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layer patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 8592件
An OP coating agent consisting of an acryl polyol main agent containing methyl (meth)acrylate, hydroxyethyl (meth)acrylate, octyl acrylate or cyclohexyl acrylate as a copolymer component and an isocyanate type curing agent is applied to the surface of a polyolefinic resin layer 1 provided with a pattern layer 5 to laminate a topcoating layer 2 to obtain a decorative sheet.例文帳に追加
メチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、オクチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレートを共重合成分として含むアクリルポリオール系主剤とイソシアネート系硬化剤とからなるOPコート剤を、絵柄層5の設けられたポリオレフィン系樹脂層1の表面に塗工して上塗り層2を積層して化粧シートを得た。 - 特許庁
The suspension substrate has: a metal support substrate 1 which has a concave portion; a ground layer 2 which is formed in a valley and is higher than the metal support substrate in conductivity; an insulating layer 3 formed on the metal support substrate and the ground layer; and a wiring pattern 4 formed on the insulating layer.例文帳に追加
本発明は、凹部を有する金属支持基板と、上記凹部に形成され、上記金属支持基板よりも導電率の高いグランド層と、上記金属支持基板上および上記グランド層上に形成された絶縁層と、上記絶縁層上に形成された配線パターンと、を有することを特徴とするサスペンション基板を提供することにより、上記課題を解決する。 - 特許庁
The functional element has a property change layer in which properties are changed by the action of a photocatalyst by irradiation with energy, a functional part formed along the pattern with the properties of the property change layer changed, and a gas-barrier layer formed to cover the property change layer and the functional part.例文帳に追加
上記目的を達成するために、本発明はエネルギー照射に伴う光触媒の作用により特性が変化する特性変化層と、前記特性変化層の特性が変化したパターンに沿って形成された機能性部と、前記特性変化層および前記機能性部を覆うように形成されたガスバリア層とを有することを特徴とする機能性素子を提供する。 - 特許庁
The semiconductor device comprises a semiconductor chip 30 mounted on a flexible printed wiring board 20 having a wiring pattern 21 formed by patterning a conductor layer 11 deposited at least on one side of an insulating layer 12 and mounting the semiconductor chip and provided with a release layer 13 on the side of the insulating layer 12 opposite to the side mounting the semiconductor chip.例文帳に追加
絶縁層12の少なくとも一方面に積層された導体層11をパターニングして形成されると共に半導体チップが実装される配線パターン21を有すると共に前記絶縁層12の半導体チップが実装される側とは反対側の面上に離型層13が設けられているフレキシブルプリント配線板20上に、半導体チップ30を実装した半導体装置である。 - 特許庁
The polarizing plate consists of: a substrate; a wettability variable layer formed on the substrate, with the surface wettability of the layer variable by the effect of a photocatalyst accompanying energy irradiation; and a polarizing layer which contains a planar dye and is formed along the wettability varied pattern produced by varying the wettability of the above wettability variable layer.例文帳に追加
上記目的を達成するために、本発明は、基材と、前記基材上に形成されたエネルギー照射に伴う光触媒の作用により表面の濡れ性が変化する濡れ性変化層と、前記濡れ性変化層の濡れ性が変化した濡れ性変化パターンに沿って形成され、かつ平板状色素を含有する偏光層とを有することを特徴とする偏光板を提供する。 - 特許庁
A planar heating element is formed of a transparent synthetic resin substrate 4, a coexistence layer of a transparent conductive layer 2 of metal nanopowder in random mesh pattern and a transparent flexible polymer urethane resin layer 3 formed on the surface of the synthetic resin substrate 4, and a pair of electrification electrodes 5 formed at the ends of the conductive layer 2.例文帳に追加
透明な合成樹脂基板4と、この合成樹脂基板4の表面に金属ナノ粉末をランダムな網目状パターンに形成された透明性を有する導電層2および透明で柔軟性を有する高分子ウレタン系樹脂層3を併存させた層と、上記導電層2の端部に形成された一対の通電電極5とにより面状発熱体を形成する。 - 特許庁
This production method includes processes of: plate-making first and second photosensitive layers 52a, 52b laminated on both sides of a laminated body 50 having a base material film 32, first and second electroconductive layers 40, 45 laminated on both sides of the base material film, and a light shielding layer laminated on the electroconductive layer; and thereafter etching the light shielding layer and the electroconductive layer to pattern them.例文帳に追加
製造方法は、基材フィルム32と、基材フィルムの両側に積層された第1および第2の導電層40,45と、導電層上に積層された遮光層と、を有する積層体50の両側に積層された第1および第2の感光層52a,52bを製版する工程と、その後、遮光層および導電層をエッチングしてパターニングする工程と、を含む。 - 特許庁
This manufacturing method for a microstructure array includes the processes of: forming an insulating layer 3 on a conductive portion 2 of a substrate 1, forming an opening 4 having a periodic repetitive array pattern on the insulating layer 3, and forming an electrodeposition layer 7 on the opening 4 and the insulating layer 3 through the opening 4 by the electrodeposition of the conductive portion 2 as a negative or positive electrode.例文帳に追加
マイクロ構造体アレイの作製方法は、基板1の導電性部2上に絶縁層3を形成する工程、絶縁層3に周期的な繰り返し配列パターンを有する開口部4を形成する工程、導電性部2を陰極ないし陽極として電着により開口部4を通じて開口部4及び絶縁層3上に電着層7を形成する工程を有する。 - 特許庁
The radio wave absorber comprises a laminate of a radio wave reflection layer 1, a first absorption layer 2 of plastic reinforced with silicon carbide fibers having electrical resistivity of 0.5-25 Ωcm, a radio wave selection layer 4 of conductor patch pattern, and a second absorption layer 3 of plastic reinforced with silicon carbide fibers having electrical resistivity of 500-2,000 Ωcm.例文帳に追加
電波を反射するための反射層1と、電気比抵抗が0.5〜25Ωcmの炭化珪素繊維で補強された繊維強化プラスチックからなる第1吸収層2と、導体パッチパターンからなる電波選択層4と、電気比抵抗が500〜2000Ωcmの炭化珪素繊維で補強された繊維強化プラスチックからなる第2吸収層3とを積層する。 - 特許庁
To form multiple layers by increasing the number of laminated layers to increase a capacity while an optical memory element production process (especially, a process for laminating a core layer and a clad layer) is made efficient and simple when the optical memory element is produced easily and inexpensively by forming the core layer and the clad layer from a resin and forming an uneven pattern easily.例文帳に追加
コア層及びクラッド層を樹脂製にし、上記の凹凸パターンを簡易に形成できるようにして、光メモリ素子を容易かつ安価に実現できるようにする場合に、光メモリ素子の製造工程(特に、コア層及びクラッド層を積層する工程)の効率化,簡略化を図りながら、大容量化を実現すべく積層数を増やして多層化できるようにする。 - 特許庁
To improve the reliability of products by forming a conductive layer correctly without increasing man-hours or raising cost of material and without giving damage to the conductive layer for forming a wiring pattern, in the manufacturing method of the substrate for printed circuit board wherein a conductive layer for solder connection is formed in the hole after forming holes for forming external connection terminals on an insulating layer.例文帳に追加
絶縁層に外部接続端子形成用のホールを形成してから、そのホール内に半田接続用の導電層を形成するプリント配線板用基材の製造方法において、工数を増やしたり材料費を高くしたりすることなく、配線パターン形成用の導体層にダメージを与えずに導電層を正確に形成して製品の信頼性を向上する。 - 特許庁
This sanitary ware is formed with a colorable first glaze layer on an earthenware body and a transparent second glaze layer thereon and is formed with at least one among the pattern, character and symbol parts by decoration glaze essentially consisting of pigments partially between the first glaze layer and the second glaze layer.例文帳に追加
陶器素地上に着色性の第一の釉薬層が形成されており、その上に透明性の第二の釉薬層が形成されている衛生陶器であって、前記第一の釉薬層と前記第二の釉薬層との間には、部分的に顔料を主成分とする装飾釉により模様部、文字部、記号部のうちの少なくとも1種が形成されていることを特徴とする衛生陶器。 - 特許庁
In this indoor unit of the air conditioner, having a suction panel 10 mounted on the front surface of an indoor unit body 1, the suction panel 10 is formed by two-colored molding of a translucent resin layer 11, at the front surface and an opaque resin layer 12 at the rear surface, and the translucent resin layer 11 has a prescribed pattern and is exposed to the opaque resin layer.例文帳に追加
室内ユニット本体1の前面に取り付けられる吸込パネル10を備えた空気調和機の室内ユニットにおいて、前記吸込パネル10を、表面が半透明樹脂層11で、裏面が不透明樹脂層12でなる2色成形で形成し、且つ前記半透明樹脂層11が、所定のパターンを構成して前記不透明樹脂層に露出するようにした。 - 特許庁
The manufacturing method for the solar cell has a process in which the power generation layer 102 is formed on the first surface of the polycrystalline semiconductor substrate 101, a pattern by a growth preventive film 103 is formed on the surface of the layer 102, and a texture structure is formed by selectively growing a semiconductor layer 105 on the surface of the layer 102 in an epitaxial manner by a liquid-phase growth method.例文帳に追加
多結晶半導体基板101の第一の表面に発電層102を形成し、該発電層102表面上に成長阻止膜103によるパターンを形成し、該発電層102表面上に液相成長法にて半導体層105を選択的にエピタキシャル成長することによりテクスチャ構造を形成する工程を有する太陽電池の製造方法。 - 特許庁
First microphotoetching (MPE) is carried out for a first metal layer formed on a transparent insulation substrate to form a ridge-shaped block having a gate electrode structure and first and second slanting surface sides, a first insulation layer is formed, and their surfaces are covered; and a pattern of a semiconductor layer is formed on the surface of the first insulation layer to obtain a channel area of a thin film transistor.例文帳に追加
透明絶縁基板に形成した第1金属層に対して第1マイクロフォトエッチング(MPE)を行ない、ゲート電極構造及び第1傾斜面側辺と第2傾斜面側辺を有する尾根状ブロックとを形成し、第1絶縁層を形成してこれらの表面を被覆し、該第1絶縁層の表面に半導体層のパターンを形成して薄膜トランジスタのチャネルエリアとする。 - 特許庁
In this lighting system 30, a positive electrode 303 constituted of a transparent electrode is patterned linearly, a luminous layer 311 and an alkaline earth metal layer 307 are laid all over the illumination area in top view, and a reflection electrode layer 308 and a photo-absorbing layer 309 are substantially conformed to the linear pattern of the positive electrode 303.例文帳に追加
照明装置30は、透明電極にて構成される陽極303を線状にパターニングして構成し、発光層311及びアルカリ土類金属層307を照明領域全域に跨って平面視ベタ状に構成するとともに、反射電極層308及び光吸収層309を陽極303の線状パターンに略一致させて構成した。 - 特許庁
In the tape carrier for a semiconductor device, a blind via 22a and a reinforcement copper layer 20 as a peelable layer are used as a conductor for supplying an electroplating current, a gold/nickel electroplated layer 24 is formed on the surface of at least one of a wiring pattern 12 and a connection pad 13 by electroplating, and the reinforcement copper layer 20 is peeled off after completion of the electroplating step.例文帳に追加
ブラインドビア22aとピーラブル層である補強銅層20とを、電解めっき用電流の給電導体として用いて、電解めっき法により、配線パターン12および接続パッド13のうち少なくともいずれかの表面上に電解金/ニッケルめっき層24を形成し、その電解めっき工程が終了した後、補強銅層20を引き剥がす。 - 特許庁
To suppress a formation of void inside a semiconductor device to be obtained and enhance its reliability even in the case where a misregistration occurs between a resist pattern for forming a damascene wiring layer and a wiring layer when, especially, the damascene wiring layer formed by using a damascene method is electrically connected to other wiring layers to form the semiconductor device having the wiring layer of a multilayer structure.例文帳に追加
特にダマシン法を用いて形成するダマシン配線層を他の配線層と電気的に接続して多層構造の配線層を有する半導体装置を形成するに際し、ダマシン配線層を形成するためのレジストパターンと前記配線層との位置ずれが生じた場合においても、得られる半導体装置内でのボイドの形成を抑制し、その信頼性を向上させる。 - 特許庁
The circuit board where a cable layer is tightly bonded on the surface of a substrate 16 can be obtained through the following steps of: coating the surface of the substrate 16 with a conductor layer 14; pattern-etching the conductor layer 14 and forming a number of projecting anchor patterns 15 on the surface of the substrate 16; and laminating the cable layer of the substrate 16 with the anchor patterns 15.例文帳に追加
基板16の表面に導体層14を被着形成する工程と、前記導体層14をパターンエッチングして、基板16の表面に多数の突起状にアンカーパターン15を形成する工程と、該アンカーパターン15が形成された基板16の配線層を積層する工程とにより、基板16に配線層が強固に接合された配線基板が得られる。 - 特許庁
The wiring circuit board 1 is obtained by preparing a support substrate 2 and a base insulating layer 3 respectively, bonding the reverse surface of the base insulating layer 3 having been subjected to activation processing to the support substrate 2 using laser light 9 after previously performing activation processing on the top surface of the base insulating layer 3, forming a conductor pattern 4 on the base insulating layer 3, and then removing the support substrate 2.例文帳に追加
支持基板2とベース絶縁層3とをそれぞれ用意し、ベース絶縁層3の表面を、予め活性化処理した後、活性化処理されたベース絶縁層3の下面を、レーザー光9を用いて支持基板2と接合し、ベース絶縁層3の上に導体パターン4を形成し、その後、支持基板2を除去することにより、配線回路基板1を得る。 - 特許庁
In the manufacturing method of an electroluminescent element in which a hole transport layer 4 and an electron transport luminous layer 5 are provided as a layer having a light-emitting region between a transparent picture element electrode 2 and a negative electrode 10, at least the electron transport luminous layer 5 is formed in a prescribed pattern by the transfer of its constituting material by the letterpress reverse-offset method.例文帳に追加
透明画素電極2と陰極10との間に、発光領域を有する層としてホール輸送層4及び電子輸送性発光層5が設けられた電界発光素子の製造方法において、少なくとも電子輸送性発光層5を、その構成材料の凸版反転オフセット法による転写で所定パターンに形成することを特徴とする、電界発光素子の製造方法。 - 特許庁
The method of forming a diffusion barrier used for manufacturing the semiconductor device includes a step for depositing an iridium-doped tantalum-based barrier layer on a pattern-formed intermediate dielectric (ILD) layer by a physical vapor deposition (PVD) process, and the barrier layer is deposited to form the barrier layer into amorphous structure as a result, at least 60% of an iridium concentration in terms of atomic weight.例文帳に追加
半導体デバイス製造に用いる拡散バリアを形成する方法は、物理蒸着(PVD)工程によって、パターン形成された中間誘電体(ILD)層の上に、イリジウム・ドープされたタンタル・ベースのバリア層を堆積するステップを含み、該バリア層は、原子量で少なくとも60%のイリジウム濃度で、バリア層が結果としてアモルファス構造を有するように堆積される。 - 特許庁
A magnetic field induced at the region by at least one of the first conductive pattern or the second conductive pattern is stronger than a magnetic field induced at an another region between a first conductive layer and a second conductive layer, by at least one of the first conductive pattern or the second conductive pattern.例文帳に追加
インダクタ装置は、基板の第一の層の上の第一の導電性パターンと、基板の第二の層の上の第二の導電性パターンと、少なくともひとつの穴が前記第一の層と第二の層の間で連結される領域と、を備え、第一の導電性パターンまたは第二の導電性パターンのうちの少なくともひとつによって上記領域において誘起される磁場が、第一の導電性パターンまたは第二の導電性パターンうちの少なくともひとつによって第一の導電層と第二の導電層の間の別の領域において誘起される磁場より強力である。 - 特許庁
To provide a photocrosslinkable resin composition hardly receiving influence of polymerization impediment due to oxygen even while a resin layer surface is uncovered after film-thinning an photocrosslinkable resin layer in a method of manufacturing a circuit board for forming the photocrosslinkable resin layer on a substrate putting a conductive layer on the surface, and performing exposure of a circuit pattern and development treatment after performing film-thinning treatment of the photocrosslinkable resin layer with aqueous alkali solution.例文帳に追加
表面に導電層が設けられている基板上に光架橋性樹脂層を形成し、アルカリ水溶液によって光架橋性樹脂層の薄膜化処理を行った後、回路パターンの露光、現像処理を行う回路基板の製造方法において、光架橋性樹脂層を薄膜化した後、樹脂層表面が剥き出しの状態でも酸素による重合阻害の影響をほとんど受けない光架橋性樹脂組成物を提供することである。 - 特許庁
When etching a monocrystalline silicon layer 101 through a photoresist layer 102 formed on the upper part of the monocrystalline silicon layer 101 and patterned in a prescribed pattern by processing gas plasma, a protection film forming process for forming a protection film 103 on a side wall part of the photoresist layer 102 by using gas containing carbon, e.g., CF gas plasma, is performed before starting a plasma etching process for etching the monocrystalline silicon layer 101.例文帳に追加
単結晶シリコン層101を、単結晶シリコン層101の上部に形成され所定のパターンにパターニングされたフォトレジスト層102を介して処理ガスのプラズマによりエッチングする際に、単結晶シリコン層101のエッチングを行うプラズマエッチング工程を開始する前に、カーボンを含んだガス例えばCF系ガスのプラズマを用いてフォトレジスト層102の側壁部に保護膜103を形成する保護膜形成工程を行う。 - 特許庁
A method for forming a resist pattern includes steps of: forming on a substrate 1 a resist layer 3 containing a polymer of α-chloromethacrylate and α-methylstyrene and not containing a fluorine atom; performing rendering or exposure of a predetermined pattern shape by irradiating the resist layer with an energy beam; and developing the rendered or exposed resist layer with a fluorocarbon-containing developer having a dissolution rate of an insoluble part of less than about 0.5 Å/h.例文帳に追加
基板1上に、α−クロロメタクリレートとα−メチルスチレンとの重合体を含みかつフッ素を含有しないレジスト層3を形成する工程と、前記レジスト層にエネルギービームを照射することにより、所定のパターン形状の描画又は露光を行う工程と、非溶解部の溶解速度が1時間あたり約0.5Å未満であるフルオロカーボンを含む現像剤によって、前記描画又は露光されたレジスト層を現像する現像工程と、を含む。 - 特許庁
The printed wiring board including a plurality of conductor layers comprises a first conductor layer formed with a meander wiring pattern 1 having at least one or more return meander patterns; and a second conductor layer 2 functioning as a ground conductor adjacent to the first conductor layer, formed with a first conductor omission portion 6, where no conductor exists, in a portion projecting a gap between conductors of the meander wiring pattern.例文帳に追加
複数の導体層を有するプリント配線板において、少なくとも一回以上の折り返し蛇行パターンを有するミアンダ配線パターン1が形成された第1の導体層と、第1の導体層に隣接するグラウンド導体として機能する第2の導体層であって、ミアンダ配線パターンの導体間の隙間を投影した部分に、導体が存在しない第1の導体欠落部分6が形成された第2の導体層2とを有する。 - 特許庁
The first mask layer 13 has a printing part having a printing part opening 4 formed so as to overlap approximately all over a printing pattern opening 2, and a non-printing part which is thinner in thickness than the printing part.例文帳に追加
第1のマスク層13は、印刷パターン開口2の略全面に重ねて形成された印刷部開口4を有する印刷部と、印刷部よりも厚さの薄い非印刷部とを有する。 - 特許庁
A background color of the same or approximate hue as the hue mostly used in a color pattern exhibited in the full color printed layer 14 is colored on the design surface 12.例文帳に追加
フルカラー印刷層14に発現させようとする色柄模様において最も多く使用される色相と同一又は近似の色相の下地色を,意匠面12に着色する。 - 特許庁
As a result, a protected pattern free from defect can be formed by transferring the transfer layer 70 on an acceptor plate by using the donor film 80.例文帳に追加
結果的に、ドナーフィルム80を用いてアクセプタ基板上に転写層70を転写させて有機膜パターンを形成することにおいて不良パターンがない養護なパターンを形成することができる。 - 特許庁
In the pattern coating method, a conductive primer is coated in the shape of a patter on a resin base material 8, and then a base coat layer 6, which covers the whole resin base material, is formed on the prime coated surface.例文帳に追加
本発明の模様塗装方法では、樹脂基材8上に導電プライマーを図柄の形状に塗布し、この上に樹脂基材全体を被覆するベースコート層6を形成する。 - 特許庁
For example, the pattern layer PT is respectively applied to a visible portion 12a around a lock part 22 on the middle frame 12 and to first and third visible portions 14a_1 and 14a_3 on the front frame 14 as shown in a figure 2.例文帳に追加
例えば、図2の中枠12では施錠部22周辺の視認部位12aに、前枠14では第1,第3視認部位14a_1,14a_3に夫々模様層PTを施す。 - 特許庁
The metal pattern 54a-n has a secured part and a free part 60a-n bent outward formed on the surface of the substrate 40 by removing a part of a passivation/release layer 48.例文帳に追加
メタルパターン54a〜nは、パッシベーション/リリース層48の一部を除去することで、基板40の表面に固定された固定部と基板面に外に曲がったフリー部60a〜nが形成される。 - 特許庁
A reflection layer 6 including a plurality of reflection pieces 11 for reflecting visible light in a light transmissive holding material 10 is applied to the surface of a base material 2 of a natural stone type pattern.例文帳に追加
天然石調模様の基材2の表面に、透光性を有する保持材10中に可視光を反射する複数の反射片11を含有した反射層6を塗布する。 - 特許庁
To provide a flexible circuit board for a liquid crystal display device, the board having a light absorbing layer that prevents the light emitted from a light source from being introduced into a conductive pattern and a passive element.例文帳に追加
光源から発生された光が導電パターン及び受動素子に伝達されないように光吸収層を有する液晶表示装置用フレキシブル回路基板を提供する。 - 特許庁
The wiring pattern drawn from the electrode pad 31 and lead 22 of the chip 30 is electrically connected to a pad 44P which is arranged at the other side of the laminated wiring layer 40.例文帳に追加
チップ30の電極パッド31とリード部22からひき出された配線パターンは、積層配線層40の他面側に設けられるパッド部44Pと電気的に繋がっている。 - 特許庁
This conveying belt 23 includes a belt body 50 for mounting and conveying the medium, and a functional layer 10 provided in a mounting face side of the belt body 50 and having an irregular pattern 70.例文帳に追加
媒体を載置するとともに搬送するベルト本体50と、ベルト本体50の載置面側に設けられ、凹凸パターン70を有する機能層10とを備えた搬送ベルト23である。 - 特許庁
To provide a lithography processing method for providing a desired pattern to the target section of the layer of radiation photosensitive materials by using a plurality of exposures and a device manufactured by the method.例文帳に追加
複数の露光を使用して放射線感光材料の層の目標部分に望ましいパターンを提供するリソグラフィ処理方法およびそれにより製造したデバイスを提供する。 - 特許庁
To make it possible to generate a good differential push pull signal DPP even in two-layer optical recording medium without need of change in light receiving pattern of a photodetector and to carry out tracking control normally.例文帳に追加
光検出器の受光パターンの変更などを要せず、2層光記録媒体でも良好な差動プッシュプル信号DPPを生成でき、正常にトラッキング制御できるようにする - 特許庁
To provide a method for simultaneously achieving both pattern-forming of a color conversion layer in high definition and improvement in external extraction efficiency of blue-green light of a blue-green light-emitting element.例文帳に追加
色変換層を高精細にパターン形成することと、青緑色発光素子の青緑色光の外部取り出し効率の改善を同時に解決する方法を提供する。 - 特許庁
To enable formation of fine conductor circuit pattern by forming a filled-via where the via is perfectly filled with metal without increase in the thickness of conductor layer at the surface of laminaed plate.例文帳に追加
積層板表面の導体層を厚くすることなくビア内が完全にめっき金属によって穴埋めされたフィルドビアを形成し、ファインな導体回路パターン形成を可能にすること。 - 特許庁
Here, a pattern of sensitized resin is formed in advance on a reading electrode 24 of the reading substrate 20, and the reading substrate 20 is directly laminated to the conversion layer 13.例文帳に追加
すなわち、読み出し基板20の読み出し電極24上に感光性樹脂のパターンを予め形成しておき、この読み出し基板20と変換層13とを直接に貼り合わせてある。 - 特許庁
A surface protective resin film 6 is formed on the upper side of the film 5, and a mat colored ink layer 7 is formed on the surface of the film 6 to form a grain pattern.例文帳に追加
艶消フィルム5の上側に表面保護樹脂被膜6を形成し、表面保護樹脂被膜6の表面に艶消着色インキ層7を設けて木目柄を形成する。 - 特許庁
An interlayer dielectric 207 is etched with a resist pattern 208 as a mask, and then an insulation film 206 for preventing Cu diffusion is etched to form a concave portion 220 to expose a lower-layer interconnection 205.例文帳に追加
レジストパターン208をマスクとして、層間絶縁膜207をエッチングし、さらにCu拡散防止用絶縁膜206をエッチングして凹部220を形成し、下層配線205を露出する。 - 特許庁
By using the intermediate transfer body having a pattern consisting of lyophilic and lyophobic sections on the surface thereof, the reactive liquid is uniformly applied to the intermediate transfer body to form a layer having a suitable thickness.例文帳に追加
親液部と撥液部とからなるパターンを表面に有する中間転写体を用いることで、反応液が適切な膜厚かつ均一に中間転写体に付与されるようにする。 - 特許庁
HYDROPHOBIC POLYMER, LAMINATED FORM WITH ELECTRICALLY CONDUCTIVE FILM USING THE SAME, METHOD FOR PRODUCING ELECTRICALLY CONDUCTIVE PATTERN, PRINTED WIRING BOARD UTILIZING THE LAMINATED FORM, THIN-LAYER TRANSISTOR, AND DEVICE EQUIPPED WITH THEM例文帳に追加
疎水性ポリマー、それを用いた導電性膜を有する積層体、導電性パターンの製造方法、該積層体を利用したプリント配線基板、薄層トランジスタ及びこれらを備えてなる装置 - 特許庁
To provide a mask data generating method for easily confirming whether an optical proximity effect correction pattern is automatically generated or not in the prescribed part of an arbitrary layer.例文帳に追加
任意のレイヤーの所定の箇所において、光学近接効果補正パターンが自動発生されたか否かを簡単に確認することができるマスクデータ作成方法等を提供する。 - 特許庁
Thereafter, the unwanted oxidation of the polysilicon film 11 is suppressed by means of the impurity-element containing layer 18 at the growing and forming of the element isolation oxide film by forming the pattern of a silicon nitride film 12.例文帳に追加
この後、窒化シリコン膜12パターンを形成して、熱処理による素子分離酸化膜の成長形成時に、高濃度不純物元素含有層18によって不要な酸化を抑制する。 - 特許庁
A thin film pattern 40 is formed in only one layer on a substrate 21 and irradiated with laser light 50 to form a heat conduction preventing film 41 having irregularities 41a and 41b.例文帳に追加
薄い膜パターン40を一層だけ基板21上に形成し、この膜パターン40にレーザ光50を照射し凹凸41a,41bのある熱伝導防止膜41を形成する。 - 特許庁
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