| 意味 | 例文 |
fine-patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2994件
To provide a photomask blank capable of forming a pattern high in sensitivity and superior in resolution, and to provide a photomask which is prepared by using the photomask blank and is superior in film strength of a light shielding film and resistance to a solvent in mask cleaning even when having a fine pattern such as narrow lines.例文帳に追加
本発明は、高感度で、解像度に優れたパターンを形成しうるフォトマスクブランクス、及び前記本発明のフォトマスクブランクスを用いてなり、細線等の微細パターンを有するものであっても、遮光膜の膜強度とマスク洗浄の溶剤に対する溶剤耐性に優れたフォトマスクを提供する - 特許庁
To provide a method and an apparatus for accurately measuring the trial of the cuff of a fine pattern, and also to provide a semiconductor device manufacturing control system for deciding the processing accuracy on the basis of shape information, such as the height of pattern, tapering angle, amount of trail, and roughness.例文帳に追加
微細パターンのボトム部の裾引き形状を正確に計測する方法および計測装置を提供するとともに、パターン高さ、テーパー角、裾引き量およびラフネス等の形状情報に基づいて加工精度を判定する半導体デバイスの製造管理システムを提供する。 - 特許庁
To provide a method for producing a mold for nano-imprints, which forms a metal mold by reproducing a pattern on a resin layer when the production of a resin reproduction plate by methods such as an imprint while utilizing a high degree of freedom of the shape of a fine pattern using a silicon etching master is difficult.例文帳に追加
シリコンエッチングマスタを用いることによる微細パターン形状の自由度の高さを活かしつつ、インプリント等の方法で樹脂複製版を作製するのが困難な場合に、樹脂層にパターンを複製して金属モールドを形成するナノインプリント用モールドの製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a resist composition for negative development excellent in line width variation (LWR), exposure latitude (EL) and focal depth allowance (DOF) in order to stably form a high accuracy fine pattern for the manufacture of a highly integrated and high accuracy electronic device, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加
高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、線幅バラツキ(LWR)、露光ラチチュード(EL)及びフォーカス余裕度(DOF)に優れるネガ型現像用レジスト組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
On a glass, an abrasion-resistance resist pattern 40 is formed, the micro hole 42 is formed on the surface of a glass substrate exposed from an opening of the abrasion-resistant resist pattern 40, and rough faces 43 and 44 of a wall and a bottom of the micro hole on fine rough faces 46 and 47.例文帳に追加
ガラス上に、耐磨耗性レジストパターン40を形成し、サンドブラストによって、耐磨耗性レジストパターンの開口部から露出したガラス基板表面に微細孔42を形成し、湿式エッチングによって、微細孔の壁部及び底部の荒い粗面43、44を細かい粗面46、47に形成すること。 - 特許庁
To provide a manufacturing method for an optical element having a fine structure whose aspect ratio is high and whose etching shape is a rectangle by making a film to be etched on a lower layer have the same cycle as that of a resist pattern even in using the resist pattern whose cross section is corrugated in the cycle finer than the wavelength of the visible region.例文帳に追加
可視域の波長より微細な周期で、断面が波型をなすレジストパターンを用いても、下層の被エッチング膜に同じ周期をも持たせ、しかも、アスペクト比が高くてエッチング形状が矩形を成す微細構造を有する光学素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a method for producing a composite member in which a wiring pattern is formed on a base material of an insulator by which a fine three-dimensional pattern can be formed at a low cost without dissolving and peeling a photosensitive layer by a plating solution.例文帳に追加
絶縁体の基材に配線パターンが形成された複合部材の製造方法であって、感光層がめっき液に溶解して剥離することなく、微細な三次元配線パターンを低コストで形成可能な複合部材の製造方法を提供する方法を提供する。 - 特許庁
The manufacturing method comprises a step of forming finer irregularity 16 than the irregularity of the irregularity pattern on the surface 20a of the raw film by blasting processing, and a step of forming the irregularity pattern of the raw film having a fine irregularity formed by embossing.例文帳に追加
製造方法は、ブラスト加工によって、前記凹凸模様の凹凸よりも微小な凹凸16を前記原反の表面20aに形成する工程と、エンボス加工によって、微小な凹凸を形成された前記原反の前記表面に前記凹凸模様を形成する工程と、を備える。 - 特許庁
To provide a resist composition for negative-tone development, of which variation of line width (LWR), exposure latitude (EL), and degree of focal margin (DOF) are excellent, in order to more stably form a highly precise fine pattern for manufacturing a highly integrated and highly precise electronic device, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加
高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、線幅バラツキ(LWR)、露光ラチチュード(EL)及びフォーカス余裕度(DOF)に優れるネガ型現像用レジスト組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a silver powder, which is applicable to advanced fine-line pattern electronic components such as an internal electrode of a laminated ceramic capacitor, a conductor pattern of a circuit board, and electrodes and circuits of substrates of solar cells and plasma display panels, and is high in productivity and exhibits excellent performance as a photosensitive paste, to provide a method for producing the same, and to provide others.例文帳に追加
ファインライン化が進む積層セラミックコンデンサの内部電極、回路基板の導体パターン、太陽電池・プラズマディスプレイパネル用基板の電極、及び回路等の電子部品に適用でき、生産性、及び感光性ペーストとしての特性が高い銀粉、及びその製造方法等の提供。 - 特許庁
To provide an ITO transparent conductive pattern film and its manufacturing method equipped with fine patterns with both transparency and conductivity, as well as photosensitive coating liquid for transparent conductive film formation capable of manufacturing the ITO transparent conductive pattern film with ease and at low cost.例文帳に追加
本発明の目的は、透明性と導電性を兼ね備えた微細なパターンを有するITO透明導電パターン膜とその製造方法、及びそのITO透明導電パターン膜を低コストかつ簡便に製造できる透明導電膜形成用感光性塗布液を提供することにある。 - 特許庁
In the vehicular lighting tool 1, the light adjusting lighting control portion 7 changes the oscillation frequency of the supply current to the light source portion 2 and a current value, thereby adjusting a light emitting pattern of the light source portion 2 to be a fine light adjusting pattern at a border between a flicker light area and a fusion light area.例文帳に追加
この車両用灯具1では、調光点灯制御部7が光源部2への供給電流の発振周波数および電流値を変化させることにより、光源部2の発光パターンがフリッカー光領域と融合光領域との境界にある微調光パターンに調整される。 - 特許庁
In the method for forming the fine pattern using a composition for a photoresist coating, by coating the already formed photoresist pattern with the composition for the photoresist coating containing a water soluble polymer and an aqueous solvent, sizes of a photoresist contact hole and a space are effectively reduced.例文帳に追加
フォトレジストコーティング用組成物を用いた微細パターン形成方法において、水溶性重合体と水性溶媒を含むフォトレジストコーティング用組成物を既に形成されたフォトレジストパターン上にコーティングさせることにより、フォトレジストコンタクトホールや余白の大きさを効果的に低減する。 - 特許庁
The method for manufacturing the diffraction optical element comprises transferring a shape of a die 7 with a diffraction pattern to a resin material 8 and releasing the solidified resin material 8 without deformation of the fine shape of projecting and recessing parts constituting the diffraction pattern.例文帳に追加
回折パターンを有する型7の形状を樹脂8材料に転写することにより、回折光学素子を製造するための回折光学素子の製造方法であって、回折パターンを構成する凹凸の微細形状を変形させることなく、固化した樹脂材料8を離型させる。 - 特許庁
To provide a semiconductor device which suppresses deterioration of resolution and a depth of focus caused when forming a fine wiring pattern using optical lithography in a connection region between regions where wiring pitches are different, reduces possibilities of occurrence of disconnection and a short circuit of the wiring pattern, and attains high integration.例文帳に追加
配線ピッチが異なる領域間の接続領域における光リソグラフィを用いた微細な配線パターンを形成する時の解像度や焦点深度の悪化を抑制し、配線パターンの断線やショートが発生する可能性を低減し、高集積化が可能となる半導体装置を提供する。 - 特許庁
A correction similar to the correction of irradiated region with respect to the pattern matching processing from the usual secondary ion image or secondary electron image of the ion beam defect correcting device is performed and a defect region 3b which is extracted by the AFM and is subjected to fine adjustment by the conformation of the pattern for alignment is corrected by ion beams 8.例文帳に追加
イオンビーム欠陥修正装置の通常の二次イオン像もしくは二次電子像からのパターンマッチング加工に対する照射領域の補正と同様な補正を行い、AFMで抽出し、位置合わせ用のパターンの合わせ込みで微調整された欠陥領域3bをイオンビーム8で修正する。 - 特許庁
To provide a conductor-wiring substrate, that has improved adhesion properties to the insulation substrate of a wiring pattern and has an improved yield, even if a fine wiring pattern is formed, a transfer medium for transferring conductor wiring to the insulation substrate of the conductor wiring substrate, and a method for easily manufacturing them.例文帳に追加
配線パターンの絶縁基板への密着性が優れ、微細配線パターンを形成しても、歩留まりの良好な導体配線基板、当該導体配線基板の絶縁基板に導体配線を転写するための転写媒体、及びこれらを容易に製造する方法を提供する。 - 特許庁
To obtain a high density power module capable of using an existing printed board capable of forming an independently island-like wiring pattern while using a lead frame, by limiting to a place need to radiate and forming a fine wiring pattern at a place not so needed to radiate.例文帳に追加
放熱が必要な場所に限定してリードフレームを用いながら、独立した島状の配線パターンを形成することができ、しかも放熱をそれほど必要としない場所には、微細配線パターンを形成することができる既存のプリント基板を用いることのできる高密度なパワーモジュールを得る。 - 特許庁
The capacitor of such a non-contact type IC card can be manufactured by simultaneously forming a fine line capacitor pattern, the coil 13 and antenna coil connection terminals 141 and 142 on an antenna substrate 121A, covering the capacitor pattern with an insulating layer and further providing a conductive plate.例文帳に追加
このような非接触型ICカードのコンデンサは、アンテナ基板121Aに細線のコンデンサパターンとアンテナコイル13とアンテナコイル接続端子141,142を同時に形成し、コンデンサパターンを絶縁層で被覆し導電プレートをさらに設けることにより製造することができる。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of an embossing roll little in the effect of a joint and having a fine uneven pattern on its surface, and a manufacturing method of a transfer sheet excellent in productivity and economical efficiency using the embossing roll.例文帳に追加
継ぎ目の影響が少なく、かつ、表面に微細凹凸パターンを有するエンボスロールの製法、及び、このエンボスロールを使用した生産性、経済性に優れた転写シートの製法を提供する。 - 特許庁
To obtain an energy ray-sensitive resin composition which realizes a fine pattern excellent in developability, photosensitivity, adhesiveness, pencil hardness, and in resistance to acid, heat, and gold plating, and a cured material made of the same.例文帳に追加
現像性、光感度、密着性、鉛筆硬度、耐溶剤性、耐酸性、耐熱性、耐金メッキ性等に優れたファインパターンが得られるエネルギー線感応性樹脂組成物並びにその硬化物を提供すること。 - 特許庁
On the other hand, when the alcohol concentration exceeds the predetermined value, an increase amount (refer to fine dots) of the command fuel injection amount due to the increase of the alcohol concentration is shifted to the intake stroke injection (refer to the pattern C).例文帳に追加
一方、アルコール濃度が所定値を超える場合、アルコール濃度の増加による指令燃料噴射量の増大分(微細なドットを参照)が吸気行程噴射に移される(パターンCを参照)。 - 特許庁
To provide a method for forming a pattern in which random crystal grain boundary or defects are decreased so as to obtain a recording medium which uses fine particles and to obtain a method for manufacturing the recording medium.例文帳に追加
微粒子を用いた記録媒体および記録媒体の製造を第1の目的とした、ランダムな結晶粒界や、欠陥を低減させることが可能なパターンの形成方法を提供することである。 - 特許庁
To provide a fine pattern forming method which obviates the occurrence of the deterioration in dimensional accuracy by the influence of reflected light, etc., from a light shielding body surface in projection exposing using a phase shift mask having high phase angle controllability.例文帳に追加
位相角制御性の高い位相シフトマスクを用い投影露光時に遮光体面からの反射光等の影響による寸法精度劣化の生じない微細パターン形成方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a color filter for a reflection display by which a large screen, fine pixels, excellent smoothness and high latitude for pattern arrangement are obtained and the thickness of the color filter can be controlled.例文帳に追加
大画面であり、画素が細かく、平滑性に優れた、パターン配置の自由度が高く、カラーフィルタの厚さの制御が可能になる反射ディスプレイ用カラーフィルタを製造する方法を提供する。 - 特許庁
To provide a laser beam machining device and a machining method therefor for forming a nano structure having a predetermined ultra-fine pattern on a workpiece, and evaluating the machined shape of the nano structure in a short period of time.例文帳に追加
加工対象物に所定の超微細パターンを有するナノ構造物を作製し、ナノ構造物の加工形状の評価を短時間で行うレーザ加工装置及びレーザ加工方法を提供すること。 - 特許庁
The pattern has a different concentration in a first direction (x direction) and in a second direction (y direction) perpendicular to the first direction (x direction), and has a fine periodic structure having a period of the wavelength of light or less.例文帳に追加
前記パターンは、第1方向(x)における密度と第1方向(x)に直交する第2方向(y)における密度とが異なり、かつ、該光の波長以下の周期を持つ微細周期構造を有する。 - 特許庁
To provide a bonding method of bonding two base members together through a bonding film having a fine pattern formed at a low cost, and to provide a bonded body with the bonding film which is formed using the above bonding method.例文帳に追加
2つの基材同士を、低コストで微細な形状にパターニングされた接合膜で接合する接合方法、かかる接合方法で接合された接合膜を備える接合体を提供すること。 - 特許庁
To provide a wideband dual-polarization antenna with a slot pattern that can produce vertical polarized energy near the horizon and can scan at a high accuracy fine angle.例文帳に追加
本発明の目的は、水平に近い状態で垂直偏波エネルギーを生成することが可能で、ほぼ微少角での走査が可能なスロットパターンを有する広帯域二重偏波アンテナの提供である。 - 特許庁
To provide a coating liquid for forming a silica-based film not suffering troubles caused by gas evolution in a thermal treatment, having excellent shalf stability and exhibiting excellent planarity sufficient to cope with formation of a fine circuit pattern.例文帳に追加
熱処理時のガス発生に起因するトラブルのない、しかも保存安定性の良好な、微細配線パターンの形成に十分に対応できるシリカ系被膜形成用塗布液を提供する。 - 特許庁
To provide a positive-type photosensitive polyimide composition which enables processing of a fine pattern, can form a coating film having excellent heat resistance and a linear expansion coefficient proximal to that of a substrate, and does not need imidization at a high temperature.例文帳に追加
微細パターンの加工ができ、得られた被膜の耐熱性と基材との線膨張係数が近接し、かつ高温でのイミド化を必要としない、ポジ型感光性ポリイミド組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a drawing method capable of drawing a fine pattern with high precision on a resist layer, a method for manufacturing an original plate using the same, a method for manufacturing a stamper, and a method for manufacturing an information recording disk.例文帳に追加
微細なパターンをレジスト層に高精度で描画できる描画方法、これを用いた原盤の製造方法、スタンパの製造方法及び情報記録ディスクの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method of a child mold or an article having a fine pattern on the surface of a hardened resin which can improve the release and antifouling property of the surface of the hardened resin.例文帳に追加
微細パターンを硬化樹脂の表面に有する子モールドまたは物品の製造方法であって、硬化樹脂の表面の離型性や防汚性を向上できる製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide an apparatus, which can rapidly and continuously print a pattern of thick and extremely fine lines for printing and can provide inexpensively printed matters, in large quantity, and to provide a printing method and a printed matter.例文帳に追加
印刷用の極めて微細で線の厚いパターンを、高速かつ連続に印刷可能として、被印刷物を大量かつ安価に提供可能とする装置、印刷方法及び印刷物を提供する。 - 特許庁
That is, only by making the drop 31 land in the expanded recessed part 21 having large area, the groove 20 having narrow width can be filled with the liquid 32, so that a fine pattern is easily formed on the base material 2.例文帳に追加
つまり、面積の大きい拡大凹部21に液滴31を着弾させるだけで、幅が狭い溝20に液体32を充填できるため、基材2に微細なパターンを容易に形成することができる。 - 特許庁
To provide a resist antistatic film laminate, in which a charge-up phenomenon is avoided and changes in the sensitivity of a resist film after exposure are suppressed, and thereby, a fine pattern having dimensions as designed can be formed.例文帳に追加
チャージアップ現象を回避し、かつレジスト膜の露光後の感度変化を抑えることにより、設計通りの寸法を有する微細なパターン形成が可能なレジスト帯電防止膜積層体を提供する。 - 特許庁
To provide a photosensitive composition which has good dispersibility, enables uniform film formation even in the case of a thin film, and fulfills an adequate function as an insulating layer with a fine pattern.例文帳に追加
分散性が良好で、薄膜であっても均一な膜形成が可能であり、かつ、微細なパターンを有する絶縁層として十分な機能を発現する感光性組成物を提供すること - 特許庁
To obtain an electroconductive resin composition capable of patterning a fine shape and forming an electroconductive resin film having heat resistance, solvent resistance and mechanical strengths, and to provide a method for forming a pattern.例文帳に追加
微細な形状にパターニングすることができ、耐熱性、耐溶剤性、及び機械的強度を有する導電性樹脂膜を形成しうる導電性樹脂組成物及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method for a device, the device, and an electronic apparatus highly precisely forming a line width when forming a fine pattern on a substrate using a droplet delivery device.例文帳に追加
液滴吐出装置を用いて基板上に微細なパターンを形成する際、その線幅などを精度よく形成することができるようにした、デバイスの製造方法、さらにはデバイス、及び電子機器を提供する。 - 特許庁
In constitution like this, and an optional angle can be set by less key operation and a fine angle can be set with the key 85a, thereby a subtle rotation pattern can be expressed and sewn.例文帳に追加
このような構成では、任意の角度を少ないキー操作で設定することができ、また、キー85aにより微小角度を設定でき、微妙な回転模様を表現して縫製することができる。 - 特許庁
To provide a method with which the acidity of an organic antireflective film can easily be evaluated in development of a process of forming an organic antireflective film and forming a fine resist pattern using chemical amplification resist.例文帳に追加
有機反射防止膜を形成し、化学増幅レジストを使用した微細レジストパターン形成のプロセス開発において、簡便に有機反射防止膜の酸性度を評価することができる方法を提供する。 - 特許庁
Fine diamond abrasive grains are electrodeposited on the upper plane 14 of the pedestal 10, and an abrasive grain layer 18 is formed on the upper plane 14 in a predetermined pattern to obtain a dresser 20 for polishing pad.例文帳に追加
台座10の上平面14に微細なダイヤモンド砥粒を電着し、上平面14上に砥粒層18を所定パターンで形成し、本発明の研磨パッド用ドレッサー20が完成する。 - 特許庁
To suppress the generation of particles to be the cause of fine pattern formation defects and to improve the yield of a semiconductor device without lowering productivity when forming a high density plasma CVD film.例文帳に追加
高密度プラズマCVD膜を形成する際に、生産性を低下させることなく、微細パターン形成不良の原因となるパーティクルの発生を抑制し、半導体デバイスの歩留りを向上する。 - 特許庁
To provide a colored photosetting resin composition for color filter fabrication capable of stably producing a fine pattern without reducing strength of a photoset film even under a high illuminance condition such as digital exposure.例文帳に追加
デジタル露光のような高照度条件下でも、光硬化した膜の強度が低下することなく、微細パターンの安定製造が可能なカラーフィルタ作成用の光硬化性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a mask data generation method enabling shortening of mask drawing time and creation of high-quality mask with a fine pattern, and a mask manufacturing method using the mask data generation method.例文帳に追加
マスク描画時間を短縮して、微細パターンを有する高品質のマスクを作製することができるマスクデータ生成方法及びこのマスクデータ生成方法によるマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a fine pattern correcting device and a coating stylus for correction that facilitate history management of the coating stylus, and can prevent trouble due to abrasion beforehand and maintain the quality of coating correction.例文帳に追加
塗布針の塗布回数の履歴管理が容易で、摩耗による不具合を未然に防止でき、塗布修正の品質を維持することができる微細パターン修正装置および修正用塗布針を提供する。 - 特許庁
To provide a method for joining two substrates each other using a joining film patterned in a fine pattern at low cost, and a joined body including a joining film joined by the same.例文帳に追加
2つの基材同士を、低コストで微細な形状にパターニングされた接合膜で接合する接合方法、かかる接合方法で接合された接合膜を備える接合体を提供すること。 - 特許庁
To provide a thin-film pattern substrate with which the thin-film patterns of a fine wire shape can be stably formed with satisfactory accuracy, a method for manufacturing the device, and an electrooptical device, and an electronic device.例文帳に追加
細い線状の微細な薄膜パターンが精度良く安定して形成することができる薄膜パターン形成基板、デバイスの製造方法、及び電気光学装置、並びに電子機器を提供する。 - 特許庁
To provide a near-field exposing method with which the pattern of a fine opening formed on an exposure mask can be accurately and efficiently exposed, with proximity EB lithography, to 1:1 with respect to an object to be exposed.例文帳に追加
露光用マスク上に形成された微小開口のパターンを、被露光物に対して正確に効率よく、1:1に等倍露光することが可能となる近接場露光方法を提供する。 - 特許庁
To create art work data for an anisotropic reflecting medium in which discontinuity in anisotropic reflection is inconspicuous at a point of large curvature or a point where an inclination of a fine striation pattern varies drastically, and which is elaborately designed.例文帳に追加
曲率の大きい箇所や微細条溝パターンの傾きが極端に変化する箇所で異方性反射の不連続が目立たず、意匠性の高い異方性反射媒体の版下データを作成する。 - 特許庁
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