「layout process」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

In a rating process, all the layout patterns prepared in the layout pattern preparing process are rated direction by direction on the basis of the preset degree of column adjacency, degree of plane dispersion and degree of vertical dispersion to rate each layout pattern.例文帳に追加

点数付け工程では、配置パターン作成工程で作成された全ての配置パターンに対し、各方向毎に、予め設定された柱隣接度，平面的分散度，立面的分散度に基づいて点数付けを行うことで、各配置パターン毎に点数を付ける。 - 特許庁

To provide a layouting method of a sense amplifier wherein a layout area of the sense amplifier is reduced to increase a process margin.例文帳に追加

センスアンプのレイアウト面積を減らし工程マージンを増加させるセンスアンプのレイアウト方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of tatami layout capable of efficiently executing a series of process of works as a whole.例文帳に追加

一連の作業工程を全体的に効率化することのできる畳の敷設方法を提供する。 - 特許庁

PROCESSING DEVICE FOR CORRELATING IMAGE PROCESS INFORMATION, PRINTING SYSTEM, METHOD FOR ENABLING OUTPUT OF LAYOUT DATA, AND PROGRAM例文帳に追加

画像処理情報関連付け処理装置、印刷システム、レイアウトデータの出力可能化方法、およびプログラム - 特許庁

In the second layout process, the solder 6 is laid out in an outer peripheral part of the mounting face 2a of the semiconductor device 2.例文帳に追加

第２配置工程では、半導体装置２の実装面２ａの外周部にはんだ６を配置する。 - 特許庁

To improve timing and power consumption by changing wiring to layout after a wiring process.例文帳に追加

配線工程後のレイアウトに対する配線変更により、タイミング改善及び消費電力改善を図る。 - 特許庁

Further, photograph layout information LI2 associated with the photograph document data PT2 after a CMYK conversion process is created and layout data LD obtained by replacing the photograph layout information LI1 with this information is used as print data.例文帳に追加

さらに、ＣＭＹＫ変換処理後の写真原稿データＰＴ２を関連づけた写真レイアウト情報ＬＩ２を作成し、これを写真レイアウト情報ＬＩ１と差し替えたレイアウトデータＬＤを印刷データとする。 - 特許庁

In a condition input process 109, a layout pattern division condition 108 such that a plurality of specific layout patterns having circuit characteristics to be made identical are included is input.例文帳に追加

条件入力工程１０９では、回路特性を同一に合わせるべき特定のレイアウトパターンが複数含まれるようなレイアウトパターン分割条件１０８を入力する。 - 特許庁

The method for evaluating the reticle layout data includes a step to generate a simulation image for use of the reticle layout data toward a reticle manufacturing process.例文帳に追加

レチクル・レイアウト・データを評価する方法の１つは、レチクル・レイアウト・データをレチクル製造プロセスのモデルに対する入力として使用してシミュレーション画像を生成するステップを含む。 - 特許庁

In the automatic production process of the shot layout, a plurality of shot layouts which can be a candidate for an optimal shot layout are made from the effective exposure region on a wafer, the shot size, and the chip size, and in the throughput computation process, the throughput is computed from the number of shots of the made shot layout, the shot size, and the exposure quantity.例文帳に追加

ショットレイアウト自動作成工程では、ウエハ上の有効露光領域、ショットサイズ及びチップサイズから、最適ショットレイアウトの候補となる複数のショットレイアウトを作成し、スループット算出工程では、作成されたショットレイアウトのショット数、ショットサイズ及び露光量から、スループットを算出する。 - 特許庁

When the document 63 described in a predetermined language such as XHTML which requires the layout process is inputted from a data source 10, the printer 20 determines a layout on a physical page of the document 63 by a document interpretation/layout process part 41, drives a printing engine 47 and prints the document data 63.例文帳に追加

プリンタ２０は、データソース１０からＸＨＴＭＬなどのレイアウト処理の必要な所定言語で記述された文書６３を入力すると、文書解釈／レイアウト処理部４１にて、文書６３の物理ページ上でのレイアウトを決めて印刷エンジン４７を駆動し、文書データ６３を印刷する。 - 特許庁

The invention applies to a layout picture plane display part 6 for making a layout setting in order to process a lens for glasses, in which a start button 58 for giving a command to start processing is used to make changing-over from the preview picture plane into the layout plane, whereby the lens is processed through setting of the layout in order to make lens processing.例文帳に追加

眼鏡レンズ加工のためのレイアウトの設定を行うためのレイアウト画面表示部６において、加工開始指令のためのスタートボタン５８を、プレビュー画面をレイアウト画面への切り換えに用い、眼鏡レンズ加工のためにレイアウトの設定を行い、眼鏡レンズを加工する。 - 特許庁

The method for marking a lens includes: a patterning process for forming a layout pattern having machining information of the lens 1 on an ink receiving board 41 with a planar surface; and a transfer process for transferring the layout pattern formed by the patterning process to the surface of the lens 1.例文帳に追加

表面が平面状のインク受板４１にレンズ１の加工情報を有するレイアウトパターンを形成するパターニング工程と、このパターニング工程で形成された前記レイアウトパターンを前記レンズ１の表面に転写する転写工程と、を有するレンズのマーキング方法。 - 特許庁

In the loading process, a semiconductor device 8 is arranged on the circuit board 8 via the solders 4 and 6 laid out by the first and second layout process.例文帳に追加

載置工程では、第１及び第２配置工程により配置したはんだ４，６を介して回路基板８上に半導体装置８を配置する。 - 特許庁

To decrease wiring resistance and to shorten the process time for compressing the layout area of an integrated circuit.例文帳に追加

配線抵抗を低減し、かつ集積回路のレイアウト面積の圧縮処理の処理時間の短縮を図る。 - 特許庁

To quickly solve an error that occurs in the process of automatically laying out content data on a template at a layout server.例文帳に追加

レイアウトサーバにおけるコンテンツデータのテンプレートへの自動レイアウト処理中に発生するエラーを迅速に解決する。 - 特許庁

CARRYING-PROCESS LAYOUT METHOD, COMPOSITE-FUNCTION ROBOT, AND CLAMPING TYPE ALIGNER DEVICE HAVING COMPLETELY HERMETIC STRUCTURE例文帳に追加

搬送工程レイアウト方法並び複合機能ロボット及び完全密閉構造を成したクランプ方式アライナ装置。 - 特許庁

To accelerate the process for realizing proper color drawing of a compressed image included in a page layout.例文帳に追加

ページレイアウト上に含まれる圧縮画像を適正にカラー描画可能とするための処理の迅速化を図る。 - 特許庁

In a multilayer wiring primitive cell extraction process, multilayer wiring primitive cells are extracted from the arranged layout information.例文帳に追加

多層配線プリミティブセル抽出工程は、配置済みレイアウト情報から多層配線プリミティブセルを抽出する。 - 特許庁

The document interpretation/layout process part 41 processes the document 73 the same as above, and the image data 65 is printed.例文帳に追加

文書解釈／レイアウト処理部４１は文書７３を上記と同様に処理し、画像データ６５が印刷される。 - 特許庁

As the result of the actual measurement, when variations of the film thickness are large, a layout of a circuit pattern, an area rate or layout of a dummy pattern, and a layout, a film forming amount and a polishing amount of a reverse pattern are optimized to materialize the flatness after the CMP process.例文帳に追加

実測の結果、膜厚のばらつきが大きい場合は、回路パターンの配置、ダミーパターンの面積率や配置、リバースパターンの配置及び成膜量、研磨量を最適化して、ＣＭＰ加工後の平坦化を実現する。 - 特許庁

The photograph layout information LI1 of the photograph document data PT1 involved in layout data LD obtained from the layout of a printed matter is combined with a receipt file RF and the process of converting images of the photograph document data PT1 is performed based on that.例文帳に追加

印刷物のレイアウトにより得られるレイアウトデータＬＤに含まれる写真原稿データＰＴ１の写真レイアウト情報ＬＩ１をレシピファイルＲＦに合成し、これをもとに写真原稿データＰＴ１の画像変換処理を行う。 - 特許庁

A drawing unit 6 generates a progress image by drawing the graphic of the relevant process which is generated by the graphic generation unit 3, in the size determined by the size determination unit 5 on coordinates of each process stored in the process storage unit 2 while superimposing the progress image on a layout image stored in a layout storage unit 1.例文帳に追加

描画部６は、レイアウト記憶部１が記憶するレイアウト画像に重ね合わせて、工程記憶部２が記憶する各工程の座標に、図形生成部３が生成した当該工程の図形を、サイズ決定部５が決定したサイズで描画することで、進捗画像を生成する。 - 特許庁

To attain the shortening of process time of automatic layout wiring, improvement in production yield and improvement in cell characteristics while preventing generation of a terminal which is not wire-connected in layout wiring.例文帳に追加

配置配線時に未結線となる端子の発生を防止し、かつ、自動配置配線の工程時間の短縮化、製造歩留まりの向上、セル特性の向上を図ることである。 - 特許庁

A layout, which is created by such an intuitive operation, is reconstituted through a labeling process or the like, and a plurality of visualized information is automatically disposed on the reconstituted layout.例文帳に追加

このような直感的操作ににより作成されたレイアウトは、ラベリング処理等を通じて再構成され、再構成後のレイアウト上に複数の視覚化情報が自動配置される。 - 特許庁

As a result, timing of the wiring between the different blocks converges in early stages of the layout design to prevent moving-back to a logic design or an upstream process of the layout design.例文帳に追加

この結果、異なるブロック間の配線のタイミングはレイアウト設計の初期段階で収束し、レイアウト設計の上流工程または論理設計までの後戻りを防止できる。 - 特許庁

To provide an automatic layout method having a concrete wiring technique which accelerates equalizing of wiring lengths and allows the wiring length to be short in a wiring process of the automatic layout.例文帳に追加

自動レイアウトの配線処理において、配線長の均一化を促進させ、配線長を短くすることが可能な具体的な配線手法を有する自動レイアウト方法を提供する。 - 特許庁

To provide a layout method, a manufacturing method and a layout program for a semiconductor integrated circuit for reducing a period required for an OPC process without deteriorating characteristics of a semiconductor integrated circuit.例文帳に追加

半導体集積回路の特性を劣化させることなく、ＯＰＣ処理に要する時間を低減する半導体集積回路のレイアウト方法、製造方法及びレイアウトプログラムを提供する。 - 特許庁

A layout changing section 50 evaluates the extent of the plasma damage from the damage index D, calculated by the section 40 and performs process of changing the layout of a semiconductor device.例文帳に追加

レイアウト変更部５０は、指数加算部４０による算出された損傷指数Ｄからプラズマ損傷の度合いを評価し、半導体装置のレイアウトを変更するための処理を実施する。 - 特許庁

Repeat controlling means 25 decide an update ratio between the process organization plan and the process layout plan, so that an optimum process design plan can be generated in a relatively short time and with efficiency.例文帳に追加

しかも、繰返制御手段２５において工程編成案と工程レイアウト案との更新の比率を決めるから、最適な工程設計案を比較的短時間でかつ効率よく生成することができる。 - 特許庁

To increase layout degree of freedom of a steering support member body and a steering column by doing away with the deep drawing process of a steering column hanger.例文帳に追加

ステアリングコラムハンガの深絞り加工を廃止して、ステアリングサポートメンバ本体とステアリングコラムのレイアウトの自由度を増すこと。 - 特許庁

In the method of optical process correction, mapping does not necessarily provide a one-to-one correspondence between reticle fragments and target layout fragments.例文帳に追加

マッピングは、レチクル・フラグメントとターゲット・レイアウト・フラグメントの間に１対１の対応関係を形成するとは限らない。 - 特許庁

To provide a variable print system which optimizes a whole process and checks the harmonization between layout design and variable text design.例文帳に追加

全体工程を最適化し、レイアウト設計とバリアブルテキスト設計の整合性をチェックするバリアブルプリントシステムを提供する。 - 特許庁

In an arrangement/wiring process S32, cells described in the net list are arranged in a layout area and the cells are wired.例文帳に追加

配置配線工程Ｓ３２では、レイアウト領域に、ネットリストに記述されたセルを配置し、セル間の配線を行う。 - 特許庁

In the first layout process, a loop solder 4 is laid out at a center part of a mounting face 2a of the semiconductor device 2.例文帳に追加

第１配置工程では、半導体装置２の実装面２ａの中央部に環状のはんだ４を配置する。 - 特許庁

To execute power supply to a channel area, without complicating the layout and manufacturing process of the gate electrode of an MISFET.例文帳に追加

ＭＩＳＦＥＴのゲート電極のレイアウトおよび製造工程を複雑にせずにチャネル領域への給電を行う。 - 特許庁

The report processing software can initially process the custom layout, and provide it with any features available in the initial processing stage.例文帳に追加

当該ソフトウェアは最初にカスタムレイアウトを処理し、このレイアウトに最初の処理で利用可能などの特徴も与える。 - 特許庁

The layout method of semiconductor integrated circuit is constituted for conducting (ST31) layout/wiring process, extracting (ST33) a resistance value, a capacitance value, and an allowable current value of signal wire from layout data obtained by the layout/wiring process, and calculating (ST37) signal electromigration of the signal wire from the resistance value, capacitance value, and allowable current value obtained (ST34).例文帳に追加

半導体集積回路のレイアウト方法であって、配置・配線処理を行い（ＳＴ３１）、該配置・配線処理により得られたレイアウトデータから信号配線の抵抗値、容量値および許容電流値を抽出し（ＳＴ３３）、該抽出した該抵抗値，該容量値および該許容電流値（ＳＴ３４）から、前記信号配線のシグナルエレクトロマイグレーションを計算する（ＳＴ３７）ように構成する。 - 特許庁

The device 11 forms the layout data by selecting the cells having the process patterns adapted to process specification data 16a from various kinds of the data stored in these libraries.例文帳に追加

パターン作成装置１１は、それらライブラリに格納された各種データからプロセス仕様データ１６ａに適合したプロセスパターンを持つセルを選択してレイアウトデータを作成する。 - 特許庁

To provide a method of calculating process conditions for performing optical correction and process correction (OPC) or other resolution enhancement techniques on a layout design.例文帳に追加

レイアウト設計に対して、光学補正およびプロセス補正（ＯＰＣ）または他の解像度向上技術を行うために、プロセス条件を計算する方法を提供すること。 - 特許庁

To verify how finished patterns differ among a plurality of different process conditions and a plurality of different methods of forming verification layout patterns in a semiconductor manufacturing process.例文帳に追加

半導体製造において、複数の異なるプロセス条件や複数の異なる検証レイアウトパターン作成方法の間で、仕上がりパターンがどのように異なるかを検証する。 - 特許庁

A style sheet corresponding to the extracted post-print process information is selected from a style sheet storage part for storing a style sheet functioning as layout data for layout-outputting post-print process information according to the output configurations of an output destination.例文帳に追加

印刷後工程情報を、出力先の出力形態に併せてレイアウトして出力するためのレイアウトデータとして機能するスタイルシートを記憶するスタイルシート記憶部から、抽出した印刷後工程情報に対応するスタイルシートを選択する。 - 特許庁

Next, a wiring line conflicting with timing restriction is detected from the layout after the wiring process, a space is provided around the detected wiring line, a width of the detected wiring line is changed by use of the provided space, and the layout after the wiring process is changed.例文帳に追加

次に、配線工程後のレイアウトからタイミング制約に抵触する配線を検出し、検出された配線の周囲にスペースを空け、空いたスペースを利用して検出された配線の幅を変更し、配線工程後のレイアウトを変更する。 - 特許庁

To provide a layout pattern data correction system for correcting the pattern distortion produced in a pattern forming process at a high speed with high accuracy.例文帳に追加

パターン形成プロセスで生じるパターン歪を高精度且つ高速に補正するレイアウトパターンデータ補正装置を提供する。 - 特許庁

To provide a photographic apparatus and method, capable of minimizing an entire layout of a photo process line and improving the productivity.例文帳に追加

フォト工程ラインの全体レイアウトの最小化及び生産性の向上が図られるフォト装置及び方法を提供する。 - 特許庁