「fine-pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(46ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for forming a fine processing pattern with high position precision without using a photomask, typically, a method relating to a contact opening in the process for manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

フォトマスクを使用することなく、微細な加工パターンを高い位置精度で形成する方法、代表的には半導体装置を製造する工程の中でのコンタクト開口に関する方法を提示する。 - 特許庁

To provide a conduction inspection sheet, a conduction inspection method and a device using the sheet capable of performing conduction inspection of a fine electrode pattern accurately and easily without using a probe.例文帳に追加

プローブを用いることなく、微細な電極パターンの導通検査を正確かつ容易に行うことを可能とする導通検査シート、それを用いた導通検査方法および装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a photomask for proximity exposure, with which a fine pattern can be formed by proximity exposure, and to provide a method for manufacturing a color filter using the photomask for proximity exposure.例文帳に追加

プロキシミティ露光により、細かいパターンを形成することが可能なプロキシミティ露光用フォトマスク、およびそのプロキシミティ露光用フォトマスクを用いたカラーフィルタの製造方法を提供することを主目的とする。 - 特許庁

To provide a composite titanium oxide thin film element unit obtained by easily and inexpensively forming a composite titanium oxide film in fine pattern form on the prescribed area of a substrate, and to provide the method for producing the unit.例文帳に追加

安価で容易に基板上の所定の領域に微細なパターンで複合チタン酸化物膜を形成した複合チタン酸化物薄膜素子ユニットとその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a resin for a radiation-sensitive material having excellent transparency and high sensitivity to far ultraviolet rays, further having good adhesion to a substrate, and etching resistance, and enabling fine pattern processing.例文帳に追加

遠紫外線に対して優れた透明性と高感度を有し、基板との密着性が良く、エッチング耐性を持ち、微細パターン加工可能な放射線感光材料用の樹脂を提供すること。 - 特許庁

The composition for forming an electroless plating pattern contains metal compound particles 101 modified with an organic substance 103 on the surface and carrying catalyst metal fine particles 105 on the surface.例文帳に追加

表面を有機物１０３で修飾されるとともに、前記表面１０３に触媒金属微粒子１０５を担持した金属化合物粒子１０１を含む無電解メッキパターン形成用組成物。 - 特許庁

To provide metal nanoparticle paste which has an excellent balance in fluidity and viscosity or spinnability even without using a binder resin and can clearly form a fine pattern even by intaglio offset printing.例文帳に追加

バインダー樹脂を用いなくても、流動性と粘性又は曳糸性とのバランスに優れ、凹版オフセット印刷によっても微細なパターンを明瞭に形成できる金属ナノ粒子ペーストを提供する。 - 特許庁

The polymer removing liquid composition for fine pattern contains (1) at least one of fluoride and difluoride salts, (2) an anionic surfactant, (3) an organic solvent having a heteroatom and (4) water.例文帳に追加

(1) フッ化物塩及び重フッ化物塩の少なくとも１種；(2)アニオン系界面活性剤； (3)ヘテロ原子を有する有機溶媒；及び(4)水を含むことを特徴とする微細パターン用ポリマー剥離液組成物。 - 特許庁

To provide an electromagnetic shield film which has a fine metal mesh pattern of high dimensional accuracy and is superior in electromagnetic wave shieldability and light permeability, and to provide a method for manufacturing the electromagnetic shield film inexpensively.例文帳に追加

微細で寸法精度の高い金属メッシュパターンを有し、電磁波シールド性および光透過性に優れた電磁波シールドフィルムおよび該電磁波シールドフィルムを安価に製造する方法を提供する。 - 特許庁

Or a pattern is formed by applying by a printing method the solution that contains conductive fine particles and polymerization molecules, and manufactured by polymerizing or fixing by heating or irradiation of ultraviolet rays or the like.例文帳に追加

また導電性微粒子と重合性分子を含む液を印刷法で塗布することによりパターン形成し、加熱や紫外線照射等により重合、定着させることでも製造できる。 - 特許庁

To provide a product with an alignment mark that enables spatially varying reflective properties by using a pattern of fine lines for different polarization components for radiation of selectable orders of diffraction.例文帳に追加

選択可能な回折次数の放射のために様々な偏光成分に対する微細なラインパターンにより空間的に変化する反射特性を可能にするアライメントマークを製品にもたらすことである。 - 特許庁

The label 10 with a release sheet comprises a label 12 releasably stuck to a release sheet 11, in which the edge 11a in at least one side of the release sheet is formed into a fine rugged pattern.例文帳に追加

剥離シート１１上にラベル１２が剥離可能に貼着されてなる剥離シート付きラベル１０において、上記の剥離シートの少なくとも片側の縁部１１ａを微細な凹凸状に形成した。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a printing plate by which changes in an etching critical dimension (CD) is minimized to form a fine pattern by flattening the plate with an organic film and then etching into a desired width.例文帳に追加

有機膜を用いて平坦化した後に望む幅でエッチングすることによって、エッチングＣＤの変化を最小化し微細パターンを形成することができる印刷板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method that allows, in manufacturing members related to next generation displays, formation of a very fine thin film pattern at low cost on a substrate inferior to glass in heat resistance by an inverted printing process.例文帳に追加

次世代ディスプレイ関連部材の製造において、ガラスより耐熱性の劣る基板上に、反転印刷方法を介して、低コストで高精細な薄膜パターンを形成することを可能にする方法である。 - 特許庁

To provide a method and device for manufacturing a color filter capable of forming a fine and precise image pattern even if the base board transparent has a large area by preventing displament originating from deflection.例文帳に追加

大面積の透明基板であっても、たわみによる変位を防止して精密な画像パターンを形成しうるカラーフィルター製造装置、及びそれを用いたカラーフィルターの製造方法を提供する。 - 特許庁

The plate-like sample S as a wafer having a fine pattern is drilled from the surface toward the depth by glow discharge, and drilled cross section is formed, from the surface of the sample S toward the depth direction.例文帳に追加

微細パターンが形成されたウエハである平板状の試料Ｓに対して、グロー放電によって表面から深さ方向に掘削し、試料Ｓの表面から深さ方向に掘削断面を形成する。 - 特許庁

To enable the rapid extraction of the surface abnormality of an electrode or the microflaw in the fine wire pattern of the electrode and the accurate judgment of the quality of a semiconductor device in a visual examination method of the semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の外観検査方法において、迅速な電極表面の異状や細線パターンにおける微細欠陥の抽出、及び正確な良・不良の判定を可能にする。 - 特許庁

To suppress a measuring error caused by a change in the spot position of reflection light occurring when making luminous flux impinge on a fine pattern having line width that is nearly the same as a light source wavelength on an object to be examined.例文帳に追加

被検物上の光源波長と同程度の線幅を持つ微細パターンに光束を入射した場合に生じる、反射光のスポット位置変化に起因する測定誤差を抑制する。 - 特許庁

To provide a plating method capable of obtaining a fine and thick plated film pattern of high density and uniform film thickness which is necessary for a front plate member for a field emission type display over a large area.例文帳に追加

電界放出型ディスプレイ用前面板部材として必要な、大面積にわたって均一な膜厚で微細で高密度の厚いめっき膜パタ−ンを得るめっき方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a dissolution accelerator and a photoresist composition, including the dissolution accelerator that can increase the difference in the solubility, between an exposed part and an unexposed part in forming a fine pattern, using a photolithographic process.例文帳に追加

フォトリソグラフィ工程を用いた微細パターンの形成に当たって、露光部と非露光部との溶解度差を増大可能な溶解促進剤及びこれを含む化学増幅型フォトレジスト組成物が開示される。 - 特許庁

In addition, the hidden letter part 14 is formed by studding a plurality of void dots 14-2 arranged in an annulus on a checker-patterned fine lines 14-1 formed in a checker pattern.例文帳に追加

また、隠し文字部１４は、格子形状に形成された格子状細線１４−１の上に、円環形状に形成された白抜き網点１４−２を複数個点在させることで構成する。 - 特許庁

The method of forming the fine flow channel 40 includes the processes of: forming a mask pattern 20 on a substrate 10; coating an exposed part 10a of the substrate 10 with noble metal particles 30; and forming the fine flow channel 40 on the surface of the substrate 10 by dipping the substrate 10 in an etching solution to etch the substrate 10 under the exposed part 10a of the substrate using the mask pattern 20 as a mask.例文帳に追加

基板１０上にマスクパターン２０を形成する工程と、貴金属微粒子３０を前記基板１０の露出部１０ａに塗布する工程と、前記基板１０をエッチング溶液に浸漬して前記マスクパターン２０をマスクとして前記基板の露出部１０ａ下部の基板１０をエッチングすることにより、前記基板１０表面に微細流路４０を形成する工程と、を含む微細流路４０の形成方法である。 - 特許庁

This teaching method of the automatic optical inspection system for performing continuous optical inspection of a printed circuit board unit having the same pattern has characteristics wherein master data to the printed circuit board unit are prepared, and the master data are divided into a plurality of fine part inspection domains and registered, and reference data for discriminating each pattern component in the plurality of divided fine part inspection domains are registered.例文帳に追加

同一なパターンのプリント回路基板ユニットを連続的に光学検査する自動光学検査システムのティーチング方法において、プリント回路基板ユニットに対するマスタデータを準備し、マスタデータを複数の細部検査領域に分割して登録し、分割された複数の細部検査領域のパターン成分を判別する基準データを登録することを特徴とする自動光学検査システムのティーチング方法。 - 特許庁

To solve the following problem: disconnection or increase and unevenness in wiring resistance due to resist residue remaining in distribution holes, or impossibility of formation of a fine circuit pattern due to swelling by development, in forming a copper wiring circuit by a dual damascene method in which distribution holes are formed prior to formation of distribution grooves using ArF lithography capable of forming a fine pattern.例文帳に追加

微細パターン形成が可能なＡｒＦリソグラフィを用い、配線孔を配線溝に先だって形成するデュアルダマシン法で銅配線回路を作る場合、配線孔内に残るレジスト残渣の影響で断線や配線抵抗の増大およびバラツキが生じるという問題、あるいは現像膨潤によって微細回路パターン形成ができないという問題を解決することが本発明が解決する課題である。 - 特許庁

To provide a line drawing and/or dot pattern printed product with a fine slit pattern structure for developing a specific warning message to an illegal copy utilizing an image input/output unit for a digital copier or the peripheral equipment of a personal computer and a discriminating screen capable of visualizing the message and easily discriminating a truth or a falsehood merely by superposing on the line drawing pattern printed product.例文帳に追加

デジタルカラーコピー機やパソコンの周辺機器等の画像入出力装置を利用した違法なコピーに対し、特定の警告メッセージが発現する微小スリットパターン構造入り線画及び／又はドットパターン印刷物、また、上記線画パターン印刷物に対して重ね合わせるだけで警告メッセージを顕像化し、容易に真偽判別が可能な判別スクリーンを提供する。 - 特許庁

To provide a negative resist material, in particular a chemical amplitude negative resist material, which has a high contrast of alkali dissolution rate before and after light exposure, has a high resolution at high sensitivity and small line edge roughness and is especially suitable as a fine pattern forming material in manufacturing a super LSI or in manufacturing a photo mask pattern material and to provide a pattern formation method and a photomask blank using the negative resist material.例文帳に追加

露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが高く、高感度で高解像性を有し、ラインエッジラフネスが小さい、特に超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクパターン作製における微細パターン形成材料として好適なネガ型レジスト材料、特に化学増幅ネガ型レジスト材料、これを用いたパターン形成方法及びフォトマスクブランクを提供する。 - 特許庁

The coating forming agent used to form a fine pattern by coating the top of a substrate having a photoresist pattern and narrowing the spacing of the photoresist pattern by its heat-shrinking action comprises a water-soluble polymer containing at least (meth)acrylamide as a constituent monomer.例文帳に追加

ホトレジストパターンを有する基板上に被覆され、その熱収縮作用を利用してホトレジストパターン間隔を狭小せしめて微細パターンを形成するために使用される被覆形成剤であって、少なくとも（メタ）アクリルアミドを構成モノマーとして含む水溶性ポリマーを含有することを特徴とするパターン微細化用被覆形成剤、および該被覆形成剤を用いた微細パターンの形成方法。 - 特許庁

The magnetic recording medium includes a substrate, an intermediate layer adjacent to the substrate, and a pattern formation layer adjacent to the intermediate layer and having a fine protruding and recessing pattern on its surface, wherein the intermediate layer is composed of an adhesive containing an ultraviolet ray transmitting silicone resin, and its elastic coefficient is smaller than that of the substrate and is smaller than that of the pattern formation layer.例文帳に追加

基材と、上記基材に隣接する中間層と、上記中間層に隣接し、表面に微細な凹凸パターンを有するパターン形成層とを備え、上記中間層が紫外線透過性のシリコーン樹脂を含有する接着剤からなり、その弾性率が、上記基材の弾性率よりも小さく、かつ、上記パターン形成層の弾性率よりも小さい。 - 特許庁

To provide a method for forming a resist pattern by which ArF (argon fluoride) excimer laser light can be used as exposure light upon patterning, a resist pattern can be stably made thick to a desired thickness without depending on the size, and a fine resist cut-out pattern can be inexpensively, easily and efficiently formed over the exposure limit (resolution limit) of a light source of an exposure device.例文帳に追加

パターニング時に露光光としてＡｒＦ（フッ化アルゴン）エキシマレーザー光をも利用可能であり、レジストパターンをそのサイズに依存することなく、所望の厚みに安定的に厚肉化することができ、露光装置の光源における露光限界（解像限界）を超えて微細なレジスト抜けパターンを低コストで簡便に効率よく形成可能なレジストパターンの形成方法等の提供。 - 特許庁

In the reticle 1 provided with plural patterns in which a light shielding area and a light transmissive area are alternately formed at a prescribed pitch so that the pitch between the light shielding area and the light transmissive area of each pattern is different from each other, the pattern having a fine pitch in the plural patterns is placed on the central side in an exposure area L of the reticle 1 than the pattern having a coarse pitch.例文帳に追加

光遮断領域と光透過領域とが所望のピッチで交互に形成されているパターンを複数個備え、かつ前記複数のパターンに形成された光遮断領域と光透過領域とのピッチが互いに異なるレチクルにおいて、前記複数のパターンのうちピッチの細かいパターンを、ピッチの粗いパターンよりも、レチクル照明領域の中央部側に配置する。 - 特許庁

By enlarging the displacement of the fine displacement distance generated by the fine displacement generation part 46 by a displacement enlargement arm 44, the movable shade 38 is made stopped at an arbitrary position in the middle other than a complete advancing position or a complete retreating position to form an intermediate light distribution pattern corresponding to its stopped position.例文帳に追加

微細変位発生部４６により発生した微細変位距離の変位が変位拡大アーム４４により拡大されることによって可動シェード３８を完全進出位置及び完全退避位置以外の中間の任意の位置に停止させて、その停止位置に対応した中間配光パターンを形成する。 - 特許庁

In washing the fine structure such as a semiconductor, a micromachine or the like, peroxide is added to carbon dioxide set to a supercritical state and the peroxide itself is dissociated in carbon dioxide set at the supercritical state to remove a pollutant such as resist or etching residue at the time of formation of a pattern without destructing the fine structure.例文帳に追加

半導体やマイクロマシン等の微細構造の洗浄において、超臨界状態の二酸化炭素に過酸化物を添加し、更に過酸化物自体を超臨界状態の二酸化炭素中で解離させることにより、微細な構造を破壊することなく、パターン形成時のレジストやエッチング残渣物等の汚染物質を除去する。 - 特許庁

To provide a method for producing a heat resistant resin paste capable of exhibiting a thixotropic property without using a filler such as silica fine particles or insoluble polyimide fine particles, forming a uniform thick film pattern excellent in reliability without having voids or bubbles by a screen printing method, having less dust or ionic impurities and also excellent in productivity.例文帳に追加

シリカ微粒子や非溶解性ポリイミド微粒子などのフィラーを用いなくてもチキソトロピー性を発現でき、スクリーン印刷法で空隙や気泡のない信頼性に優れる均一な厚膜パターンを形成でき、塵やイオン性不純物が少なくかつ生産性に優れる耐熱樹脂ペーストの製造方法。 - 特許庁

A density distribution mask 10 in which patterns 6 of a translucent film are provided on a transparent substrate 1, fine dot figures 4 of pattern of a light-shielding film are provided on the patterns 6 of the translucent film and a opening ratio W of gaps between the fine dots figures 4 is set as the square root of a light transmittance T is produced.例文帳に追加

透明基板１の上に半透光膜のパターン６を有し、前記半透光膜のパターン６の上に、遮光膜のパターンの微小網点図形４を有し、前記微小網点図形４間の間隙の開口率Ｗが光透過率Ｔの平方根に設定された濃度分布マスク１０を製造する。 - 特許庁

To provide a master mold useful for forming a fine structure without the need of complicated fabrication processes or skill in manufacturing, capable of shortening manufacturing processes, and capable of easily forming a complicated fine structure pattern of a projection part or the like of a material excellent in durability.例文帳に追加

微細構造体の成形型を製造するのに有用で、製造に煩雑な加工工程や熟練が必要とされることがなく、製造工程を短縮することができ、しかも凸部等の複雑な微細構造パターンを耐久性にすぐれた材料から容易に製造することができる母型を提供すること。 - 特許庁

To provide a developing roller which can form a fine rugged pattern with excellent uniform toner holding characteristics on the surface of a resin coating layer without dispersing fine particles in the resin coating layer or blasting treatment of the layer, prevents the unreacted resin content from remaining, and further reliably prevents contamination of a photoreceptor and can form a favorable image.例文帳に追加

樹脂被覆層への微粒子の分散やブラスト処理を行うことなく、トナーの均一保持性に優れた微細凹凸を樹脂被覆層表面に形成することができ、しかも、未反応樹脂分の残留を無くし、感光体の汚染を確実に防止して良好な画像を形成することができる現像ローラを提供する。 - 特許庁

Another method of manufacturing the wiring board includes a step 1 of forming a conductor agent film by using a conductor agent including fine conductor particles having a mean particle diameter of ≤300 nm and/or fine heated conductor particles, a step 2 of forming a conductor film by heating the conductor agent film, and the step 6 of forming the conductor pattern (12).例文帳に追加

本他方法は、同配線板の製造方法において、平均粒径３００ｎｍ以下の導電性微粒子及び／又は加熱導電化微粒子を含有する導電化剤を用いて同導電化剤膜を形成する工程１と、導電化剤膜を加熱して導電化膜とする工程２と、同工程６と、を備える。 - 特許庁

To provide a transfer apparatus equipped with a gimbal mechanism constituted so as not only to suppress positional shift small but also to perform mold release without damaging a fine uneven shape when the fine uneven pattern formed on the surface of a mold is transferred to the surface of a product to be molded using a lithographic technique, and a transfer method using it.例文帳に追加

リソグラフィ技術を用いて型の表面に形成された微細な凹凸パターンを被成形品の表面に転写するとき、位置ずれを小さく抑えることができると共に、微細な凹凸形状を損傷することなく離形を行うことのできる転写装置及び方法を提供する。 - 特許庁

To provide manufacturing methods for a glass substrate for an electronic device and a mask blank with which no fine uneven surface defect occurs on a substrate surface or a failure rate is low, and a manufacturing method for a transfer mask free from a phase defect or a pattern defect caused by the fine uneven surface defect on the substrate surface.例文帳に追加

基板表面に微小な凸状、凹状の表面欠陥が発生しないか又は発生率の低い電子デバイス用ガラス基板及びマスクブランクスの製造方法、並びに基板表面に微小な凸状、凹状の表面欠陥が起因する位相欠陥やパターン欠陥のない転写マスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method by which such a printed wiring board can be manufactured that fine irregularities can be formed easily on the surface of a circuit through a simple step and, even when a fine pattern having narrow line widths and line intervals is formed, the deficit, such as the edge chipping, etc., of the circuit can be suppressed.例文帳に追加

回路の表面に簡易な工程にて容易に微細な凹凸を形成することができ、更に、ライン幅及びライン間隔が狭いファインパターンを形成する場合であっても、回路の表面に凹凸を形成するにあたり、回路の角落ち等の欠損を抑制することができるプリント配線板の製造方法を提供する - 特許庁

To provide a multilayer printed wiring board of high reliability having an insulating layer which is superior in insulation reliability, has high thermal resistance and toughness, is superior in copper wire adhesion, and can form a fine roughened surface suitable for forming a fine pattern, and to provide a method for manufacturing a multilayer printed board which can manufacture the printed board easily at a low cost.例文帳に追加

絶縁信頼性に優れ、高耐熱性で、靱性が強く、銅線密着性が良好で、かつファインパターンの形成に適した微細粗化表面を形成可能な絶縁層を有する信頼性の高い多層プリント配線板及びそれを容易にかつ安価に製造し得る多層プリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To completely bury the fine wiring groove of an LSI substrate, a via hole, or the like for forming a fine pattern with uniform conductivity by eliminating Cu on the substrate other than a recessed part for flattening, and by forming a Cu thin film at the recessed part.例文帳に追加

アスペクト比の大きい凹部を有する半導体基板に対し、凹部にボイドを生じることなくＣｕ金属を埋め込んだり、スパッタ法、メッキ法等により形成された凹凸の大きい膜表面に既に埋め込まれているＣｕ膜よりも研磨されにくい犠牲層としてＣｕ又はＣｕ−Ｃ薄膜を低コストで形成すること。 - 特許庁

The circuit pattern is formed by sintering nano-silver paste prepared by stably dispersing fine metallic particles which have a mean particle diameter of 1-100 nm, are composed of gold, silver, copper, etc., and are coated with a dispersant 2 (amine, alcohol, thiol, etc.), capable of coordinating with the metal element contained in the fine metallic particles in an organic solvent at a temperature of ≤250°C.例文帳に追加

平均粒径１〜１００ｎｍの金，銀，銅などの金属微粒子の表面が、当該金属微粒子に含まれる金属元素と配位可能な分散剤２（アミン, アルコール, チオールなど）で被覆され、有機溶媒中に安定に分散した銀ナノペーストなどを、２５０℃以下の温度で燒結して回路パターンを形成する。 - 特許庁

In a cleaning processing of the semiconductor substrate formed with the fine patterns on the surface thereof, the semiconductor substrate is held with the pattern surface thereof facing down in a cleaning processing chamber, vapor is supplied into the cleaning processing chamber to cause water drops to be condensated, and foreign substances between the fine patterns are removed.例文帳に追加

表面に微細パターンが形成された半導体基板を洗浄する処理において、洗浄処理チャンバー内で半導体基板のパターン面を下向きにして保持するとともに、洗浄処理チャンバー内に蒸気を供給して半導体基板表面で液滴を結露させて微細パターンの間の異物除去を行う。 - 特許庁

Then, a visible portion visible from the front face side of the machine on the surface of the body of each of the game machine constitutive members is applied with a pattern layer PT, in which fine patterns are in prescribed arrays at prescribed intervals in longitudinal and lateral directions.例文帳に追加

そして、遊技機構成部材本体の表面のうち機前面側から視認できる視認部位には、微細模様が上下左右に所定の間隔をあけて所定の配列をなす模様層ＰＴを施す。 - 特許庁