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l-processの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 314件
To provide a practical and industrial production process for 1-mthyl N-[N-[3-(2-hydroxy-substituted phenyl)propyl]-L-α-aspartyl]-L-phenylalanine that is important as a sweetener having excellent sweet taste of high degree of sweetness.例文帳に追加
優れた高甘味度甘味料として重要なN−[N−[3−(2−ヒドロキシ−置換フェニル)プロピル]−L−α−アスパルチル]−L−フェニルアラニン 1−メチルエステル誘導体の実用的かつ工業的な製造方法を提供する。 - 特許庁
Further, during the bending process, the optical axis type safety apparatus is invalidated, and hence such a situation that a work W obstructs the optical axis L to interrupt working does not occur.例文帳に追加
しかも、折曲工程中は光軸式安全装置が無効になるから、ワークWが光軸Lを遮って作業が中断されることがない。 - 特許庁
The reducing agent is preferred to be used in the state of water solution of concentration 0.005-0.5 mol/l, and the reducing process to be performed in the temperature condition of 40-70°C.例文帳に追加
また、前記還元剤は、濃度0.005〜0.5mol/lの水溶液の状態で用い、還元処理は40〜70℃の温度条件下に行なうのが好ましい。 - 特許庁
Consequently, the hole 4 having a large ratio of L/D of the workpiece 3 can be prepared by decreasing possibility on buckling of the punch 2 while coping with both productivity and processing quality in the process.例文帳に追加
以上により、生産性と加工品質とを両立させた上で、パンチ2の座屈の虞を低減してL/Dの大きな孔4を設けることができる。 - 特許庁
In the raw material dispersing process, raw material slurry is manufactured by dispersing a raw material in a polar solvent so that mol concentration of an iron element becomes 3 mol/L or less.例文帳に追加
原料分散工程においては、鉄元素のモル濃度が3mol/L以下となるように原料を極性溶媒に分散させて原料スラリーを作製する。 - 特許庁
As a result, an immersion descaling process step of immersing the metallic strip S into the immersion treating liquid maintained of the Fe^3+ ions in the immersion treating liquid at 5 g/L is performed.例文帳に追加
これにより、該浸漬処理液中のFe^3+イオンを5g/Lに維持した該浸漬処理液に金属帯材Sを浸漬させる浸漬脱スケール工程を行う。 - 特許庁
In the press process, the linear capacitor element is pressurized by an upper die and a lower die to manufacture an L-shaped film capacitor element 10 having a bent part.例文帳に追加
プレス工程では、直線状コンデンサ素子を上型及び下型により押圧して屈曲部を有するL字状のフィルムコンデンサ素子10を製造する。 - 特許庁
In this process, the coating liquid L is dropped while the nozzle 4 is being rotated around the center of the main shaft 3a to form a ring-shaped liquid bank.例文帳に追加
このとき、ノズル4を主軸3aの中心周りに低速で円運動させながら塗布液Lを滴下して、リング状の液溜りを形成する。 - 特許庁
In the polyester film for the release film of the polarizing plate, a film haze is 7 to 18%, and L value measured by a reflection process is ≤77.例文帳に追加
フィルムヘーズが7〜18%であり、反射法によって測定したL値が77以下であることを特徴とする偏光板離型フィルム用ポリエステルフィルム。 - 特許庁
To provide a method for producing a useful substance such as an L-amino acid by a fermentation process using Escherichia genus bacteria, capable of increasing production efficiency or production speed.例文帳に追加
エシェリヒア属細菌を用いて発酵法により、L−アミノ酸等の有用物質を生産するに際し、生産効率又は生産速度を向上させる。 - 特許庁
By blending a sugar alcohol and a sweetener having a high sweetness, dry syrup preparations having a relieved sourness of L-carbocysteine can be obtained by a more convenient production process.例文帳に追加
糖アルコールと高甘味度甘味剤を配合することで、より簡便な製造工程でL−カルボシステインの酸味を軽減させたドライシロップ剤を完成させた。 - 特許庁
To reconcile a process (gate-SAC) for forming the contact hole of a DRAM and a process (L-SAC) for forming the contact hole of a logic LSI in manufacture of a semiconductor integrated circuit device mounting a DRAM and a logic LSI mixedly.例文帳に追加
DRAMとロジックLSIとを混載した半導体集積回路装置の製造において、DRAMのコンタクトホール形成プロセス(ゲート−SAC)とロジックLSIのコンタクトホール形成プロセス(L−SAC)とを両立させる。 - 特許庁
Further, by irradiating the work W with laser beam L after the work W is preheated, a heat input process is eliminated or the time required for the heat input process is shortened, and the working time of the laser beam machining is shortened.例文帳に追加
また、ワークWをあらかじめ加熱してからレーザ光Lを照射することにより、入熱過程を省略、あるいは、入熱過程に要する時間を短縮し、レーザ加工時間の短縮を図ることができる。 - 特許庁
To make compatible the contact hole formation process (gate-SAC) of a DRAM and the contact hole formation process (L-SAC) of a logic LSI compatible in the manufacture of a semiconductor integrated circuit device having a DRAM and a logic LSI together.例文帳に追加
DRAMとロジックLSIとを混載した半導体集積回路装置の製造において、DRAMのコンタクトホール形成プロセス(ゲート−SAC)とロジックLSIのコンタクトホール形成プロセス(L−SAC)とを両立させる。 - 特許庁
The manufacturing method includes: a preparation process for disposing the stator core 30 with the stator coil 40 wound around it such that the axis line L of the stator core is directed horizontally; and an impregnation material application process for applying the impregnation material 64 from the inner peripheral side of the stator core 30 while the stator core 30 is made to rotate around the axis line L.例文帳に追加
本発明の製造方法は、ステータコイル40が巻装されたステータコア30をその軸線Lが水平方向を向くように配置する準備工程と、ステータコア30を軸線L回りに回転させながら、ステータコア30の内周側から含浸材64を塗布する含浸材塗布工程と、を行う。 - 特許庁
Also, this chip manufacturing method comprises a process for forming a grinding groove GM in the wafer W by the dicing blade 21, a process for forming a scribing groove in the wafer W by a scribing cutter 51, and a process for emitting a laser beam L to the wafer W to form the reformation area P inside.例文帳に追加
また、チップ製造方法は、ウエーハにダイシングブレード21で研削溝GMを入れる工程、又はスクライビングカッタ51でスクライビング溝を入れる工程と、ウエーハWにレーザー光Lを入射して内部に改質領域Pを形成する工程とを併合した構成とした。 - 特許庁
The method of manufacturing the polarizing film contains a wet stretching process of the film and a ratio (L/W) of a distance L between stretching in a bath to film width W just before stretching is below 0.5.例文帳に追加
本発明の偏光フィルムの製造方法は、フィルムの湿式延伸工程を含む偏光フィルムの製造方法であって、浴中での延伸間距離Lと延伸直前のフィルム幅Wの比(L/W)が0.5未満であることを特徴とする。 - 特許庁
An electric current is supplied between an electronic 43 and metallic strip S immersed into the aqueous electrolyte L through the aqueous electrolyte L while the polarity of the electrode 43 is inverted at prescribed periods, by which an electrolytic descaling process step is performed.例文帳に追加
該水系電解液Lに浸漬された電極43と金属帯材Sとの間に、電極43の極性を所定の周期で反転させつつ、水系電解液Lを介して電流を通電することにより、電解脱スケール工程を行う。 - 特許庁
Ultrapure water treated by an ultrapure water production device and fed to a semiconductor manufacturing process as washing water is dispensed and passed through a degassing membrane to be degassed to a dissolved nitrogen of ≤3 mg/L, and a dissolved oxygen of ≤50 μg/L.例文帳に追加
超純水製造装置で処理され半導体製造工程へ洗浄水として供給される超純水を分取し脱気膜を通過させて溶存窒素ガス量が3mg/L以下、溶存酸素ガス量が50μg/L以下になるまで脱気する。 - 特許庁
Since the surface of the coil 4 is roughened, the reflection of the laser beam L by the surface of the foil 4 can be suppressed, and thus the beam can be passed through the foil 4 through the irradiation of the beam L to process the via hole 5 in the resin layer 3.例文帳に追加
銅箔4は表面が粗面化されていてレーザ光Lが銅箔4の表面で反射されるのを低減することができ、レーザ光Lの照射で銅箔4を貫通して接着樹脂層3にバイアホール5を加工することができる。 - 特許庁
In the process for producing a coreless wiring board, a multilayer sheet body SS (multilayer wiring portion L) is formed on a reinforcement substrate 3 by well-known built-up method, and then the multilayer wiring portion L is stripped from the reinforcement substrate 3 thus facilitating production.例文帳に追加
本発明のコアレス基板の製造方法は、補強基板3上に積層シート体SS(配線積層部L)を周知のビルドアップ法によって形成し、その後、配線積層部Lを補強基板3から剥離することで製造を容易とするものである。 - 特許庁
A control unit 20 for controlling the pressurized bending side rotating holder 12 so as to suitably give the compressed stress and/or the bending stress according to the variation of L/D degree by sensing the L/D in the process of forming axial enlargement, is further provided.例文帳に追加
軸肥大成形過程におけるL/Dをセンシングして、L/Dの大きさの変化に応じて適度な圧縮応力および/または曲げ応力を付与するように加圧・曲げ側回転ホルダ12を制御する制御部20をさらに備えている。 - 特許庁
When a braking process is carried out to stop a symbol of symbol number "0" at a lower step position in a situation of (a) in Figure, if a slide amount accompanied by the braking process is d1, a rotary shell L stops as shown in Fig.(b) at a correct position.例文帳に追加
(a)の状態で、図柄番号「0」の図柄を下段位置に停止させるべくブレーキ処理を実行した場合、ブレーキ処理に伴う滑り量がd1であれば、(b)に示すように、回胴Lは正しい位置に停止する。 - 特許庁
According to this system (surface mounter Z3, solder printer Z2 and mounting line L), information (information about substrate inspection before printing) about inspection of a substrate P which has been executed before printing is utilized in a printing process and a mounting process.例文帳に追加
本発明(表面実装機Z3、半田印刷装置Z2、実装ラインL)によれば、印刷前に実施した基板Pの検査情報(印刷前基板検査情報)を印刷過程、実装過程において活用することとした。 - 特許庁
It is preferable that the sludge separated from the slurry after the denitrification process is supplied to the hydrogen fermentation so as to adjust the alkalinity to 7,000-9,000 mg CaCO_3/L.例文帳に追加
アルカリ度が7000〜9000mgCaCO_3/Lとなるように前記脱窒処理の工程を経たスラリーから分離したスラッジを前記水素発酵に供するとよい。 - 特許庁
The section 26 applies a process in accordance with a binaural hearing model to these digital sound signals r(n) and l(n), and estimates the direction of the sound source.例文帳に追加
音源方向推定部26は、これらのディジタル音響信号l(n)およびr(n)に対して両耳聴モデルに従う処理を施すことによって、音源の方向を推定する。 - 特許庁
A clock signal generator 40 advances the timing of clock signal by the time equivalent to a process delay in the special effect/synthesizer in the L-shape reduction mode.例文帳に追加
時計信号発生装置40は、L字型縮小モード時には特殊効果・合成装置における処理遅延量相当の時間だけ時計信号のタイミングをアドバンスさせる。 - 特許庁
The L-Ox film 203 has a stabilized film thickness and film characteristics because it has a ladder hydrogenated siloxane structure, and the film quality does not change during the fabrication process.例文帳に追加
L−Ox膜203は梯子型水素化シロキサン構造を有するため膜厚や膜特性が安定であり、製造プロセス中に膜質が変化することが少ない。 - 特許庁
In a first inspection process, a source signal capable of alternately switching positive polarity voltage Vs(H) and negative polarity voltage Vs(L) at each prescribed time is applied to each data line 4.例文帳に追加
第1検査工程では、各データ線4に、正極性の電圧Vs(H)と負極性の電圧Vs(L)が所定時間ごとに交互に切り替わるソース信号を印加する。 - 特許庁
At this time, a coating solution 22 which forms coating films 15 is sprayed over the surface O of the anodic oxide film 11 from the position which is apart from by a prescribed distance L (Spraying process).例文帳に追加
この際、塗料皮膜15を形成する塗料液22を所定距離Lだけ離間した位置から陽極酸化膜11の表面O上に噴射する(噴射工程)。 - 特許庁
The process for forming a thin film pattern comprises a step for forming a liquid repellent film F on a substrate P, and a step for placing a functional liquid L in a region A sectioned by the liquid repellent film F.例文帳に追加
基板P上に撥液性膜Fを形成する工程と、撥液性膜Fによって区画された領域Aに機能液Lを配置する工程とを有する。 - 特許庁
A group of heat plates P and P, which are arranged in upper and lower positions of a carrying path L of a twofold postcard X in the heating treatment process, is provided in the state of being vertically movable from a set position.例文帳に追加
加熱処理の工程で二つ折り葉書Xの搬送経路Lの上下に配置されるヒートプレートP、P群を設定位置から上下可動に設ける。 - 特許庁
(4) In addition, an amount of water injected to the semiconductor wafer during the grinding process is increased (4.7 L/Min.)例文帳に追加
(3)半導体ウエハを研削する2軸工程に於いて、研削ステップを3段階に分けて加工することを特徴とする上記項1に記載の半導体装置の製造方法。 - 特許庁
A plurality of combustion burners 50 and a plurality of process exhaust gas lead-in ports 60 are arranged at one end of a combustion cylinder body 2 concentrically around a center axis L.例文帳に追加
燃焼筒体2の一方端に、その中心軸線Lの同心円状に複数個の燃焼バーナ50と、複数個のプロセス排ガス導入ポート60を配置する。 - 特許庁
The sound pickup process obtains an observation signal from a sound source by using L microphones arranged at prescribed intervals around the sound source, for every necessary frequency.例文帳に追加
収音過程は、音源を中心に、所定の間隔を空けてL個配置されるマイクロホンを用いて当該音源からの観測信号を必要な周波数毎に得る。 - 特許庁
A jig 31 housed in jig storages 99 and 101 is set up by a jig handling robot 43 for the carriage 35 set in a jig setting process L.例文帳に追加
治具セット工程Lにある台車35に対しては、治具ストレージ99,101に収容されている治具37を、治具ハンドリングロボット43によりセットする。 - 特許庁
The method for suppressing scales includes a process of controlling the concentration of oxygen consumption in the feed water (pH 4.8) influencing the heat exchanging part to ≤100 mg/l.例文帳に追加
スケールの抑制方法は、伝熱部分に影響する給水中に含まれる酸消費量(pH4.8)の濃度を100mg/リットル以下に設定する工程を含んでいる。 - 特許庁
In this method for manufacturing the electrolyte capacitor etching foil which has a preliminary treatment process by acid and/or alkali, a washing process, and an etching process in an etching liquid containing chlorine ions, to an aluminum foil, ethylenediamineteraacetic acid of 0.001-0.010 mol/L or its salt is blended in a treatment liquid used in the preliminary process.例文帳に追加
アルミニウム箔に対して、酸または/およびアルカリによる前処理工程と、水洗工程と、塩素イオンを含むエッチング液中でのエッチング工程とを有する電解コンデンサ用エッチング箔の製造方法において、前記の前処理工程で使用する処理液に0.001〜0.010mol/Lのエチレンジアミン四酢酸またはその塩が配合されていることを特徴とする。 - 特許庁
The wafer W is diced through a first dicing process of making laser light L incident on a top surface side WA of the wafer W to form a reformed region P at the top surface side WA and a second dicing process of turning over the wafer W and making the laser light L at the reverse surface side WB to form a reformed region P at the reverse surface side WB.例文帳に追加
ウェーハWの表面側WAからレーザー光Lを入射して表面側WAへ改質領域Pを形成する第1ダイシング工程と、ウェーハWを反転させて裏面側WBよりレーザー光Lを入射し裏面側WBへ改質領域Pを形成する第2ダイシング工程とによりウェーハWのダイシングを行う。 - 特許庁
A decoding process for a bar code B is executed with the steps of detecting (decoding) a start character B1 and a stop character B2, setting reading lines L traversing the entire bar code B from these positions, and analyzing a light-dark level of each pixel P aligned along the reading lines L.例文帳に追加
バーコードBのデコード処理は、スタートキャラクタB1及びストップキャラクタB2を検出(デコード)し、それらの位置から、バーコードB全体を横切るような読取ラインLを設定し、その読取ラインLに沿って並ぶ各画素Pの明暗値を解析することにより行われる。 - 特許庁
The invention relates to crystalline S-(-)-9-fluoro-6, 7-dihydro-8-(4-hydroxypiperidin-1-yl)-5-methyl-1-oxo-1H, 5H-benzo[i, j]quinolizine-2-carboxylic acid L-arginine salt tetrahydrate, a production process therefor, and a pharmaceutical formulation containing the same as an active ingredient for use in treating infection with a microorganism.例文帳に追加
結晶性S-(-)-9-フルオロ-6,7-ジヒドロ-8-(4-ヒドロキシピペリジン-1-イル)-5-メチル-1-オキソ-1H,5H-ベンゾ〔i,j〕キノリジン-2-カルボン酸L-アルギニン塩四水和物、その調製方法及び微生物感染症を治療するのに使用するためのそれを活性成分として含む医薬製剤に関する。 - 特許庁
The pattern forming device 100 measures the elongation and contraction of a base material length (step 902) and measures the position of the previous process pattern (step 904) relating to the region where the elongation and contraction ratio ((L+ΔL)/L) of the base material length is not within a prescribed range (No of step 903).例文帳に追加
パターン形成装置100は、基材長の伸縮を測定し(ステップ902)、基材長の伸縮割合((L+ΔL)/L)が所定の範囲内にない領域に関しては(ステップ903のNo)、前工程パターンの位置測定を行う(ステップ904)。 - 特許庁
Under the condition provided with plural kinds of process linear velocity capable of dealing with various kinds of resolution changes, etc., a stoppage timing (DL-L 9 portion) of stopping a drum motor for an image carrier, etc., in accordance with the process linear velocity at the stoppage is changed with giving considerations to the actual deviation in accordance with the process linear velocity.例文帳に追加
各種の解像度変更等に対処し得るプロセス線速度を複数種類有する条件下に、その停止時のプロセス線速度に応じて像担持体等に対するドラムモータを停止させる停止タイミング(DL−L9分)をプロセス線速度に応じた実際のずれ分等を考慮して変更させる。 - 特許庁
The information processing unit 5 conveys the sample rack L, by controlling a specimen conveying unit 4 and performs a process to the specimen container T of the sample rack L during taking the specimen container T to the inside so that the first 2 and the second measuring unit 3 suck in the specimens therein.例文帳に追加
第1測定ユニット2又は第2測定ユニット3が検体を吸引するために検体容器Tを内部に取り込んでいる間に、情報処理ユニット5は検体搬送ユニット4を制御してサンプルラックLを搬送し、サンプルラックLの検体容器Tに対して処理を実行する。 - 特許庁
To provide a simple and efficient process for the industrial production of N-[N-[3-(3-methyl-4-hydroxyphenyl)-3-methylbutyl]-L-α-aspartyl]-L- phenylalanine 1-methyl ester useful as a sweetener having high sweetness and provide a new compound useful as a production intermediate such as an aldehyde derivative.例文帳に追加
高甘味度甘味料N−[N−[3−(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)−3−メチルブチル]−L−α−アスパルチル]−L−フェニルアラニン 1−メチルエステルの工業的高効率簡便な製造方法、およびアルデヒド誘導体等、製造中間体として有用な新規化合物も提供する。 - 特許庁
This method for producing a mixed vaccine including a process of cultivating a Vero cell to inoculate a Sabin strain of poliovirus in the presence of about 4 gram/L to about 6 gram/L microcarrier is useful as an efficient method for producing the mixed vaccine containing a Sabin strain of inactive poliovirus.例文帳に追加
本発明のセービン株ポリオウイルスを接種するVero細胞を、約4g/L〜約6g/Lのマイクロキャリアー存在下で培養する工程を含む混合ワクチンの製造方法は、不活化セービン株ポリオウイルスを含有する混合ワクチンの効率的な製造方法として有用である。 - 特許庁
The method for producing a mixed vaccine comprising a process of culturing Vero cells to be inoculated with a Sabin strain polio virus in the presence of about 4g/L-about 6g/L of microcarrier is useful as a method for efficiently producing an inactivated polio vaccine containing an inactivated Sabin strain polio virus.例文帳に追加
セービン株ポリオウイルスを接種するVero細胞を、約4g/L〜約6g/Lのマイクロキャリアー存在下で培養する工程を含む混合ワクチンの製造方法は、不活化セービン株ポリオウイルスを含有する不活化ポリオワクチンの効率的な製造方法として有用である。 - 特許庁
In a process step of spin coating of an organic planarization film 16, the upper limit value of the number of revolutions is specified to L×ω/2η<160, when the number of revolutions during drying and spinning right after coating is defined as ω, the opposite angle length of the substrate as L and the viscosity of the organic planarization film 16 as η.例文帳に追加
有機系平坦化膜16を回転コートする工程において、コーティング直後の乾燥スピン時の回転数ωを、基板の対角長をL、有機系平坦化膜16の粘性をηとした場合、回転数の上限値をL×ω/2η<160 にする。 - 特許庁
The manufacturing process of the polylactic acid stereo complex body comprises a step in which a polylactic acid stereo block copolymer containing an L-lactic segment and a D-lactic segment, a poly-L-lactic acid and a poly-D-lactic acid and a step in which the mixture obtained forms the stereo complex.例文帳に追加
L−乳酸セグメントとD−乳酸セグメントとを含むポリ乳酸ステレオブロック共重合体、ポリ−L−乳酸およびポリ−D−乳酸とを混合する工程と、得られた混合物がステレオコンプレックス形成する工程とを含む、ポリ乳酸ステレオコンプレックス体の製造方法である。 - 特許庁
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