「fine-pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(43ページ目) - Weblio英語例文検索

To easily manufacture a master pattern by creating surface shape data for securing each fine expression with image data of a limited gradation width even with respect to a surface shape of a leather model including a leather tie-dyed pattern and a stitch thread having a height far apart from each other.例文帳に追加

互いにかけ離れた高さの皮絞模様とステッチ糸を含む皮革モデルの表面形状でも、限られた階調幅の画像データで、それぞれ微細な表現が確保される表面形状データを作成してマスター型を簡便に製作可能とする。 - 特許庁

In the transferring device 1 transferring the fine transfer pattern formed in the mold M to the molding object W, a portion Ma of the mold M formed with the fine transfer pattern is gradually deformed into a convex form compared to an original form of the portion Ma toward the center of the portion Ma, for avoiding transfer defect at the central part of the portion Ma.例文帳に追加

型Ｍに形成されている微細な転写パターンを、被成型品Ｗに転写する転写装置１において、微細な転写パターンが形成されている型Ｍの部位Ｍａを、この部位Ｍａの中央部側での転写不良を回避するために、部位Ｍａの中央に向かうにしたがって、部位Ｍａの本来の形態に比べて徐々に凸になるように変形させる構成である。 - 特許庁

To provide a flexible forming die capable of easily and inexpensively manufacturing a fine structure including a fine mesh projection pattern or its similar projection pattern formed on the surface with high dimension accuracy and good yield, and simultaneously satisfying high dimension accuracy and good dimension stability, in particular good dimension stability with respect to humidity change.例文帳に追加

微細な格子状突起パターンあるいはそれに類似の突起パターンを表面に有する微細構造体を簡便かつ安価に、しかも高い寸法精度で歩留まりよく製造できるとともに、高い寸法精度及び良好な寸法安定性、特に湿度変化に対する良好な寸法安定性を同時に満足させ得るような可とう性成形型を提供すること。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a fine pattern molded resin product constituted so as to eliminate irregularity which occurs when a transfer-molded resin base material is suddenly cooled to be demolded and separated from a molding recessed plate before demolded from the molding recessed plate after a fine pattern is transfer-molded on the surface of a molding resin base material by the molding recessed plate.例文帳に追加

成型用樹脂基材の表面に成型用凹版にて微細パターンを転写成型後に、その転写成型された樹脂基材を成型用凹版から離型する前にて、その転写成型された樹脂基材を急激に冷却し、成型用凹版から離型、離版させる時に生じるムラを無くす微細パターン成型樹脂製品の製造方法を提供する。 - 特許庁

A method for manufacturing an anti-glare film including a rugged fine pattern comprising discontinuous dots formed on a flexible support comprises at least: a step of supplying photosensitive image forming material onto the flexible support to form a photosensitive layer; and a step of exposing and developing the photosensitive layer with an active light beam to form the rugged fine pattern comprising the discontinuous dots.例文帳に追加

可撓性支持体上に、感光性画像形成材料を供給して感光層を形成する工程と、 前記感光層を活性光線で露光、現像して、不連続なドットからなる凹凸微細パターンを形成する工程と、 を少なくとも有することを特徴とする、可撓性支持体上に不連続なドットからなる凹凸微細パターンが形成されている防眩フィルムの製造方法。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an array substrate for a liquid crystal display device that can form a small molecule organic semiconductor material having characteristics of being very weak against water in a fine pattern adjustable to several μm without using a shadow mask, and uses the small molecule organic semiconductor material without damaging the small molecule organic semiconductor layer in the fine pattern.例文帳に追加

本発明は、水分に非常に弱い特性を有する低分子有機半導体物質をシャドーマスクを利用しないで数μｍまで調節可能な微細パターンで形成することができ、微細パターンされた低分子有機半導体層の損傷なしに低分子有機半導体物質を利用した液晶表示装置用アレイ基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a fine patterning method capable of forming a sparse pattern while suppressing deformation and "tilting" by improving various tolerances of etching, and the like, utilizing the curing effect of vacuum UV-rays, and to provide a fabrication process of semiconductor device employing the fine patterning method.例文帳に追加

真空紫外線によるキュア効果を利用してエッチングなどの各種の耐性を改善し、変形や「倒れ」などを抑制できる疎なパターンを形成可能とした微細パターン形成方法及びこの微細パターン形成方法を用いた半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an injection molding method constituted to accelerate the compactification of a process in manufacturing a circuit molded product to efficiently form a fine circuit pattern and capable of manufacturing a product from a fine electronic part to a large-sized resin molded product like an instrument panel inclusive of a printed circuit board.例文帳に追加

回路成形品の製造にあたり、工程のコンパクト化を進め、微細な回路パターンを効率良く作製するとともに、プリント回路基板を始め、微小な電子部品からインスツルメントパネルのような大型の樹脂成形品まで製造可能な射出成形方法を提供する。 - 特許庁

To provide a technology for forming a fine circuit wiring having a superior embedding property of copper and a high electrical reliability on a substrate provided with a fine circuit pattern for an electronic circuit such as a silicon wafer, without producing defects such as a seam void in a channel, by electroless copper plating.例文帳に追加

微細な回路パターンが設けられたシリコンウェハ等の電子回路用基板に対し、無電解銅めっきにより溝内部にシームボイド等の欠陥が生じることがなく、優れた銅の埋め込み性と高い電気信頼性を有する微細回路配線を形成する技術を提供すること。 - 特許庁

This strip-like transfer die 20 for a pattern transfer is provided with some fine corrugations pressed and transferred to the surface of a transferred item such as a beverage can to form a hologram and the die is constituted of a metallic thin film 23 continuously formed by an electroforming roll 21 having some fine corrugations formed.例文帳に追加

飲料缶などの被転写体の表面に押圧転写してホログラムを形成するための微小凹凸を備えた紋様転写用の帯状転写型材２０を、微小凹凸が形成された電鋳ロール２１により連続成形した金属薄膜２３で構成するようにする。 - 特許庁

To provide a stamper having high wear resistance and durability and formed with low defect without damaging a fine groove formed by a resist mask method, when the stamper is formed from a glass master disk wherein a fine pattern is formed by the resist mask method using water soluble resin.例文帳に追加

水溶性樹脂を用いたレジストマスク法によって微細パターンを形成されたガラス原盤からスタンパを作成する場合にレジストマスク法によって形成された微細溝を損なうことなく低欠陥でスタンパ化するとともに、高い耐磨耗性および耐久性を持ったスタンパを提供する。 - 特許庁

To provide a mold manufacturing method for manufacturing a precise replica mold using an electroforming method by carrying out washing without damaging a mold formed with a fine structure in a nanoimprinting method which is a pattern transfer technology for forming a fine-shaped structure.例文帳に追加

微細な形状の構造体を形成するためのパターン転写技術であるナノインプリント法において、微細構造が形成されたモールドに損傷を与えることなく洗浄を行うことにより、電鋳法を用いて精密なレプリカモールドを作製することを可能にするモールドの製造方法を提供する。 - 特許庁

To inexpensively produce a particle powder of silver having superior weathering resistance and corrosion resistance even though the particle is fine and has a large specific surface area, and to provide a monodispersion liquid of silver suitable as a material for forming wiring for forming a fine circuit pattern, and particularly suitable as the material for forming the wiring with an ink jet method.例文帳に追加

微細で比表面積が大きくても耐候性・耐蝕性に優れた銀粒子粉末を安価に製造し、微細な回路パターンを形成するための配線形成用材料、特にインクジェット法による配線形成用材料として好適な銀の単分散液を得る。 - 特許庁

To provide a semiconductor device manufacturing method which enables transfer with higher precision ultra-fine resist pattern by reducing light reflectivity of lower-layer metal and secures selection ratio of masks and metal to form ultra-fine metallizing by implementing the metal etching via a hard mask of an oxide film.例文帳に追加

下地メタルの光反射率を低減させて微細なレジストパターンを高精度に転写すると共に、メタルエッチングを酸化膜のハードマスクを介して実施することでマスクとメタルのエッチング選択比を確保して微細なメタル配線を形成することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of a multilayer wiring substrate which uses a pattern formation method (a semi-additive method and a subtractive method) for each layer according to pattern width and pattern density of a wiring layer, by discriminating a layer with a fine wiring layer (such as a signal wiring layer) and a layer with a relatively rough layer appropriately, and to provide the multilayer wiring substrate.例文帳に追加

微細な配線層（例えば、信号配線層等）を有する層と比較的粗い配線層を有する層とに層別し、配線層のパターン幅及びパターン密度に応じて、層毎にパターン形成方法（セミアディテイブ法、ブトラクティブ法）を使い分ける多層配線基板の製造方法及び多層配線基板を提供することを目的とする。 - 特許庁

The thread can provide the magnetic anisotropy to the magnetic thin membrane layer by forming a ferromagnetic thin membrane layer following the fine ruggedness formed by the optical diffraction grating or the hologram pattern 13, and the optical diffraction grating or the hologram pattern 13 can be the combination of different patterns so that the optical diffraction grating or the hologram pattern 13 may provide the change of magnetic characteristics.例文帳に追加

スレッドは、光回折格子またはホログラムパターン１３からなる微細凹凸に追従して強磁性材薄膜層を形成することにより、該磁性材薄膜層に磁気異方性を付与することができ、光回折格子またはホログラムパターンが磁気特性の変化を与えるように異なるパターンの組み合わせであるものとすることもできる。 - 特許庁

When the rotational speed of the polygon mirror is fine-adjusted to correct a magnification in the sub-scanning direction Z, a screen pattern 80 used as image formation means is changed to a screen pattern in which interference is hard to generate against a displacement of a beam in the sub-scanning direction Z, for example, a screen pattern which has a large angle of a straight line D1 to the main scanning direction Y.例文帳に追加

副走査方向Ｚの倍率を補正するために、ポリゴンミラーの回転速度を微調整する際に、画像形成手段として用いられているスクリーンパターン８０をビームの副走査方向Ｚのずれ量に対して干渉が発生しにくいもの、例えば、直線Ｄ１の主走査方向Ｙとのなす角度が大きいスクリーンパターンに変更する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive composition for forming a color layer, which forms a fine pattern without causing chipping in a pattern edge or undercut even when the luminous energy of exposure is low, without generating an undissolved substance remaining during development or scum on a pattern edge, and forms a color filter with high color purity and a black matrix having high light-shielding property.例文帳に追加

低露光量でもパターンエッジの欠けおよびアンダーカットを生じることがなく、且つ現像時に未溶解物が残存したりパターンエッジにスカムを生じたりすることなく微細パターンの形成が可能であり、色純度の高いカラーフィルタおよび遮光性の高いブラックマトリックスを形成しうる着色層形成用感放射線性組成物を提供すること。 - 特許庁

By adding the subsidiary pattern in the hole as separated by a designated distance from the ring gate pattern 122 having a vertical symmetric structure, variation of critical dimensions (CD) in a pair of ring gate patterns having a vertical symmetric structure is reduced, where CD due to lens aberration between adjacent patterns must be the same, and a fine pattern is precisely formed.例文帳に追加

上下対称構造を有するリングゲートパターン１２２の穴中に一定距離離隔して補助パターン１２４を追加することによって、隣り合うパターン間で生じるレンズ収差によるＣＤが一致しなければならない１対の上下対称構造を有するリングゲートパターン間の臨界寸法変化を減らし、微細化パターンを正確に形成することができる。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition excellent in sensitivity and resolution, having a small light proximity effect, capable of accurately and stably forming a fine pattern even in an isolated line pattern, capable of ensuring a sufficient focus margin for the isolated line pattern and useful as a positive type or negative type chemical amplification type resist.例文帳に追加

感度および解像度に優れ、かつ光近接効果が小さく、孤立ラインパターンおいても微細パターンを高精度にかつ安定して形成することができ、しかも孤立ラインパターンに対して十分なフォーカス余裕度を確保しうる、ポジ型あるいはネガ型の化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

Prior to a pattern boring process by dry etching, a stencil mask substrate 1 on a region 13 of a fine pattern is etched away along the depth to make the substrate film thickness less than that of a region 12, and then even a stencil mask substrate having various pattern sizes can be processed to precise size in the mask surface.例文帳に追加

ドライエッチングによるパターン開口工程に先立って、微細パターンの領域１３上のステンシルマスク基板１をエッチングによりエッチング深さ方向に除去し、基板膜厚を他の領域１２に対し薄膜化することにより、種々のパターン寸法が混在するステンスルマスク基板においてもマスク面内の寸法を精度よく加工することができる。 - 特許庁

To increase the influence of a means for modulating a game by the effective use of effect sound by synchronizing with the fine change of a pattern variation pattern by a pattern variation screen, synchronizing with the informing timing by each display, and properly using the effect sound according to the contents of information (including a player's feeling) when informing by the display.例文帳に追加

図柄変動画面による図柄変動パターンの細かい変化に同期させ、かつ各表示による報知時期と同期させると共に、表示による報知の際に報知内容（遊技者の感情を含む）に応じて効果音を使い分けることで、効果音を有効利用することができ、遊技にメリハリをつける手段としての影響力を増大させる。 - 特許庁

To provide a resist material having high crosslinking efficiency, very high contrast of alkali dissolution rate before and after exposure, high sensitivity and high resolution, less liable to swell during development, so that pattern collapse and line edge roughness are reduced, and suitable for use as a fine pattern forming material particularly for VLSI manufacture or in photomask pattern formation.例文帳に追加

架橋効率が高く、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高感度で高解像性を有し、また、現像時の膨潤が小さいためパターン崩壊やラインエッジラフネスが低減される、特に超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクパターン作成における微細パターン形成材料として好適なレジスト材料を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method by which a fine pattern can be formed with a high degree of accuracy, by making each drawing unit uniform in light quantity while curbing costs, in exposure using a digital exposure apparatus equipped with an exposure head in which drawing units are two-dimensionally distributed, and by using a pattern forming material excellent in followup ability to the irregularity of a substrate.例文帳に追加

描画単位が２次元的に分布した露光ヘッドを備えるデジタル露光装置を用いた露光において、コストを抑えつつ、各描画単位の光量を均一化することにより、かつ基体に対して凹凸追従性に優れたパターン形成材料を用いることにより、微細なパターンを高精度に形成可能なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In the electromagnetic wave shielding member having a conductive material formed in a mesh pattern on a transparent substrate, the conductive material has a structure in which a plating metal couples metal fine particles in a metal fine particle binding body having a porosity of 20-80% formed by binding the metal fine particles via a binder resin and a surface resistance value is 10 Ω/SQARE or low.例文帳に追加

透明基材上に導電性材料をメッシュパターンに形成した電磁波シールド部材であって、該導電性材料が、金属微粒子をバインダー樹脂によって結着した空隙率が２０〜８０％の金属微粒子結着体において、めっき金属が前記金属微粒子間を連結しているものであって、表面抵抗値が１０Ω／□以下である電磁波シールド部材である。 - 特許庁

To provide a method for simultaneously realizing a patterning technique capable of forming a large area pattern at a low cost and a fine patterning technique capable of forming a small feature pattern as a method for forming a patterned thin film layer for IC that can be utilized in manufacture of a large area electronic device.例文帳に追加

大面積の電子装置の製造に利用できるパターニングされたIC用薄膜層の形成方法として、安価に大面積のパターンを形成できるパターニング技術と、小さな特徴パターンを形成できる微細パターニング技術と、を同時に実現する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having high transparency for radiation, excellent basic performances as a resist such as sensitivity, resolution, dry etching durability, pattern profile, and suitable as a chemical amplification type resist having high resolution property in a fine pattern region.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストとしての基本性能に優れるとともに、微細パターン領域での高い現像性を有する化学増幅型レジストとして好適な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The film is formed by electrifying the light-transmitting pattern region of the photomask substrate, electrifying the mist of a photocatalyst solution into the opposite polarity, making the mist fly to the photomask, vaporizing the solvent in the mist during flying, and depositing the photocatalyst fine particles on the light-transmitting pattern region.例文帳に追加

フォトマスク基板の光透過パターン領域を帯電させ、光触媒溶液のミストを逆極性に帯電させて前記フォトマスクに向けて飛翔させ、ミスト中の溶媒を飛翔中に蒸発させて前記光透過パターン領域に光触媒微粒子を付着させて成膜する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device that can achieve efficient wiring without using any expensive board having a number of layers when mounting a semiconductor electronic component that has a connection terminal connected to a thick wiring pattern and a narrow pitch on a multilayer interconnection board where merely one fine pattern can pass between lands.例文帳に追加

太い配線パターンにつながる接続端子を有し、かつ、狭ピッチな半導体電子部品を、ランド間にファインパターンが１本しか通らない多層配線基板に実装する場合に、層数の多い高価な基板を用いなくとも、効率よく配線することを可能にした半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a base material for forming a conductive pattern and a conductive member, by which the adhesion of the conductive pattern formed by using ink or paste containing metallic ultra-fine particles to the base material is increased, bleeding is reduced and excellent conductivity can be obtained.例文帳に追加

本発明の目的は、金属超微粒子を含むインクあるいはペーストを用いて形成された導電性パターンの基材に対する密着性が高く、にじみが少なく、かつ優れた導電性が得られる導電性パターン形成用基材および導電性部材を提供するものである。 - 特許庁

Consequently, only the light beams 12a and 12b pass through the masks 5a and 5b and heat the photoresists nearby wiring corresponding parts of the pattern, so unwanted thermal shrinkages are not caused, as compared with the conventional methods which heat the whole photoresists and a fine photoresist pattern is obtained.例文帳に追加

これにより、光１２ａ，１２ｂのみがマスク５ａ，５ｂを通過し、パターンの配線対応部の近傍のフォトレジストのみを加熱するので、フォトレジスト全体を加熱していた従来方法に比べて余計な熱収縮を生じさせることがなく、精密なフォトレジストパターンが得られる。 - 特許庁

The flexible wiring board for the tape carrier package includes an insulating film 1, a wiring pattern 3 formed on a surface of the insulating film, and an overcoat layer 9 containing a cured resin and porous fine particles, for protecting at least part of a wiring pattern.例文帳に追加

絶縁フィルム１、この絶縁フィルムの表面に形成された配線パターン３、および樹脂硬化物と多孔性微粒子を含み、前記配線パターンの少なくとも一部を保護するオーバーコート層９を備えることを特徴とするテープキャリアパッケージ用柔軟性配線板。 - 特許庁

A muddy or black substrate, which has a white pattern consisting of a fine dot or a narrow line, is arranged on a mat coat paper, and a latent image consisting of a transparent varnish pattern is formed on the substrate.例文帳に追加

上記の課題を解決するための手段として、請求項１に記載の発明は、マットコート紙上に、微細なドットあるいは細線からなる白抜きパターンを持つ濁色あるいは黒色の下地を設け、前記下地上に透明ニスパターンからなる潜像を形成したことを特徴とした画像形成用紙。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a reflective type mask, capable of manufacturing the mask by accurately correcting a fine pattern without lowering throughput, without damaging a normal pattern and a reflection layer and without leaving a correction mark, concerning the manufacture of the reflective type mask for EUV exposure.例文帳に追加

ＥＵＶ露光用反射型マスクの製造において、スループットを低下させずに、正常パターンや反射層に損傷を与えず、修正痕を残さずに、微細パターンの修正を精度良く行ってマスクを製造することができる反射型マスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a printed circuit board, along with a method of manufacturing the board, in which a manufacturing process can be simplified and a fine circuit pattern can be achieved as a circuit pattern can be formed simultaneously on both surfaces of a base substrate by forming a trench on both surfaces of the base substrate.例文帳に追加

ベース基板の両面にトレンチを形成することにより、両面に回路パターンを同時に形成することができるため、製造工程を単純化することができるとともに、微細回路パターンを実現することができるプリント基板およびその製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a photomask and a method for manufacturing a photomask, which achieve patterning without requiring an additional investment even when a line-and-space pattern having a fine pitch width is to be formed on a process object, and to provide a method for manufacturing a liquid crystal display device and a method for transferring a pattern.例文帳に追加

被加工体に微細なピッチ幅のライン・アンド・スペース・パターンを形成する場合であっても、追加投資を殆ど必要とせずにパターニングを行うことができるフォトマスク、フォトマスクの製造方法、液晶表示装置の作製方法及びパターン転写方法を提供することを目的の一とする。 - 特許庁

To provide copper foil which has a high etching factor without lowering peeling strength, can attain fine pattern without leaving copper particles at a root of a wiring pattern and further has large high temperature elongation percentage and high tensile strength.例文帳に追加

本発明は、引き剥し強さを低下させることなく、高いエッチングファクターを持ち、配線パターンの根元に銅粒子が残ることなく、ファインパターンを達成できる銅箔であると共に大きな高温伸び率及び高い引張り強さを有する銅箔を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a resist composition excellent in transparency to radiation and dry etching resistance and capable of forming a resist pattern excellent in resolution, sensitivity, flatness and heat resistance, and to provide a method for manufacturing a semiconductor device with a fine pattern having a high degree of integration using the resist composition.例文帳に追加

放射線に対する透明性、ドライエッチング耐性に優れ、解像度、感度、平坦性、耐熱性に優れるレジストパターンを形成できるレジスト組成物、ならびに、該レジスト組成物を用いる微細で集積度の高いパターンを持つ半導体装置の製造方法の提供。 - 特許庁

To obtain a method of producing a fine pattern which has excellent transfer printing e and high pattern accuracy; is capable of performing transfer- printing at high alignment accuracy using a master with a light transmission part; has high fineness and high density; and is capable of mass-producing with a high yield, and a printed wiring board using the method.例文帳に追加

転写性に優れ、パターン精度が高く、光透過部を有したマスター版を使用してアライメント精度よく転写することができ、高精細で高密度で、そして歩留り良く量産可能な微細パターンの製造方法およびそれを用いたプリント配線板を提供することを目的とする。 - 特許庁

When a stencil base sheet 3 is placed on the surface 2a of the file 1 and drawn by a writing instrument or the like, a synthetic resin film 3b of the sheet 3 is effected by a pressure by writing in a pattern corresponding to the pattern drawn on a porous support 3a, and hence many fine pores are formed.例文帳に追加

この製版用ヤスリ１の表面２ａに孔版原紙３を載せて筆記具等で描画すると、孔版原紙３の合成樹脂フィルム３ｂは、多孔性支持体３ａの上に描かれたパターンに対応したパターンで筆記による圧力を受け、多数の微細な穿孔が形成される。 - 特許庁

To provide a proximity effect correction method capable of reducing processing time for correction of a proximity effect while maintaining high drawing precision of a drawing pattern in a proximity effect correction method in fine pattern drawing using an electron beam drawing device of high acceleration voltage.例文帳に追加

高加速電圧の電子線描画装置を用いた微細パターン描画における近接効果補正方法において、描画パターンの高い描画精度を維持しながら、近接効果補正のための処理時間を低減させることができる近接効果補正方法を提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus and method for inspecting foreign matter, capable of easily and stably separating the fine foreign matter of a micron order bonded to a transparent or translucent substrate having a circuit pattern, especially, a reticle having a phase shift film from the circuit pattern by optically simple constitution to detect the same.例文帳に追加

回路パターンを有する透明または半透明の基板、特に位相シフト膜を有するレチクル等上に付着したサブミクロンオーダーの微細な異物を、光学的に簡単な構成で、容易に安定して回路パターンから分離して検出できる異物検査装置およびその方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a mask pattern and a method for manufacturing a semiconductor device, in which a fine mask pattern can be formed by an SWP technique, while preventing a core member made of a resist film from being deformed when a silicon oxide film is formed and etched back.例文帳に追加

ＳＷＰの手法により微細なマスクパターンを形成するときに、酸化シリコン膜を成膜する際、及びエッチバック処理する際に、レジスト膜よりなる芯材が変形することを防止できるマスクパターンの形成方法及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a novel radiation sensitive resin composition having high transparency to radiation, excellent basic physical properties for a resist pattern such as in sensitivity, resolution, and pattern shapes, without causing development defects during fine machining, to manufacture semiconductor elements at a high yield.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れるのみならず、微細加工時に現像欠陥を生じることがなく、半導体素子を高い歩留りで製造することができる新規な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an embossing apparatus capable of certainly forming a fine embossed surface on a sheet-like material, capable of setting the embossed pattern applied to the sheet-like material to a desired pattern as a result and capable of suppressing the occurrence of positional shifts between respective embossed shapes.例文帳に追加

シート状材料に微細凹凸面を確実に形成することができ、その結果シート状材料に付けられる凹凸模様を所望の模様とすることができ、さらに、各凹凸形状間に位置ズレが生じることを抑止することができるエンボス加工装置を提供すること。 - 特許庁