「layer- thickness」に関連した英語例文の一覧と使い方(252ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method of producing an electrode for a polymer lithium secondary battery, allowing an anchor film having a stable film thickness and adhering weight to be formed by uniformly applying an anchor application liquid having superior aging stability in forming the anchor film on a collector consisting of a two-dimensional substrate and further forming an electrode layer and allowing the electrode layer to be uniformly and firmly formed on the collector with the anchor film.例文帳に追加

二次元基板からなる集電体にアンカー膜を形成し、さらに電極層を形成するに際し、経時安定性に優れたアンカー用塗料液を均一に塗布して膜厚および被着重量が安定したアンカー膜を形成することができ、このアンカー膜付き集電体に前記電極層を均一かつ強固に形成することが可能なポリマーリチウム二次電池用電極の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the membrane/electrode assembly, a pair of electrode catalyst layers is made of a composite catalyst particle, having a polyelectrolyte, a catalytic material, and an electron conductive substance, and the content ratio of the polyelectrolyte in the composite catalyst particle is larger on the side in contact with the solid polymer electrolyte membrane, as compared with the side in contact with the gas diffusion layer in a thickness direction of the electrode catalyst layer.例文帳に追加

一対の電極触媒層は、高分子電解質と触媒物質と電子伝導性物質を有する複合触媒粒子からなり、電極触媒層の厚み方向において、ガス拡散層に接する側と比べて、固体高分子電解質膜に接する側において、複合触媒粒子中の高分子電解質の含有割合が多いことを特徴とする膜電極接合体。 - 特許庁

This organic electroluminescent element has an luminescent layer between a back electrode and a transparent electrode, and has: a ceramic sheet having thermal emissivity of not less than 0.8 and a thickness of 50-1,000 μm, a graphite sheet having heat conductivity of not less than 200 W/mK, or the graphite sheet and the ceramic sheet adjacent to it on the back electrode surface opposite to the luminescent layer.例文帳に追加

背面電極及び透明電極からなる電極間に発光層を有する有機電界発光素子であって、背面電極の発光層とは反対側の面に、熱放射率が０．８以上で、かつ厚さが５０μｍ〜１０００μｍのセラミックシート或いは熱伝導率が２００Ｗ／ｍ・Ｋ以上のグラファイトシート、または上記グラファイトシートとこれに隣接した上記セラミックシートを有する有機電界発光素子。 - 特許庁

In this electroluminescent element, a luminescent layer is held between a pair of electrodes, and the luminescent layer is divided into at least three layers in its thickness direction.例文帳に追加

一対の電極間に少なくとも発光層を挟持してなる有機電界発光素子であって、前記発光層が厚み方向に少なくとも３層に分割され、陽極に近い発光層Ａの厚み（ａ）、陰極に近い発光層Ｃの厚み（ｃ）、および発光層Ａと発光層Ｂの間の発光層Ｂの厚み（ｂ）としたとき、一つの態様は、ａ＜ｂ＜ｃであって、該分割された発光層間に電子ブロック材料を含有する中間層を有する。 - 特許庁

In this hard coat film having a hard coat layer on a transparent film base material, the film thickness of the hard coat layer is 8-40 μm, and the transparent film base contains cellulose ester resin generated by esterification reaction between polybasic acid or its anhydride and polyhydric alcohol, or ring-opening polymerization of L-lactide and D-lactide in the presence of cellulose ester.例文帳に追加

透明フィルム基材上にハードコート層を有するハードコートフィルムにおいて、該ハードコート層の膜厚が、８μｍ以上、４０μｍ以下であって、かつ該透明フィルム基材が、セルロースエステルの存在下、多塩基酸またはその無水物と多価アルコールとのエステル化反応、またはＬ−ラクチド、Ｄ−ラクチドの開環重合などを行わせることにより生成したセルロースエステル樹脂を含有することを特徴とするハードコートフィルム。 - 特許庁

The film thickness t1 of a first free magnetic layer 53 of a free magnetic layer 26 having a synthetic ferrimagnetic structure is set larger than a spin diffusion length, whereby the magnetic detector can be reduced in electric resistance while conduction electrons move through the magnetic detector as their spin kept identical.例文帳に追加

人工フェリ構造のフリー磁性層２６の第１フリー磁性層５３の膜厚ｔ１及をスピン拡散長（Ｓｐｉｎ ｄｉｆｆｕｓｉｏｎ ｌｅｎｇｔｈ）より大きくすることにより、磁気検出素子内を伝導電子のスピンが同一性を保って移動している間の電気抵抗を低減させることができ、これによって、磁気検出素子の最小抵抗値と最大抵抗値の差、すなわち、磁気抵抗変化を大きくすることができる。 - 特許庁

In a plate making apparatus 35 for thermally applying plate making to a master 12 using the thermal head 30 equipped with a plurality of heating elements 7 arranged in a main scanning direction and the glaze layer 3, an energy adjusting means 28 for adjusting the perforation energy supplied to the individual heating elements 7 of the thermal head 30 to predetermined energy corresponding to the thickness of the glaze layer 3 of the thermal head is provided.例文帳に追加

主走査方向に配列された複数の発熱体７およびグレーズ層３を備えたサーマルヘッド３０を用いて、マスタ１２に感熱的に製版を行う製版装置３５であって、サーマルヘッド３０毎のグレーズ層３の厚さに応じて、サーマルヘッド３０の個々の発熱体７に供給する穿孔用エネルギーを所定のエネルギーに調整するエネルギー調整手段２８を有することを特徴とする。 - 特許庁

The method for manufacturing a semiconductor device comprises processes for forming a resist pattern on a base layer; smoothing, at least the wall surfaces of the resist pattern by applying a resist pattern smoothing material to the surface of the resist pattern and by controlling at least either one of coating thickness and heating temperature, including heating and development; and patterning the base layer by etching, using the smoothed resist pattern.例文帳に追加

下地層上にレジストパターンを形成する工程と、レジストパターンの表面にレジストパターン平滑化材料を塗布した後、加熱し、現像することを含み、塗布の厚み及び加熱の温度の少なくともいずれかを調整することにより、レジストパターンにおける少なくとも壁面を平滑化させる工程と、平滑化されたレジストパターンを用いてエッチングにより下地層をパターニングする工程とを含む半導体装置の製造方法。 - 特許庁

This acoustic matching layer 14 matches an acoustic impedance between the object under test and a piezoelectric material layer 10 forming a piezoelectric vibrator for transmitting and receiving an ultrasonic wave in the ultrasonic transducer, and is formed by performing film forming by using a plurality of materials having acoustic impedances different from one another, and changing the ratios of mixing of the plurality of materials according to the thickness of deposited films.例文帳に追加

超音波トランスデューサにおいて、超音波を送受信する振動子を形成する圧電体層１０と被検体との間において音響インピーダンスを整合させる音響整合層１４であって、互いに音響インピーダンスの異なる複数の材料を用い、該複数の材料の混合割合を堆積された膜の厚さに応じて変化させながら成膜を行うことにより形成されている。 - 特許庁

In the laminate obtained by forming and laminating at least a metal thin film layer on a film base material, the layer is made of metal or its alloy of indium or indium alloy and has a thickness of 10 to 30 nm, and the base material is a polyester film having a unit of 3 mol% or more except a polyethylene terephthalate having an ethylene terephthalate unit of 85 mol% or more.例文帳に追加

フイルム基材に、少なくとも金属薄膜層を形成・積層した積層体であって、金属薄膜層がインジウム又はインジウム系合金である金属または合金からなる厚さ１０〜３０ｎｍの金属薄膜層であり、フイルム基材がエチレンテレフタレート単位が８５ｍｏｌ％以上でエチレンテレフタレート以外の単位が３ｍｏｌ％以上であるポリエステル系フイルムである成形用金属薄膜積層体。 - 特許庁

The average particle diameter of the light diffusing particles 5 is 4 to 15μm, the average film thickness of the antiglare layer 3 is 8 to 40μm and the surface haze of a side, where the antiglare layer 3 is provided, is in the range of 3 to 20%.例文帳に追加

透明プラスチックフィルム基材２上に、少なくとも１種の透光性樹脂と少なくとも１種の光拡散性粒子５を含有する防眩層３を有する光学フィルム１であって、該光拡散性粒子５の平均粒子径が４〜１５μｍであり、該防眩層３の平均膜厚が８〜４０μｍであり、且つ防眩層３の設けられた側の表面ヘイズが３〜２０％であることを特徴とする防眩フィルム１。 - 特許庁

One or a plurality of field effect transistors are layered in the thickness direction of a multi-layer film for a basic unit planarly juxtaposing and arranging one or the plurality of the field effect transistors forming a gate electrode, a source electrode and a drain electrode on the surface of the semiconductor multi-layer film, and the gate electrode, the source electrode and the drain electrode of each field effect transistor are connected respectively.例文帳に追加

半導体多層膜表面にゲート電極、ソース電極およびドレイン電極が形成されてなる電界効果トランジスタの１個または複数個が平面的に並列配置された基本ユニットに対して、前記多層膜の厚さ方向に１個または複数個の電界効果トランジスタが積層され、かつ、各電界効果トランジスタの前記ゲート電極、ソース電極、およびドレイン電極同士がそれぞれ接続された構造。 - 特許庁

To provide a semiconductor device that is constituted by forming a completely depleted MISFET transistor using an SOI layer and can set a threshold to a specified value while the sensitivity threshold to the fluctuation of the film thickness of the SOI layer is roughly maintained at the minimum value even when the impurity concentration in the channel region of a MISFET fluctuates by changing the back gate voltage depending on the impurity concentration.例文帳に追加

ＳＯＩ層を用いた完全空乏化ＭＩＳＦＥＴトランジスタを形成してなる半導体装置において、ＭＩＦＳＥＴのチャネル不純物濃度に依存して、バックゲート電圧を変化させることによって、不純物濃度が変動しても、ＳＯＩ膜厚バラツキに対するしきい値感度をほぼ極小に保ったままで、しきい値を規定する値にできるようにする半導体装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

In the lusterless film made by laminating at least a resin layer of a resin on a surface of a base film of a polymer resin, the resin is made to contain a filling material in advance, and the average diameter y of the filling material and the thickness x of the resin layer satisfy the equation of y=ax (wherein 1.0<a≤1.5).例文帳に追加

高分子樹脂よりなる基材フィルムの表面に、少なくとも樹脂による樹脂層を積層してなるフィルムにおいて、樹脂を積層する際に、予め充填材を樹脂に含有させてなる構成を有してなるが、さらに充填材の平均粒径ｙと前記樹脂層の厚さｘとの関係が、ｙ＝ａｘ（但し１．０＜ａ≦１．５である。）、を満たすものである構成を有してなる艶消しフィルムとした。 - 特許庁

To provide a metallized substrate that enhances light-emission efficiency while efficiently discharging light, emitted from a semiconductor light-emitting element, to the outside; maintains a thickness of a solder layer when the semiconductor light-emitting element is bonded; improves bonding strength of a semiconductor device while improving adhesion between the solder layer and an electrode of the metallized substrate; and minimizes resistance between a device terminal and a substrate electrode.例文帳に追加

半導体発光素子から放射される光を効率的に外部に放出して発光効率を高めることができ、半導体発光素子の接合時にはんだ層の厚みを維持することができ、はんだ層とメタライズ基板の電極との密着性を向上させ、半導体素子の接合強度を向上させることができ、素子端子−基板電極間の抵抗を小さく抑えることができる、メタライズ基板を提供する。 - 特許庁

To lay a surface layer sheet of uniform quality at an uniform thickness without generating a danger of breakdown and cavity on a flat surface thereof and without using a vinyl sheet for curing at the time of rain by laying the predetermined thickness of the bentonite mixture soil obtained by evenly mixing the bentonite and the sediment, compacting the top surface into flat, and forming the surface with an impervious sheet.例文帳に追加

本発明はベントナイトと土砂とが均一に混合されたベントナイト混合土を所定の厚さに敷設し、上面が平坦になるように締め固め、その表面に遮水シートを形成することにより、均一な品質でかつ均一な厚さで、降雨時の養生対策としてビニールシートが不用で、表層シートの敷設が平坦面上で空隙や破損する危険性のない状態で行なうことができる最終処分場等の底盤部の遮水層の敷設方法を得るにある。 - 特許庁

The thickness of the heat-insulating layer is ≥9 mm, and the lamination density in the direction of its thickness is ≥2.5 sheets/mm but ≤4.5 sheets/mm.例文帳に追加

冷媒を流す内管と、片面若しくは両面に金属蒸着層を備える高分子フィルムとメッシュサイズが５〜３０番の有機材料からなるネットレースを重ね合わせた断熱テープを該内管の外側に螺旋状に巻き付けて積層構造とした断熱層と、該断熱層の外側に設けられる外管とで構成される超電導ケーブル用断熱管において、前記断熱層の厚みが９ｍｍ以上、且つ厚み方向の層密度が２．５枚／ｍｍ以上４．５枚／ｍｍ以下であることを特徴とする超電導ケーブル用断熱管。 - 特許庁

To provide a developing device in which a developer thin layer having uniform thickness is carried on the surface of a developer carrier by preventing a curve such as the waviness of a blade, and also provide a process cartridge equipped with the developing device and an image forming apparatus equipped with the developing device or the process cartridge.例文帳に追加

ブレードのうねりなどの湾曲を防止して、現像剤担持体の表面に均一な厚みを有する現像剤の薄層を担持させることができる現像装置、この現像装置を備えるプロセスカートリッジ、および、そのような現像装置またはプロセスカートリッジを備える画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

The cemented carbide roll having the sleeve shape outer layer 191 made of cemented carbide can be used as the work roll 19 in the rolling mills, which produces the rolling material 8 having an exit side thickness of 10 mm or less, among finishing rolling mills 18, while the lubricant is supplied between the work roll 19 and the rolling material 8.例文帳に追加

仕上圧延機１８中、被圧延材８の出側板厚が１０ｍｍ以下になる圧延機以降に、超硬合金製スリーブ外層１９１を有する超硬合金ロールをワークロール１９に用い、且つ、該ワークロール１９と被圧延材８の間に潤滑剤を供給することができる。 - 特許庁

To provide a concrete water repellent treatment technology capable of stably forming a water repellent layer having an adequate thickness on the surface of the concrete and covering with the water repellent coating film having the outermost surface excellent in the appearance by carrying out the control of coating amount to various concrete having a surface made porous.例文帳に追加

表層のポーラス化が進行した種々のコンクリートに対して、塗布量による施工管理によって、コンクリート表層に適切な厚さの撥水層を安定して形成することができ、かつ、その最表面を外観の良好な撥水塗膜で覆うことのできるコンクリート撥水処理技術を提供する。 - 特許庁

In this manufacturing method for the radiological image transformation panel, a stimulable phosphor layer with a film thickness of 50 μm or more is formed on a support by a vapor phase deposition method and treated by heating.例文帳に追加

支持体上に、膜厚５０μｍ以上の輝尽性蛍光体層を気相堆積法により形成し、加熱処理する放射線画像変換パネルの製造方法において、加熱処理前後の輝尽性蛍光体の輝尽発光波長における透過率が０．５≦Ｔ／Ｔ_0≦１０であることを特徴とする放射線画像変換パネルの製造方法。 - 特許庁

This heterojunction bipolar transistor (100) is a heterojunction bipolar transistor (100), containing a collector (104), an emitter (114) and a base (110), positioned between the collector (104) and the emitter (114), and the base (110) contains a gallium arsenide antimony (GaAsSb) layer having a thickness of less than 49 nm.例文帳に追加

本発明によって提供されるヘテロバイポーラトランジスタ（１００）は、コレクタ（１０４）と、エミッタ（１１４）と、そしてコレクタ（１０４）及びエミッタ（１１４）間に位置するベース（１１０）とを含むヘテロ接合バイポーラトランジスタ（１００）であって、ベース（１１０）が４９ｎｍ未満の厚さを持つガリウム砒素アンチモン（ＧａＡｓＳｂ）層を含む。 - 特許庁

The pressure vessel comprises a metal-made inner shell member 1 having the projections 3, 4, 5 provided on the outer surface and a sheath member 2 made of a fiber reinforced layer and covering the outer surface of the inner shell member 1, wherein the wall thickness of the peripheral areas of the projections 3, 4, 5 of the inner shell member 1 is greater than that of the other areas.例文帳に追加

外表面に突起部３，４，５が設けられた金属製の内殻部材１の外面を繊維強化層でなる外殻部材２で覆って構成される圧力容器において、上記内殻部材１の上記突起部３，４，５の周辺部位における肉厚を他の部位の肉厚よりも大きく設定する。 - 特許庁

The method for manufacturing the glass substrate controls the absolute value of difference in visible light reflectance between the bottom face and the top face within a range of 0.10-0.25% by a process of removing, in the thickness direction, part of a layer containing tin cations existing on the topmost surface of the bottom face of a glass blank manufactured with a float process using a molten tin metal bath.例文帳に追加

熔融金属スズ浴を用いたフロート法によるガラス素板のボトム面の最表面に存在するスズの陽イオンを含有する層の一部を、その厚み方向に除去する工程によって、ボトム面とトップ面との可視光反射率の差の絶対値を、０．１０〜０．２５％の範囲にするガラス基板の製造方法である。 - 特許庁

The flexible printed circuit board 2 sandwiched with the magnetic tray 1 and the buckle cover board 3 is carried to a printer which is set with a steel mesh having the same outer shape as the outer shape of the buckle cover board 3 and provided with a stepped layer of the same depth as a thickness of the buckle cover board 3 to conduct the steps of solder paste printing, sheet mounting, and reflow soldering.例文帳に追加

磁性トレイ１とバックルカバー板３に挟まれたフレキシブルプリント基板２は、バックルカバー板３の外形と同日の外形を有しバックルカバー板３の厚さと同じ深さの階段層が設けられたスチールメッシュのセットされたプリンタに搬送され、ソルダペーストプリント、シート実装およびリフローはんだの工程に供される。 - 特許庁

The waterproof breathable filter 1 includes: a resin film 2 to which a plurality of through-holes 21 are formed; and a treated layer 3 that is hydrophobic and oil repellant, and is formed on at least one surface of the two surfaces in the direction of thickness of the resin film 2 in a manner so as to have openings 31 at positions corresponding to the through-holes 21.例文帳に追加

防水通気フィルタ１は、複数の貫通孔２１が形成された樹脂フィルム２と、樹脂フィルム２の厚さ方向の両面のうちの少なくとも一方の面上に、貫通孔２１と対応する位置に開口３１を有するように形成された、疎水性および撥油性を有する処理層３と、を備えている。 - 特許庁

To solve such a problem that the plating layer of each semiconductor wafer has fluctuation in the thickness and hence, it is unstable because a specified motion of a holding body 2 is set and the semiconductor wafer W is subjected to a plating treatment while repeating a specified motion and the liquid level of the plating liquid successively consumed is not controlled.例文帳に追加

保持体２は半導体ウエハＷの種類に応じて所定の動作が設定され、一定の動作を繰り返しながら半導体ウエハＷのメッキ処理を行い、逐次消費されるメッキ液に関してはその液面を管理していないため、半導体ウエハＷ毎にメッキ層の膜厚にバラツキが生じ、安定性が悪い。 - 特許庁

To prevent flow out of thin film material liquid over a bank when thin films having different characteristic properties are formed on the same substrate by patterning, surely accurately, relatively simply form in high yield the thin film layer having stable characteristics such as flat surface, uniform thickness, and no color unevenness, and make precise fine patterning possible.例文帳に追加

特性の異なる薄膜を同一基板上にパターニング成膜する場合、薄膜材料液体がバンクを超えて流れ出るという事態を防止し、平坦且つ均一厚みの色むらなどの無い安定した特性の薄膜層を確実に高精度に比較的簡単に歩留まり良く形成でき、高精細な微細パターニングを可能とする。 - 特許庁

In a control method of polishing margin when a plurality of wafers are polished at the same time, at least one SOI wafer is polished together with the other wafer to be polished at the same time, and polishing margin is calculated from a film thickness of SOI layer before and after polishing SOI wafer to control the polishing margin.例文帳に追加

及び、複数のウエーハを同時に研磨する際の研磨代の管理方法であって、少なくとも１枚のＳＯＩウエーハを他の研磨するウエーハと同時に研磨し、該ＳＯＩウエーハの研磨前後のＳＯＩ層の膜厚から研磨代を算出して研磨代の管理を行うことを特徴とする研磨代の管理方法。 - 特許庁

To provide a method for determining a composition of a compound semiconductor layer on a substrate whereby a thin film structure, a wavelength dependence of a permittivity and a composition ratio are accurately and correctly determined by setting a combination model of a film thickness, a complex index of refraction and the like and finitely repeating fitting the model to a measured spectrum while changing an angle of incidence.例文帳に追加

膜厚や複素屈折率などの組み合わせモデルを設定し、測定スペクトルとのフィッティングを、入射角度を変えて有限繰り返し行うことにより、薄膜構造および、誘電率の波長依存性、組成比を精度よく正確に決定する基板上の化合物半導体層の組成決定方法を提供する。 - 特許庁

The heat-treatment method for steel includes: a process for generating R gas; a process for producing diluted R gas by mixing nitrogen gas in the R gas; and a process for forming a carbon-enriched layer in the range of ≥0.3 mm thickness containing the steel surface by heating the steel under atmosphere containing the diluted R gas.例文帳に追加

鋼の熱処理方法は、Ｒガスを生成させる工程と、Ｒガスに窒素ガスを混合することにより希釈Ｒガスを製造する工程と、希釈Ｒガスを含む雰囲気中で鋼を加熱することにより、鋼の表面を含む厚み０．３ｍｍ以上の領域に、炭素富化層を形成する工程とを備えている。 - 特許庁

To provide an in-mold foam molding apparatus capable of obtaining well balanced in the thickness of a resin foam layer as a whole by magnifying a molding space in a desired direction even with respect to a part incapable of obtaining a molding space sufficient to foam a foamable resin, and an in-mold foam molding method.例文帳に追加

発泡樹脂を発泡させるに十分な成形空間を得ることができなかった部分に対しても、所望の方向に成形空間を拡大することにより、全体的に樹脂発泡層の厚みにバランスの取れた製品を得ることができる型内発泡成形装置及びその成形方法を提供する。 - 特許庁

An under layer coating film consisting of tetravalent vanadium compound or consisting mainly of it and preferably containing phosphoric acid and/or phosphoric compound or Si compound is formed on a surface of a zinc-based or aluminum-based plated steel sheet, and an organic coating film of a predetermined thickness is formed thereon.例文帳に追加

亜鉛系またはアルミニウム系めっき鋼板の表面に、４価の価数を有するバナジウム化合物からなる若しくはこれを主成分とし、さらに好ましくは、リン酸または／およびリン酸化合物若しくはＳｉ化合物を含有する下層皮膜を有し、その上層に、特定の皮膜厚の有機系皮膜を有する。 - 特許庁

The method for forming a patterned face provides an innovative design with a cool and natural taste and suppressed in roughness and shading feeling by rolling a fibrous roller having a fibrous layer with a thickness of 10 mm or thinner while pushing the fibrous roller to a designed coating material surface containing aggregate.例文帳に追加

本発明の模様面の形成方法は、骨材を含む意匠性塗材表面に対し、繊維質層の厚さが１０ｍｍ以下である繊維質ローラーを押し当てて転動させることにより、凹凸感、陰影感が抑制された、落ち着きのある自然の風合いを有する新たな意匠を得ることができるものである。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device for electric power by which a stabilized solder layer thickness can be realized without producing cavities such as void, etc., the durability be improved, no plating or solder resist processing is needed so as to reduce the produciton cost, and no cleaning step using an organic solvent, etc., is needed.例文帳に追加

ボイド等の空洞が発生せずに安定したハンダ層厚が得られ、耐久性の向上が図れると共に、メッキ処理やハンダレジスト処理を不要とし、生産コスト低減が図れ、さらには有機溶剤等による洗浄工程も不要とした電力用半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an optical adhesive composition which can be cured in mild conditions, is excellent in thin film-formability and film thickness uniformity, and can give a cured product (adhesive layer) exhibiting excellent vibration resistance and impact resistance even in a thin film, and excellent in adhesion force, durability and visible light transmissivity.例文帳に追加

温和な条件で硬化でき、薄膜形成性や膜厚均一性に優れる光学用接着剤組成物であって、薄膜であっても優れた耐振・耐衝撃性を発揮し、接着力、耐久性、可視光透過性にも優れた硬化物（接着層）を得ることが可能な光学用接着剤組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor light emitting device by which a substrate is ground to a predetermined thickness without cracking a wafer, even if the substrate is warped in a film forming operation for a group III nitride semiconductor layer, or even while flakes produced in the film forming operation are left.例文帳に追加

ＩＩＩ族窒化物半導体層の成膜操作により基板に反りが生じた場合であっても、また、成膜操作により生じたフレークが残留したままの状態であっても、ウエーハに割れが生じることなく基板を所定の厚さに研削することが可能な半導体発光素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

The optical recording medium has a substrate and the optical information recording layers, wherein the optical information recording layers are composed of a plurality of layers alternately formed in order of optical recording layers and a transparent support layer of 10 to 200 μm in thickness, successively from the substrate side, and its manufacturing method is provided.例文帳に追加

基板と、前記基板上に貼り合わされた光情報記録層とを有し、前記光情報記録層は、前記基板の側から光記録層、厚さが１０〜２００μｍの透明支持体層の順で交互に形成された複数層で構成されていることを特徴とする光記録媒体およびその製造方法。 - 特許庁

Pretreatment using plasma of a reactive ion etching (RIE) mode is applied to at least one surface of a polyethylene naphthalate (PEN)/polyethylene terephthalate (PET) co-extrusion film and a vapor deposition layer consisting of a metal or an inorganic compound of 5-100nm thickness is provided on the treated surface of the co-extrusion film to constitute the high performance barrier film.例文帳に追加

ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）／ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）共押し出しフィルムの少なくとも一方の面に、リアクティブイオンエッチング（ＲＩＥ）モードのプラズマを利用した前処理を施し、その上に厚さ５〜１００ｎｍの金属もしくは無機化合物からなる蒸着層を設けることを特徴とする高性能バリアフィルムである。 - 特許庁

Since the flake-like conductive coat particles excel, in particular, conductivity as compared with spherical conductive coat particles, and can reduce the thickness of the conductive coat layer, reduction of magnetism of the core material can be suppressed, the conductive coat particles can be precisely arranged by magnetic force, and the pitch of a conductive part can be sufficiently reduced.例文帳に追加

フレーク状の導電性コート粒子は、球状の導電性コート粒子に比べ、導電性に特に優れており、導電性コート層の膜厚を薄くできるため、芯材の磁性の低減を抑制でき、磁力により導電性コート粒子を精密に配列でき、導通部のファインピッチ化を充分に図ることが可能となる。 - 特許庁

In the pulverizing device which is provided with a pulverizing ring 1 freely rotatably supported and pulverizing rollers 2 for pulverizing a matter to be pulverized 18 between the pulverizing ring 1 and the rollers, layer thickness of the matter to be pulverized 18 present between the pulverizing roller 2 and the pulverizing ring 1 is measured by a displacement gauge 20 provided at the pulverizing roller 2.例文帳に追加

回転自在に支持された粉砕リング１と、当該粉砕リング１との間で被粉砕物１８を粉砕する粉砕ローラ２とを備えた粉砕装置において、粉砕ローラ２と粉砕リング１との間に存在する被粉砕物１８の層厚を、粉砕ローラ２に備えられた変位計２０にて計測する。 - 特許庁

In the case, after multiple electrode parts, each of which has a predetermined thickness, are provided on the edge parts of the connection side surface 2a, surface layer parts of the electrode parts in regions which exclude regions where the heights of the mounting terminals 4 are increased, from among the multiple electrode parts, are removed by etching to reduce the heights of the electrode parts in the regions.例文帳に追加

この場合、接続側面２ａの縁部上に所定の厚さの電極部を複数設けた後、当該複数の電極部のうち実装端子４の高さを高くする領域以外の領域の電極部の表層部分をエッチングによって除去して当該領域の電極部の高さを低くする。 - 特許庁

Where exchange coupling energy is J(erg/cm^2) on a border surface between the substance 41 and the antiferromagnetic layer 27, saturation magnetization of the substance 41 is Ms(emu/cc), and coercive force of the substance 41 is Hc(Oe); a thickness t(cm) of the substance 41 is specified as t<J/(Hc×Ms).例文帳に追加

軟磁性体４１と反強磁性層２７の境界面の交換結合エネルギーをＪ（ｅｒｇ／ｃｍ^２）、軟磁性体４１の飽和磁化をＭｓ（ｅｍｕ／ｃｃ）、軟磁性体４１の保磁力をＨｃ（Ｏｅ）とした場合に、軟磁性体４１の厚さｔ（ｃｍ）がｔ＜Ｊ／（Ｈｃ・Ｍｓ）となるように設定する。 - 特許庁

On the surface of the body 11, a plurality of concaves and convexes 14 are formed repeatedly, and the plurality of concaves and convexes 14 are formed so that an average value of the maximum dimension of the concaves and convexes 14 in a surface direction on the surface of the body 11 is larger than an average thickness of the Sn plated layer 13.例文帳に追加

本体部の表面１１において、複数の凹凸部１４が繰り返し形成され、複数の凹凸部１４は、本体部の表面１１の面方向における凹凸部１４の最大寸法の平均値がＳｎめっき層１３の平均厚み寸法よりも大きくなるように形成される。 - 特許庁

The laminated polyester film is a film constituted by alternately laminating layers A comprising a polyester resin (A) and layers B comprising a thermoplastic resin (B) containing at least 90 wt.% of a polyester in a thickness direction so that the number of both layers A and B becomes at least 9 layers in total and characterized by providing an easy adhesive layer at least on one side of the film.例文帳に追加

ポリエステル樹脂（Ａ）からなるＡ層と、ポリエステルを９０重量％以上含有する熱可塑性樹脂（Ｂ）からなるＢ層が厚み方向に交互に９層以上積層されたフィルムであり、少なくとも片面に易接着層が設けられていることを特徴とする積層ポリエステルフィルム。 - 特許庁