「layer- thickness」に関連した英語例文の一覧と使い方(255ページ目) - Weblio英語例文検索

In this SOI semiconductor integrated circuit, semiconductor residue layers which exist between transistor active regions 155b and a body- contact active region 155a and are smaller in thickness than those of the active regions 155b and 155a are arranged on the embedded insulating layer of an SOI substrate and covered with the element separating layers of partial trenches.例文帳に追加

トランジスタ活性領域１５５ｂ及びボディコンタクト活性領域１５５ａの間に存在するトランジスタの活性領域及びボディコンタクトの活性領域より薄い半導体残余物層がＳＯＩ基板の埋め込み絶縁層の上に配置され、しかも半導体残余物層は部分トレンチの素子分離層によって覆われる。 - 特許庁

In the developing device having a pressing member 570 in which the layer thickness regulating member 560 having an abutting member 560a and a biasing member 560b is pressed against the developer carrying roller 510, both ends of the pressing member 570 in an axial direction of the developer carrying roller 510 are disposed further outside than both ends of the abutting member 560a.例文帳に追加

当接部材５６０ａと付勢部材５６０ｂとを有する層厚規制部材５６０を現像剤担持ローラ５１０側に押圧する押圧部材５７０とを備えた現像装置において、現像剤担持ローラ５１０の軸方向における押圧部材５７０の両端を、当接部材５６０ａの両端より外側に位置させる。 - 特許庁

A dyestuff recording layer, the thickness of which is 50-160 nm and on which information can be recorded by incorporating an organic dyestuff selected to have 0.045-0.075 fading coefficient k when irradiated with the laser beam having recording laser wavelength, is formed on a transparent substrate where a pre-groove of 150-200 nm depth is formed.例文帳に追加

溝深さが１５０〜２００ｎｍのプレグルーブが形成された透明基板上に、厚さが５０〜１６０ｎｍであり、且つ記録レーザ波長での消衰係数ｋが０．０４５〜０．０７５となるように選択された有機色素を含有することにより情報の記録が可能な色素記録層を形成する。 - 特許庁

An organic EL display device 1 includes a first electrode 14, organic layers 16R(16G, 16B) including at least an organic electroluminescent layer, and a second electrode 17 having a thickness smaller than that of the organic layers 16R(16G, 16B), in order from the side of a drive side substrate 10 having a light extraction surface.例文帳に追加

有機ＥＬ表示装置１は、光取り出し面を有する駆動側基板１０の側から順に、第１電極１４と、少なくとも有機電界発光層を含む有機層１６Ｒ（１６Ｇ，１６Ｂ）と、有機層１６Ｒ（１６Ｇ，１６Ｂ）よりも小さな膜厚を有する第２電極１７とを備える。 - 特許庁

A sidewall 26 formed on a sidewall of a gate electrode 27 is different in thickness in a horizontal direction (along an upper surface of a semiconductor layer 2) between a drain side and a source side differently from a side wall 8 of a CMOS transistor 1, and a sidewall 26B on the drain side is thicker than a sidewall 26A on the source side.例文帳に追加

ゲート電極２７の側壁に形成されるサイドウォール２６は、ＣＭＯＳトランジスタ１のサイドウォール８とは異なり、ドレイン側とソース側とで、水平方向（半導体層２の表面に沿った方向）の厚さが異なっており、ドレイン側のサイドウォール２６Ｂは、ソース側のサイドウォール２６Ａよりも厚い。 - 特許庁

To provide a retardation film which has excellent durability even when used with a large size of 15 inches or more, has excellent adhesion proper ties to a transparent resin substrate and to a layer formed thereon, of which the retardation value in the film plane is smaller than that in the film thickness direction and further of which the optical characteristics are uniform on a wide area.例文帳に追加

１５インチ以上の大型サイズで使用した場合にも耐久性に優れ、また透明樹脂基板とその上に形成された層との間の密着性に優れた、フィルム面内のレターデーション値がフィルム厚み方向のレターデーション値よりも小さく、かつ広い面積で光学特性が均一な位相差フィルムを提供する。 - 特許庁

The coating layer 2 is a silicon-containing film including a plasma polymer of an organosilicon compound formed on the inner surface of the container 1 by a plasma CVD from a starting raw material containing the organosilicon compound, and has a thickness of 50-700 Å and an atomic ratio of silicon to oxygen of 1/1.5-1/2.3.例文帳に追加

被覆層２は、有機珪素化合物を含む出発原料からプラズマＣＶＤにより容器１の内表面上に形成された有機珪素化合物のプラズマ重合体を含む珪素含有被膜であり、５０〜７００オングストロームの厚さを備え珪素と酸素との原子比が１／１．５〜１／２．３である。 - 特許庁

A second wiring section 37 along the inclined inner-surface 45 ranges at an obtuse angle to a direction B1, where the first wiring section 36 along one surface 36 of the semiconductor substrate 31 is extended in the wiring layer 33, and a direction B3 where a third wiring section 38 is extended along the thickness direction T of the semiconductor substrate 31.例文帳に追加

この傾斜する内周面４５に沿う第２配線部３７は、配線層３３のうち半導体基板３１の一表面３６に沿う第１配線部３６の延びる方向Ｂ１、半導体基板３１の厚み方向Ｔに沿って第３配線部３８の延びる方向Ｂ３に対して鈍角に連なる。 - 特許庁

The phosphor layer 4 has a structure in which a plurality of phosphor coated layers 5a, 5b,... having different light emitting colors are laminated and formed by corresponding to a plurality of radiation rays, and a plurality of these phosphor coated layers 5a, 5b,... have thickness corresponding to absorption coefficients of each radiation ray to be detected, respectively.例文帳に追加

蛍光体層４は複数の放射線に対応させて、発光色が異なる複数の蛍光体塗布層５ａ、５ｂ…を積層形成した構造を有し、かつこれら複数の蛍光体塗布層５ａ、５ｂ…はそれぞれ検出対象となる各放射線の吸収係数に応じた厚さを有する。 - 特許庁

The two-layer structure cloth spring material is constituted by connecting knitted fabrics of front and back two layers with 100% of multifilament yarn and has thickness of finish cloth of 2.0-5.0 mm, breaking tenacity in the warp direction and in the weft direction of the knitted fabrics of ≥600 N and tearing strength of ≥150 N.例文帳に追加

表裏二層の編地をマルチフィラメント糸１００％にて連結して構成され、仕上生地の厚みが２．０〜５．０ｍｍの二層構造布バネ材であり、該編地のタテ方向及びヨコ方向の破断強力が６００Ｎ以上であり、かつ、引裂き強力が１５０Ｎ以上であることを特徴とする二層構造布バネ材。 - 特許庁

To obtain a color filter which allows a biaxial optical anisotropic layer to be obtained, independently of the addition and the type of a chiral compound and a dichroic initiator, without large changes of conventional color filter manufacturing step and develops in-plane retardation (Re) and thickness direction retardation (Rth) most suitable for display pixels of each color and has superior optical compensation.例文帳に追加

従来のカラーフィルタの製造工程を大きく変える事無く、キラル化合物の添加量、種類、２色性開始剤に依存せずに２軸性の光学異方性層が得られ、各色の表示画素に最適な面内位相差（Ｒｅ）、厚み方向位相差（Ｒｔｈ）を発現させ優れた光学補償を有するカラーフィルタを得る事。 - 特許庁

Further, as there is provided a plurality of holes 13 penetrating in the direction of thickness of the heat dissipating fin 12, a heat transfer coefficient increasing effect (a tip efficacy) in edges of cut and raised pieces 14 and growth of a thermal boundary layer caused by a turbulent flow of a cooling air when the cooling air passes through each of the holes 13 can be restrained.例文帳に追加

また、放熱フィン１２には、放熱フィン１２の板厚方向に貫通する複数個の穴１３が設けられいるので、切り起こし片１４の角部（エッジ）での熱伝達率増大効果（先端効果）や各穴１３を通過する際に冷却風流れを乱して温度境界層が成長してしまうことを抑制できる。 - 特許庁

In the plate-like developer regulation member 45 which regulates thickness of a developer layer on a developer carrier 43, it has a free end 45b which is located on the upstream side in the rotating direction of the developer carrier from a contact part 45a brought into contact with the developer carrier 43 and which does not come into contact with the developer carrier 43.例文帳に追加

現像剤担持体４３上の現像剤層厚を規制する板状の現像剤規制部材４５において、現像剤担持体４３と当接した当接部４５ａよりも現像剤担持体の回転方向上流側に位置して、現像剤担持体４３に当接していない自由端部４５ｂを備えている。 - 特許庁

By setting the thickness of the mask layer 15 thinner than the implanted depth of the impurity, a high dose region 12 is formed in a region, not covered by the mask, of the upper part of the SiC substrate 11, while low-dose regions 13 are formed in regions, covered by the mask, of the upper part of the SiC substrate 11.例文帳に追加

マスク層１５の厚さを不純物注入深さよりも浅く設定しておくことにより、ＳｉＣ基板１１の上部のうちマスクにより覆われていない部分には多量ドーズ領域１２を形成し、ＳｉＣ基板１１の上部のうちマスクにより覆われている部分には低量ドーズ領域１３を形成する。 - 特許庁

After that, the circuit board material having a concave part 10 such as a slit or a hole satisfying the relation of c/d≤2.5 in which the c is a width or a diameter and d is a thickness is manufactured by providing a milling-machining to at least a part of the metal layer 3, then providing an etching machining, and then removing an etching resist 6.例文帳に追加

その後、金属層３の少なくとも一部にミリング加工を施し、次いでエッチング加工を施し、その後にエッチングレジスト６を除去することによって、幅または径ｃが金属層の厚さｄに対して、 ｃ／ｄ≦２．５の関係を満たすスリットや孔などの凹状部１０を有する回路基板材料を製造する。 - 特許庁

A metal conductor 13 and a sheet of non-magnetic material 14 are interlaminated between a flat-form magnetic member 11 on which a recess 11a is formed and a flat-form magnetic member 12, thereby composing an inductor which has a non-magnetic layer formed between those two magnetic members 11 and 12 by a thickness of the non-magnetic material sheet 14.例文帳に追加

凹部を１１ａ形成した平板状磁性部材１１と平板状磁性部材１２との間に、金属導体１３と非磁性材料シート１４を挟み、２つの平板状磁性部材１１，１２間に非磁性材料シート１４の厚みよって非磁性層を形成したインダクタを構成する。 - 特許庁

A gate oxide film 107 of the lateral high-dielectric-strength MOSFET100 of a 1st conductivity type is formed to such a thickness that an electric field value to the maximum operating voltage between the source and drain is ≤4 MV/cm and a drain diffusion layer 114 is so formed that its impurity total amount is ≥2×10^12/cm^2.例文帳に追加

第１導電型の横型高耐圧ＭＯＳＦＥＴ100のゲート酸化膜107の膜厚を、ソース・ドレイン間の最大動作電圧に対する電界値が４ＭＶ／ｃｍ以下となる厚さに形成し、前記ドレイン拡散層114をその不純物総量が２×１０^12／ｃｍ^2以上となるよう形成する - 特許庁

In a method for burning a ceramic formed body 10 having a cylindrical shape or the like by placing it on a sagger 12, the sagger is covered with an underlay powder 14 having the same quality as that of the ceramic formed body to a thickness of 3 mm or more, preferably 10 mm or more, and the ceramic formed body is placed on the underlay-powder layer for burning.例文帳に追加

円筒形状などのセラミック成形体１０を、匣鉢１２上に載置して焼成する方法において、匣鉢に前記セラミック成形体と同材質の下敷き粉１４を３ｍｍ以上、より好ましくは１０ｍｍ以上の厚さで敷き詰め、その下敷き粉の層上にセラミック成形体を載置して焼成する。 - 特許庁

In this configuration, the thickness of the resin layer is set to be ≥40 μm, When a limit peeling temperature obtained by performing a predetermined peeling test is defined as Tr(°C) and the temperature of the fixing roller when fixing processing is executed is defined as Tc (°C), Tr≥Tc+60 or Tr≥Tc+75 is satisfied.例文帳に追加

この構成において、樹脂層の厚みを４０μｍ以上にし、所定のピーリング試験を行うことによって得られる限界剥離温度をＴｒ（℃）、定着処理が実行される時の上記定着ローラの温度をＴｃ（℃）とする場合、Ｔｒ≧Ｔｃ＋６０またはＴｒ≧Ｔｃ＋７５が満たされる。 - 特許庁

By this since the rotational speed of the embossing roller 13 can be controlled with high precision so as not to cause a slip between the embossing roller 13 and the sheet W, the emboss transfer shape of the sheet W caused by the embossing roller 13 can be uniformized even in the case that the thickness of a resin layer caused by a coating solution F is varied.例文帳に追加

これにより、エンボスローラ１３とシートＷとの間でスリップが生じないようにエンボスローラ１３の回転速度を高精度に制御可能なので、塗布液Ｆによる樹脂層の膜厚が変動した場合であっても、シートＷのエンボスローラ１３による凹凸の転写形状を均一にできる。 - 特許庁

A metal fixing material is beforehand vapor-deposited on the surface 13a of a quartz resonator 13 provided at a film thickness monitor 12, thereafter, alkali metal is vapor-deposited on an organic compound layer in a stacked body S1 as a example of the object to be vapor-deposited and on the surface 13a of the quartz resonator 13 with the metal fixing material vapor-deposited.例文帳に追加

膜厚モニター１２が備える水晶振動子１３の表面１３ａに金属固定材を予め蒸着させておき、その後で被蒸着対象の一例である積層体Ｓ１の有機化合物層と、金属固定材が蒸着された水晶振動子１３の表面１３ａにアルカリ金属を蒸着する。 - 特許庁

To raise the contrast of an EUV light absorbing pattern without increasing the thickness of an EUV light absorbing layer which is formed on an EUV light reflecting multilayered film and into which the pattern is engraved in a reflection type mask for EUV exposure used for pattern transfer at manufacturing of a semiconductor, etc.例文帳に追加

半導体製造等におけるパターン転写の際に使用されるＥＵＶ露光用反射型マスクにおいて、ＥＵＶ光を反射する多層膜上に成膜されＥＵＶ光を吸収するパターンの刻まれるＥＵＶ光吸収体層において、吸収体層の膜厚を厚くすることなく、パターンのコントラストを上げる。 - 特許庁

This daylighting heat insulating material has a structure constituted by a plurality of basic material films opposing to each other across a gas layer having thickness of 100 μm-3 mm and has the basic material configuration capable of collecting the incident light from the outdoor side on the ceiling surface irrespective of angle of the incident light effectively.例文帳に追加

複数の基材フィルムが、厚さが１００μｍ〜３ｍｍのガス層を挟んで各々対向した構造を有する採光断熱材であって、室外からの入射光の角度にかかわらず、該入射光を天井面に効果的に集光することが可能な基材構成を有する採光断熱材。 - 特許庁

When the ND filter is manufactured by depositing at least ≥2 kinds of films on a plastic substrate, the films other than the outermost film are deposited by using dot patterns for forming a gradation density distribution and on the other hand, the film of the extreme surface layer is deposited to a specified film thickness without using a mask.例文帳に追加

プラスチック基板上に少なくとも２種類以上の膜を成膜してＮＤフィルタを製造するに際し、最表層以外の膜をグラデーション濃度分布を形成するための網点状のパターンを有するマスクを用いて成膜する一方、最表層の膜をマスクを用いずに一定膜厚に成膜する。 - 特許庁

In sputtering a silicon target by using, as a reactive gas, a gas containing oxygen and nitrogen in a vacuum system in which reduced pressure atmosphere can be regulated, the amounts of oxygen and nitrogen to be introduced into the vacuum system during deposition are altered to deposit a single-layer film having refractive index distribution due to changes in composition in a thickness direction.例文帳に追加

減圧した雰囲気が調整できる真空装置内でシリコンターゲットを反応性ガスとしての酸素と窒素を含むガスでスパッタリングするに際し、被覆中に真空装置内に導入する酸素と窒素の量を変更し、厚み方向に組成変化により生じる屈折率分布を有する単層膜を被膜する。 - 特許庁

Island-like projecting parts containing ≥80 wt.% Sn are formed on the surface by covering the surface of copper or copper alloy by a layer of 0.1-2 μm thickness containing Sn of ≥80 wt.%, and performing the melting for 1-300 seconds at the temperature of 230-800°C.例文帳に追加

銅または銅合金の表面を、厚さ０．１乃至２μｍの８０重量％以上のＳｎを含有する層で被覆した後に、２３０乃至８００℃の温度で１乃至３００秒間溶融処理を行うことによって表面に８０重量％以上のＳｎを含有する島状凸部を形成する。 - 特許庁

To provide a high quality photosensitive resin composition which does not deteriorate the preservability of a photosensitive resin film for transfer even when a decolorable dye which is decolored by heat or light is added to assure uniformity of the coating thickness of a photosensitive resin layer formed on a substrate for a liquid crystal display.例文帳に追加

液晶表示装置用基板上に形成される感光性樹脂層の塗布膜厚の均一性を保証するために熱又は光により消色する消色性染料を添加しても、転写用感光性樹脂フィルムの保存性が低下することのない高品質な感光性樹脂組成物の提供。 - 特許庁

In a demultiplexer 1 formed with a ladder type filter 110 and a multiplexing mode coupling filter 120 on the same substrate 10, IDTs 111, 112, 121, 122 of the ladder type filter 110 and the multiplexing mode coupling filter 120 are formed to have the same layer structure and the same film thickness.例文帳に追加

同一の基板１０上にラダー型フィルタ１１０と多重モード結合型フィルタ１２０とが形成された分波器１において、ラダー型フィルタ１１０と多重モード結合型フィルタ１２０とのＩＤＴ１１１，１１２，１２１，１２２を同一の層構造で且つ同一の膜厚を有するように形成する。 - 特許庁

To provide an apparatus for liquid phase growth equipped with a mechanism stirring a raw material solution in a cooling process, by which the temperature of the raw material solution is homogenized and the difference of the film thickness of the epitaxial layer grown on a substrate, even on a substrate with a large area, between its periphery and center is minimized.例文帳に追加

冷却過程において原料溶液を撹拌する機構を備えることによって原料溶液の温度を均質化し、これにより、大面積の基板上でも、その上に成長されるエピタキシャル層の膜厚が周辺と中央とで差が生じないようにした液相成長装置を提供することにある。 - 特許庁

This friction material contains a substrate comprising a fibrous material and a binder of an organic and inorganic composite material impregnated into the substrate, and the ratio of an organic component and an inorganic component in the surface layer is controlled to increase the ratio of the inorganic component toward the surface in the direction of the thickness of the friction material.例文帳に追加

繊維質材料からなる基材と、この基材に含浸された有機無機複合材のバインダを含む摩擦材料において、その表層部における前記有機無機複合材の有機成分と無機成分の比を、この摩擦材料の厚み方向において表面に向かって無機成分の比率を高くする。 - 特許庁

To provide a developing device capable of suppressing variation of an amount of developer to be conveyed to a development area while suppressing the occurrence of aggregated toner on the back surface of a developer layer thickness-controlling member without providing a complicated mechanism, and to provide an image forming apparatus with the same.例文帳に追加

本発明の目的は、複雑な機構を設けることなく、現像剤層厚規制部材の裏側における凝集トナーの発生を抑制しながら、現像領域に搬送される現像剤の量が変動してしまうことを抑制可能とする現像装置及びそれを備えた画像形成装置を提供することである。 - 特許庁

To provide a composite board having a plurality of layers and a manufacturing method for the composite board which eliminate a sharp film thickness change at the end of a dielectric layer that may cause a crack on an electrode, etc., on a board to trigger the breakage of a wiring electrode, and to provide an EL element panel using the composite board.例文帳に追加

基板上の電極等にクラックを発生し、これに伴い配線電極の断線を引き起こす可能性のある、誘電体層の端部の急峻な膜厚変化を解消した、複数層を有する複合基板とその製造方法、および複合基板を用いたＥＬ素子パネルを提供する。 - 特許庁

An embodiment of this semiconductor device manufacturing method includes a process wherein the reaction product deposited on the conducting layer to extend in the vertical direction is bent so that the thickness of the reaction product is thinner relative to the direction of the acceleration of the active species excited by plasma discharge.例文帳に追加

本発明の半導体装置の製造方法の一は、反応生成物の厚さが、プラズマ放電によって励起された活性種が加速される方向に対して薄くなるように、導電層の上に垂直方向に延びるように付着した反応生成物を倒す工程を有することを特徴としている。 - 特許庁

The normal polyimide sheet cannot be attracted to the electrostatic attraction type wafer holder because the sheet is an insulator but the sheet can be used by an existing semiconductor manufacturing process by laminating and thermally contact-bonding two kinds of the polyimide sheet and the aramid fiber layer up to the thickness of a conventional wafer by using the polyimide sheet given the conductivity.例文帳に追加

通常のポリイミドシートは絶縁体であるため、静電吸着型ウエハー保持装置に吸着できないが、本発明では導電性を持たせたポリイミドシートを使用し、上記二種の層を従来のウエハー厚さにまで積層熱圧着することで、既存の半導体製造プロセスで使用できるようにする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a flash memory device which can solve problems in small process margin and mass production margin in the existing process, while completely stripping a fence of dielectric layer in a gate formation process in which a thickness of a second conductive film used as a floating gate is over 1500 Å.例文帳に追加

フローティングゲートとして用いられる第２導電膜の厚さを１５００Å以上に適用するゲート形成工程で誘電体膜のフェンスを完全除去しながら、既存工程の工程時間及び量産性マージンが足りないという問題点を解決することが可能なフラッシュメモリ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma treatment method capable of preventing the depletion of a wiring layer by removing a mask, while maintaining even thickness of an underlying film by preventing the generation of reaction active species of fluorine caused by a by-product due to etching when removing the mask, and reducing subsequent underlying film overetching time.例文帳に追加

マスクを除去する時にエッチングによる副生成物に起因するフッ素の反応活性種の生成を防止して下地膜の膜厚を均一に保ちながらマスクを除去して、その後の下地膜のオーバーエッチングの時間を少なくして配線層の減少を抑制することができるプラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁

The display device comprises a liquid crystal display panel 100 constituted by sandwiching a liquid crystal layer between at least two or more flexible substrates and a structure 500 having a gap G enabling the liquid crystal display panel 100 to be sandwiched in a curved state, the gap G being larger than the thickness 100T of the liquid crystal panel 100.例文帳に追加

少なくとも２枚以上のフレキシブル基板間に液晶層を保持して構成された液晶表示パネル１００と、液晶表示パネル１００を湾曲した状態で挟持可能なギャップＧを有する構造体５００と、を備え、ギャップＧは、液晶表示パネル１００の厚み１００Ｔより大きいことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a carrier having a coating layer of uniform thickness, which is improved in terms of toner electrification, stability against aging, and also, good adhesion with a core material, to provide developer using the carrier, to provide an image forming method, a process cartridge and an image forming apparatus using the developer.例文帳に追加

被覆層を有するキャリアであって、トナー帯電性及び経時安定性が良好であると共に芯材との密着性が良く、かつ、均一な厚みの被覆層を有するキャリア及び該キャリアを用いた現像剤並びに該現像剤を用いた画像形成方法、プロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for producing a functional device having a functional layer with a thickness difference between the center part and the end parts in a certain range in which any adverse effect such as color tone unevenness is caused, and to provide an apparatus for producing such a functional device.例文帳に追加

本発明は、形成された機能層の中心部および端部の厚みの差が、色調ムラ等の不都合を発生させない程度の差の範囲内にある機能層を有する機能性素子の製造方法およびそのような機能性素子の製造に用いる装置を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁

The rigidity of the mouth/ neck part 2 of this multi layer thin wall container 1 is set higher than the of the body part 4 by increasing the delivery of the high rigid resin for the part corresponding the mouth/neck part 2 more than that of the low rigid resin by a parison thickness control system in parison delivery forming.例文帳に追加

この多層薄肉容器（１）は、パリソンの押出し成形の際、パリソン肉厚コントロールシステムによって口頚部（２）に相当する部分に対する高剛性樹脂の押出し量が低剛性樹脂の押出し量よりも増量されることにより、口頚部（２）の剛性が胴部（４）の剛性よりも高く設定されている。 - 特許庁

When a light beam with wavelength of λ1 from a blue-violet laser LD1 enters an objective lens OBJ, it passes through a first optical path difference giving structure at a central area and a second optical path difference giving structure at a surrounding area to correct spherical aberration to record and/or reproduce information on an HD with protective layer thickness of t1.例文帳に追加

青紫色レーザＬＤ１からの波長λ１の光束が対物レンズＯＢＪに入射したときに、中央領域の第１光路差付与構造と周辺領域の第２光路差付与構造を通過する事で球面収差は補正され、保護層厚さｔ１のＨＤに対して情報の記録、再生を行える。 - 特許庁

Thus, the high strength hot rolled steel sheet is obtained having a crystal grain size gradient structure in which the volume fraction of polygonal ferrite as the main phase is ≥70%, the volume fraction of a secondary phase other than that is ≥5%, and the average crystal grain size of the polygonal ferrite gradually decreases from the center of the sheet thickness toward the surface layer.例文帳に追加

これにより、主相であるポリゴナルフェライトの体積分率が70％以上、それ以外の第二相が５％以上となり、さらに、板厚中心から表層に向かい、ポリゴナルフェライトの平均結晶粒径が漸次小さくなる結晶粒径傾斜組織を有する高強度熱延鋼板となる。 - 特許庁

To provide a metal complex compound having excellent absorption characteristics and high fastness, a colored curable composition containing the metal complex compound and having excellent storage stability, a color filter using the colored curable composition, having excellent absorption characteristics and fastness, and capable of reducing layer thickness, and its manufacturing method.例文帳に追加

吸収特性に優れ、且つ高い堅牢性を有する金属錯体化合物、該金属錯体化合物を含有する保存安定性に優れた着色硬化性組成物、該着色硬化性組成物を用いた、吸収特性及び堅牢性に優れると共に薄層化が可能である、カラーフィルタ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The anisotropic conductive film 10 is equipped with a porous membrane 12, made of polymers having many hole parts penetrating in the film thickness direction and arranged in a honeycomb shape, with the inner wall surface of each hole part bent onto an outside direction, and an electroless plating layer 14 formed on the inner wall surface of each hole part.例文帳に追加

膜厚方向に貫通した多数の孔部を有し、孔部はハニカム状に配列されるとともに孔部の内壁面は外側方向に湾曲されている、高分子よりなる多孔質膜１２と、孔部の内壁面に形成された無電解めっき層１４とを備えた異方性導電膜１０とする。 - 特許庁

To provide a method of easily manufacturing an organic EL device while forming a light emitting layer having a uniform film thickness and a large area and improving the life characteristics of the device to be obtained, and to provide the organic EL device obtained by the method, a lighting apparatus using the organic EL device, and a planar light source.例文帳に追加

均一な膜厚の大面積な発光層を形成することができ、製造が容易で、得られる素子の寿命特性を良好なものとすることのできる有機ＥＬ素子の製造方法、該製造方法により得られた有機ＥＬ素子、該有機ＥＬ素子を用いた照明装置、及び面状光源を提供する。 - 特許庁