unwanted portion of the copper by etching it by a ferric chloride solution.例文帳に追加

（ハ）得られた接合体の分割線で区画された各銅板面に回路パターンをレジストで形成後、塩化第二鉄溶液でエッチングして銅の不要部分を除去して銅回路を形成する。 - 特許庁

A substrate is subjected to etching and ashing in succession with a photoresist pattern formed on the substrate as a mask, the photoresist pattern is removed using the removing solution and then the substrate is rinsed with water.例文帳に追加

そして、基板上に設けたホトレジストパターンをマスクとして、該基板にエッチング、続いてアッシング処理をした後、上記剥離液を用いてホトレジストパターンを剥離し、次いで基板を水でリンス処理する。 - 特許庁

The etching agent composition for transparent conductive films is made of solution containing sulfamic acid, polyoxyethylene alkylether sulfate, polyoxyethylene alkylphenylether sulfate, or polyoxyalkylen alkylether phosphoric acid ester.例文帳に追加

スルファミン酸と、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸塩またはポリオキシアルキレンアルキルエーテルリン酸エステルを含有する水溶液からなる透明導電薄膜用エッチング剤組成物。 - 特許庁

The etchant performs etching to nickel, chromium, nickel-chromium alloys and iron-nickel-chromium alloys, and is composed of an aqueous solution comprising sulfuric acid, hydroxycarboxylic acid and/or amino carboxylic acid.例文帳に追加

ニッケル、クロム、ニッケルクロム合金及び鉄ニッケルクロム合金をエッチングするためのエッチング液であって、硫酸と、ヒドロキシカルボン酸及び／又はアミノカルボン酸とを含む水溶液からなることを特徴とするエッチング液。 - 特許庁

The silicon wafer etching agent contains an alkaline aqueous solution, which contains hydroxy ethylenediamine triacetic acid, the alkali concentration being 30 to 55 mass%.例文帳に追加

本発明は、アルカリ水溶液を含むシリコンウェハーエッチング剤であって、前記アルカリ水溶液は、ヒドロキシエチレンジアミン三酢酸を含有し、かつアルカリ濃度が３０〜５５質量％であるシリコンウェハーエッチング剤を提供する。 - 特許庁

The removing solution for ashing residue formed by dry etching and/or ashing on a Cu/low-k multilevel interconnection structure comprises 0.007 to 0.04 mol/kg of acid, a nonmetallic fluoride salt having a concentration ≥20 times as great as that of the acid, and water.例文帳に追加

0.007〜0.04mol/kgの酸、前記酸の２０倍以上の濃度の非金属フッ化物塩および水を含む、ドライエッチング及び／又はアッシングにより生じたCu/low-k多層配線構造のアッシング残渣の剥離液。 - 特許庁

As a result, even when a part of the diaphragm 3 of the pressure sensor is damaged, it can be prevented that, the etching solution entering the front side damages the other normal pressure sensors.例文帳に追加

これにより、一部の圧力センサのダイヤフラム部３が損傷した場合でも、表面側に浸入するエッチング液によって他の正常な圧力センサが損傷されるのを防止することができる。 - 特許庁

Next, a gap is formed at the lower part of the inductors 7, 17 through etching from the external circumferences of the silicon substrates 2, 12 of the semiconductor chips 1, 11, by soaking the semiconductor chips 1, 11 into the KOH solution.例文帳に追加

次に、半導体チップ１，１１をＫＯＨ溶液中に浸すことによって、半導体チップ１，１１のシリコン基板２，１２を外周縁からエッチングして、インダクタ７，１７の下方に空隙を形成する。 - 特許庁

Next, the Al-Hf alloy layer 3 (or the stacked body) is anodized in an acid aqueous solution to form a nanohole structure having nanoholes 8, and, if required, the nanoholes 8 are subjected to width expansion working by etching.例文帳に追加

次に、Ａｌ−Ｈｆ合金層３（又は、積層体）を酸水溶液中で陽極酸化してナノホール８を有するナノホール構造体を形成し、必要なら、エッチングによってナノホール８を拡幅加工する。 - 特許庁

Then, under this condition, the whole surface of the second metal film 4 and the first metal film 2 except an area covered by the resist mask 3 are removed by using an acid system etching solution through a cell reaction.例文帳に追加

そして、この状態で酸系のエッチング液を用いて第２の金属膜４の全面およびレジストマスク３で覆われた領域以外の第１の金属膜２を電池反応により除去する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition of superior etching resistance, sensitivity, preservation stability and safety and developable with water or an aqueous alkali solution, and to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

耐エッチング性、感度、保存安定性及び安全性に優れ、かつ水又はアルカリ水溶液により現像が可能な感光性組成物並びにこれを用いたパターンの形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a display device having an electrode structure especially suitable as an electrode of a light-emitting element without forming a residue of transparent conductive films even in etching using a weak acidic solution of oxalic acid or the like.例文帳に追加

シュウ酸などの弱酸性溶液を用いたエッチングにおいても、透明導電膜の残渣を生じず、特に発光素子の電極として適した電極構造を有する表示装置を提供すること。 - 特許庁

Nanoparticles stabilized under an aqueous solution environment are obtained by modifying surfaces of the nanoparticles once, and performing the surface dissolution by optical etching under a stabilizing material coexistent environment.例文帳に追加

半導体ナノ粒子表面に一旦表面修飾を行い、安定化材共存環境化において光エッチングによる表面溶解を行うことで、水溶液環境下で安定化されたナノ粒子を得る。 - 特許庁

Next, by wet-etching using a tetramethyl ammonium hydroxide aqueous solution, a recessed part 12 is formed on the undersurface of the wafer 1, the recessed part 11 is formed into a through-hole 10, and a thin part 1A is formed.例文帳に追加

次に、テトラメチル水酸化アンモニウム水溶液を用いたウエットエッチングにより、ウエハ１の下面に凹部１２を形成し、凹部１１を貫通穴１０とするとともに、薄肉部分１Ａを形成する。 - 特許庁

A projection part 14a formed in the beam 1a passes through from the bottom surface of the beam 1a to the apex of the protrusion and is composed of the member having resistance to the solution of the crystal anisotropic etching.例文帳に追加

梁１ａ内に形成された突部１４ａは、梁１ａの底面から凸部の頂点まで貫通し、結晶異方性エッチングの溶液に対して耐性を有する部材で構成されている。 - 特許庁

To provide a semiconductor device, with which a wiring structure can be easily prevented from being analyzed by etching a package, a protecting film and an insulating film between metal wirings or the like with a solution.例文帳に追加

溶液にてパッケージ、保護膜及び金属配線間の絶縁膜等をエッチングすることによる配線構造の解析を、簡便に防止することができる半導体装置を提供することを目的とする。 - 特許庁