「fine-pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(42ページ目) - Weblio英語例文検索

The personal authentication medium includes a substrate having a fine unevenness arranged in a character and/or design pattern having a height from 0.01 to 100 μm at least on one main face.例文帳に追加

文字及び／または模様パターンに配列され、０．０１〜１００μｍの高さを有する微細な凹凸を、少なくとも一主面上に有する基材を含む個人認証媒体。 - 特許庁

In addition to that, there were other techniques such as the lacquer-used pattern-stamping technique, the foil-stamping of gold or silver foil and the technique of fine powder-shaking to draw patterns by a brush containing glue and shake gold and silver powders. 例文帳に追加

この他にも漆型押し技法や金箔・銀箔の箔押しや糊を付けた筆で紋様を描いて金銀砂子（すなご）を振り掛ける砂子振り等の技法も用いられた。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

To provide a method of manufacturing a ceramic green sheet in which a fine conductor pattern part can be formed on a substrate which is release-processed on the surface thereof, and to provide a ceramic electronic component manufacturing method.例文帳に追加

表面に離型処理が施された基材上に微細な導体パターン部を形成できるセラミックグリーンシートの製造方法及びセラミック電子部品の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a printed circuit board, in which an anchor profile is very small by the small number of processes and which is suitable for a fine pattern by a method, wherein a dry etching operation and a sputtering film formation operation are used.例文帳に追加

ドライエッチングやスパッタ成膜を用いることにより、少ない工程数でアンカープロファイルが非常に小さく、且つ微細パターン化に適したプリント基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an etchant composition for a copper-containing material, which prevents a shape failure of a wire in a circuit with a fine pattern and can manufacture a printed wiring board (or film) that does not cause a short circuit.例文帳に追加

微細パターンの回路配線の形状不良を防止し、ショート発生のないプリント配線板（あるいはフィルム）を製造し得る銅含有材料用エッチング剤組成物を提供する。 - 特許庁

The method of forming the fine metal pattern comprises dry film resist thinning treatments (T1 to T4) which are carried out in a period from a process of coating the dry film resist on a board (a) to a process of carrying out an etching process (d).例文帳に追加

基板上にドライフィルムレジストを貼り付け（ａ）てから、エッチング（ｄ）を行うまでの間に、ドライフィルムレジストの薄膜化処理（Ｔ１〜Ｔ４）を行う金属パターンの形成方法。 - 特許庁

By the reference grid manufacturing device, the fine wavy pattern can be manufactured highly precisely and effectively regardless of size of the reference grid.例文帳に追加

このように、基準格子製造装置１０を用いた製造方法によれば、基準格子の大きさに拘わり無く、微細凹凸形状パターンを高精度且つ効率良く加工することが可能になる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a ceramic green sheet which allows the formation of a fine conductor pattern on a substrate whose surface is applied with a mold release treatment, and also to provide a method of manufacturing a ceramic electronic component.例文帳に追加

表面に離型処理が施された基材上に微細な導体パターン部を形成できるセラミックグリーンシートの製造方法及びセラミック電子部品の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for efficiently preparing a master with a fine uneven pattern with a special crosssection such as sine wave and parabolic shape and used for preparing various optical films.例文帳に追加

正弦波、放物線状などの特殊な断面の微細凹凸パターンを有し、各種光学フィルムの製造に用いられる原盤を効率的に作製する方法を提供すること。 - 特許庁

Then, a projecting portion 8 comprising a plurality of small projections 8-1-8-13 dispersedly disposed in a connection range is provided at a position facing to the electrode pad on the fine wiring pattern 4.例文帳に追加

さらに、微細配線パターン４上の前記電極パッドに対向する位置には、接続範囲内に分散配置された複数の微小突起８_-1〜８_-13 からなる突起部８が設けられている。 - 特許庁

The letter, the numeral, the figure, the pattern and the like are processed to be a fine uneven face 10 by sand blasting on a backside 9 of the glass plate 2 or the mirror and coated with a paint or ink if necessary.例文帳に追加

上記文字、数字、図形、模様などをガラス板２や鏡の裏面９に砂打ちによる細かい凹凸面１０にて加工し、必要に応じて塗料又はインクを塗布する。 - 特許庁

To provide a negative dye-containing curable composition having high sensitivity, ensuring no residue in an unexposed portion, capable of forming a rectangular fine pattern, and excellent in color fastness to heat and light.例文帳に追加

高感度で未露光部分に残査がなく、矩形な微細パターン形成が可能で熱堅牢性および光堅牢性に優れた染料含有ネガ型硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

To generally provide a resist material that has high sensitivity to light and electron beams and can form a clear and fine pattern at a smaller exposure.例文帳に追加

本発明は、光や電子線に対する感度が高く、より少ない露光で、明瞭かつ微細なパターンを形成可能なレジスト材料を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁

To provide an actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition that excels in roughness property, exposure latitude, depth of focus and development defect performance and that allows to form a fine isolated line pattern of favorable shape, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

ラフネス特性、露光ラチチュード、焦点深度及び現像欠陥性能に優れ且つ良好な形状の微細な孤立ラインパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To obtain a resin composition suitable for use as the resin component of a chemical amplification type positive type photoresist which exhibits superior sensitivity and resolution and gives a pattern having a good cross-sectional shape when a fine resist pattern is formed using radiation, e.g. KrF excimer laser light.例文帳に追加

放射線、例えばＫｒＦエキシマレーザーを用いて微細なレジストパターンを形成する際に、優れた感度、解像度を示し、かつ断面形状の良好なパターンを与える化学増幅型ポジ型ホトレジストの樹脂成分として好適な樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To perform appropriate correction in order to suppress dimension nonuniformity in the plane of a semiconductor substrate or between the semiconductor substrates to the minimum by suppressing influence from the circumference of a pattern to the minimum when exposing the pattern which is fine with a large difference in crude density.例文帳に追加

微細且つ密度の粗密差の大きいパターンを露光する際に、当該パターンの周囲からの影響を最小限に抑え、半導体基板面内や半導体基板間における寸法ばらつきを最小限に抑えるべく適切な補正を実現する。 - 特許庁

Thereby an air gap 72 is defined between the first wiring patterns 53a to form a hollow structure between the wirings, and an air gap 73 is also defined between fine patterns in the dummy pattern 53b to form a dummy pattern 53b having a hollow structure.例文帳に追加

これにより、第１の配線パターン５３ａ同士の間に空隙７２が形成されて配線間が中空構造となると共に、ダミーパターン５３ｂにおける微細パターン同士の間にも空隙７３が形成されて、中空構造を有するダミーパターン５３ｂが形成される。 - 特許庁

To provide a photosensitive copper paste having high adhesive strength to a substrate, capable of forming a fine thick copper pattern, less liable to gel and excellent in shelf stability and to provide a copper pattern forming method, a circuit board and a ceramic multilayer substrate each using the paste.例文帳に追加

基板との密着力が高く、微細かつ膜厚の大きい銅パターンを形成することが可能で、しかもゲル化が生じにくく、保存安定性に優れた感光性銅ペースト、それを用いた銅パターンの形成方法、回路基板、及びセラミック多層基板を提供する。 - 特許庁

To excellently dry a substrate surface, while preventing a watermark from being generated on the substrate surface in drying the substrate surface which is wet with a liquid and preventing a pattern fall in a fine pattern which is formed on the substrate surface.例文帳に追加

液体で濡れた基板表面を乾燥させる際に基板表面にウォーターマークが発生するのを防止するとともに基板表面に形成された微細パターンにおいてパターン倒壊が発生するのを防止しながら、基板表面を良好に乾燥させる。 - 特許庁

To provide a method of forming a fine mask pattern in which the pattern, in which there is no remaining film on a base material or which is thin, can be formed, and to provide a nanoimprint lithography method which can perform precise and easy lithography process on the base material, and to provide a method of manufacturing a microstructure.例文帳に追加

基材上に残膜がないまたは薄いパターンを形成可能な微細マスクパターンの形成方法、基材に対して精度よくかつ容易にリソグラフィ加工が可能なナノインプリントリソグラフィ方法および微細構造体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition which has high removability of development residue, allows formation of a fine pattern and is excellent in heat resistance, toughness, resolution and insulation; a forming method of a photosensitive film, a photosensitive laminate and a permanent pattern, using the photosensitive composition; and a printed board.例文帳に追加

現像残渣除去性が高く、微細パターンが形成でき、耐熱性、強靭性、解像性、及び絶縁性に優れている感光性組成物、該感光性組成物を用いた感光性フィルム、感光性積層体、永久パターン形成方法、及びプリント基板の提供。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a mold for imprinting, smoothly performing dry etching on a hard mask layer and forming a fine pattern with a high pattern precision, to provide a mold with unremoved a remaining hard mask layer, to provide a method for manufacturing the mold with unremoved remaining hard mask layer, and to provide mask blanks.例文帳に追加

ハードマスク層に対するドライエッチングの進行をスムーズに行うことができ、高いパターン精度で微細パターンを形成するインプリント用モールドの製造方法、残存ハードマスク層除去前モールドおよびその製造方法、ならびにマスクブランクスを提供する。 - 特許庁

To provide a chemically amplified negative resist material which satisfies high sensitivity, high resolution and aging stability required by lithography in which fine pattern formation is required, particularly electron beam lithography and has excellent process adaptability and a good pattern shape.例文帳に追加

微細なパターン形成が要求されるリソグラフィー、特に電子線リソグラフィーで求められる高感度、高解像度、経時安定性をより高いレベルで満たし、優れたプロセス適応性と良好なパターン形状を有する化学増幅型ネガ型レジスト材料を提供する。 - 特許庁

To provide an etching solution which causes less changes in an etching speed and a formable narrowest wiring pitch of a pattern due to the change of a spray pressure when forming a fine wiring pattern by executing etching using an etching solution in which oxalic acid is added to an iron chloride aqueous solution.例文帳に追加

塩化鉄水溶液にシュウ酸を添加したエッチング液を用いてエッチングを行い、微細な配線パターンを形成する際に、スプレー圧力の変化によって生じるエッチング速度やパターン形成可能な最狭配線ピッチの変化が少ないエッチング液を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a combination mask capable of removing wrinkles and slacks during a manufacturing process, even when wrinkles and slacks are easily generated on a mask member, and as a result, capable of keeping the positional accuracy of a pattern to be formed, while enabling correspondence with a fine evaporation pattern.例文帳に追加

マスク部材単体にしわ・たるみ等が発生し易い場合であっても、製造過程でそのしわ・たるみ等を除去することができ、これにより微細蒸着パターンへの対応を可能にしつつ形成パターンのパターン位置精度を高く保てるようにする。 - 特許庁

Further, the manufacturing method of the moth-eye structure includes a process of applying resin, thereby, the corner of a recessed part in a rugged pattern can be formed to be a curved surface in a self-aligning manner and the fine structure pattern can be precisely formed to be moderate conical shapes.例文帳に追加

また、本発明のモスアイ構造体製造方法は、樹脂を塗布する工程を備えることにより、自己整合的に凹凸パターンの凹部の角を曲面にすることが出来、微細構造パターンを精度良くなだらかな錐形の形状にすることが出来る。 - 特許庁

To provide a resist composition capable of expanding the width of selectivity of a usable material, excellent in antistatic effect, having high sensitivity, and capable of efficiently forming a high-resolution fine resist pattern free of pattern defects and dislocation in a simple and easy way at a low cost.例文帳に追加

使用可能な材料の選択性の幅を広くすることができ、帯電防止効果に優れ高感度であり、パターン欠落や位置ずれ等がなく、高解像度で微細なレジストパターンを低コストで簡便に効率よく形成可能なレジスト組成物等の提供。 - 特許庁

To provide a printed circuit board capable of obtaining a fine circuit by reducing a thickness of a circuit pattern, reducing a thickness of the printed circuit board by embedding the circuit pattern into an insulating layer, and additionally reducing a process time and a process cost of the printed circuit board, and also to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加

回路パターンの厚さを減らして微細回路を実現し、回路パターンを絶縁層に内蔵してプリント基板の厚さを減らすうえ、プリント基板の工程時間および工程コストを減らすことが可能なプリント基板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method, capable of forming a fine pattern with high accuracy, without requiring a hard mask, further simplifying the formation step than conventionally, and reducing the manufacturing cost of the semiconductor device, and to provide a method for manufacturing the semiconductor device and the semiconductor device.例文帳に追加

ハードマスクを必要とせずに、微細なパターンを高精度で形成することができ、従来に比べて工程の簡略化と半導体装置の製造コストの低減を図ることのできるパターン形成方法、半導体装置の製造方法及び製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a composite glass epoxy substrate, along with a metal multilayer substrate using the same, capable of satisfying such opposing demands for resin substrate flatness and wiring pattern adhesion strength, as required for fine wiring pattern formation using a rigid resin substrate.例文帳に追加

リジッド樹脂基板を用いた微細な配線パターン形成において要求される、樹脂基板の平坦性と配線パターンの密着強度の二律背反の問題を解決するための複合ガラスエポキシ基板及びそれを用いた金属積層基板を提供する。 - 特許庁

To give sensation of sight which clarifies a difference in two patterns in a display which has a light scattering pattern formed by surface fine ruggedness and a grating pattern upon the change of observation conditions by brightening both patterns white similarly.例文帳に追加

表面の微細な凹凸により形成される光散乱パターンと回折格子パターンとを有するディスプレイにおいて、双方のパターンが同様に白色で光って見えるようにし、観察条件の変化に伴って、両者の差異が明らかとなるような視覚効果を持たせる。 - 特許庁

To provide a positive resist composition for suppressing the generation of residues after the development of a resist film thereof, while maintaining good adhesion of the resist film to a substrate so as to form a fine resist pattern, and a resist pattern forming method using the same.例文帳に追加

微細なレジストパターンを形成するためにレジスト膜と基板との密着性を良好に維持しつつも、レジスト膜の現像後の残渣の発生を少なく抑えることができるポジ型レジスト組成物、及びこれを用いたレジストパターンの形成方法を提供すること。 - 特許庁

The fine periodic structure m2 in submicron order is formed in the upper face of the printing plate having a printing pattern forming section corresponding to an ink pattern and in the front end face 41b' of the ring blade 41b arranged around the opening portion of the lower end of the ink container using a femto second laser.例文帳に追加

インキパターンに対応する印刷パターン成形部を有する印版の上面と、インキ容器の下端の開口部周縁に備えられたリングブレード４１ｂの先端面４１ｂ′とに、フェムト秒レーザを使用してサブミクロンオーダの微細周期構造ｍ２を形成する。 - 特許庁

In the face of the shade subjected to the non-transmissive treatment, a plurality of fine holes 20 are formed to produce the amount of transmissive light required to form the overhead light distribution pattern in an area A required to form the overhead light distribution pattern.例文帳に追加

そして、シェードは、その不透過処理が施された面上において、オーバーヘッド用配光パターンを形成するために必要な部分Ａに、オーバーヘッド用配光パターンを形成するために必要な透過光量を得るための複数の微細な穴２０、２０…を形成している。 - 特許庁

To provide a pattern forming method by which a fine pattern can be formed with high accuracy by uniformizing the light quantity of each drawing unit while suppressing costs, in exposure using a digital exposure device with an exposure head in which drawing units are two-dimensionally distributed.例文帳に追加

描画単位が２次元的に分布した露光ヘッドを備えるデジタル露光装置を用いた露光において、コストを抑えつつ、各描画単位の光量を均一化することにより、微細なパターンを高精度に形成可能なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a glass substrate for imprint, a resist pattern forming method, and a method and an apparatus for inspecting the glass substrate for imprint, with which high-sensitivity, high-inspection speed and high-throughput can be achieved with respect to a pattern and an extraneous substance with ultra fine size.例文帳に追加

本発明は、超微小サイズのパターン及び異物の検査について、高感度、高速及び高スループットを実現できるインプリント用ガラス基板、レジストパターン形成方法、インプリント用ガラス基板の検査方法及び検査装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition that excels in roughness property, exposure latitude, depth of focus and development defect performance and that allows to form a fine isolated space pattern of favorable shape, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

ラフネス特性、露光ラチチュード、焦点深度及び現像欠陥性能に優れ且つ良好な形状の微細な孤立スペースパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a display board and its manufacturing method in which a raised part to a plate and a fine recessed and protruded decoration pattern to the surface of the plate are simultaneously formed as preventing distortion of the decoration pattern.例文帳に追加

板に対する隆起部の形成及び当該板の表面に対する細かい凹凸形状の装飾パターンの形成をこの装飾パターンの歪みを防止しつつ同時に行うことで形成する表示盤及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for forming a positioning mark and an interconnection pattern forming a fine interconnection pattern to form the positioning mark, which are easily recongnized at a step of exposure, and also to provide a method for manufacturing a semiconductor device using it and a semiconductor device.例文帳に追加

配線パターンを微細化した上で、露光工程において容易に認識できる位置合わせマークを形成することができる位置合わせマーク及び配線パターンの形成方法、これを用いた半導体装置の製造方法並びに半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method capable of forming an extremely fine pattern of a high resolution, suppressing a parasitic effect and forming a field effect transistor of high performance by using electron beam lithography, and to provide a manufacturing method for a semiconductor device and the semiconductor device.例文帳に追加

電子ビームリソグラフィを用いて、高解像度の極めて微細なパターンを形成するとともに、寄生効果を抑えて高性能の電界効果型トランジスタを形成することができるパターン形成方法、半導体装置の製造方法、及び、半導体装置を提供する。 - 特許庁

When a certificate photograph of the person 20 wearing a dress with a pattern of lateral or longitudinal fine stripes or cross stripes is taken, the resolution of the dress can be lowered to restrain a moire pattern of the dress without deteriorating the sharpness of the face picture.例文帳に追加

被撮影者２０が細いストライプ等の縦縞や横縞、格子模様等の服装を着て証明写真を撮った場合に、服装部分の解像度を低減できるので、顔画像のシャープネスを損なうことなく、服装部分のモアレ模様を抑制することができる。 - 特許庁

A resin stamper for imprint has a fine uneven pattern on one surface, the uneven pattern is formed by cutting in a milling method or shaper method, and the resin is hydrocarbon resin, fluororesin or silicone resin.例文帳に追加

一方の表面に微細な凹凸パターンを有するインプリント用樹脂製スタンパであって、前記凹凸パターンがミーリング方式又はシェーパー方式で行われる切削加工により形成され、前記樹脂が、炭化水素系樹脂、フッ素系樹脂又はシリコーン系樹脂である。 - 特許庁

The method of forming the fine pattern includes steps of: preparing a substrate; forming the protection layer on the photoresist pattern according to the above forming method; and etching the substrate using the protection layer and the photoresist patterns as etching masks.例文帳に追加

また、基板を準備する工程と、上記形成方法によりフォトレジストパターン用保護膜を形成する工程と、前記保護膜及び前記フォトレジストパターンをエッチングマスクとして用いて前記基板をエッチングする工程と、を含む微細パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of selectively applying electroless nickel and electroless gold plating on a fine pattern on a printed wiring board by efficiently removing inorganic filler material remaining on a front layer of an insulating layer after roughening, and controlling abnormal deposition outside of the pattern.例文帳に追加

粗化後の絶縁層表層に残存している無機充填材を効率よく除去することにより、プリント配線板の微細パターンの上に、選択的に無電解ニッケル及び無電解金めっきを施し、パターン外の異常析出を抑制する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a highly-fine conductive pattern substrate having a conductive pattern using a polythiophene derivative and preventing degradation of characteristics of the polythiophene derivative, and also to provide its manufacturing method.例文帳に追加

本発明は、ポリチオフェン誘導体を用いた導電性パターンを有する導電性パターン基板およびその製造方法であって、ポリチオフェン誘導体の特性が劣化しにくく、高精細な導電性パターン基板およびその製造方法を提供することを主目的とする。 - 特許庁