「layout process」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

The method includes a circuit layout pattern and layout method for making it possible to match circuit parts accurately or proportionally by uniformly distributing the circuit parts so that the circuit parts are not affected by an environment or a process variation or an influence is kept to a minimum and, thereby improving the performance of an analog and mixed-signal circuit.例文帳に追加

回路部品が環境の影響またはプロセス変動の影響を受けないような形で、またはその影響を最小限に抑えるような形で回路部品を一様に分配することによって回路部品を正確にまたは比例的に適合させることを可能にし、それによってアナログおよび混成信号回路の性能を改善する回路レイアウト・パターンおよびレイアウト方法を含む。 - 特許庁

To solve the problem that it is further necessary to secure an area for a transfer part and an addition part and to process wiring for driving when a distance measuring area and an imaging area are enlarged, and therefor chip size is increased and the degree of freedom of sensor layout is decreased.例文帳に追加

測距エリアや撮像エリアの拡大を行う場合、転送部や加算部の面積の確保や駆動のための配線処理などが更に必要になるため、チップサイズの増加や、センサレイアウトの自由度が狭められるという問題を解決する。 - 特許庁

To provide an output buffer circuit provided with separate output transistors(TRs), that ensures the stability of an output operation and is capable of a high-speed operation without making a layout area increase, even if the manufacture process has fluctuations.例文帳に追加

分割された出力トランジスタを備える出力バッファ回路に関し、製造プロセスにユラギがあっても、出力動作の安定性を確保することができるとともに高速動作が可能な回路を、レイアウト面積を増大させることなく提供する。 - 特許庁

When the sheet on which the image is to be formed is not a backing sheet, a dot pattern addition processing division 208 generates dots of a layout pattern which represents the attribution information of the image forming process, and adds it to the image data and supplies it to a PWM processing division 209.例文帳に追加

ドットパターン付加処理部２０８は、画像が形成される用紙が裏紙でない場合には、画像形成処理の属性情報を表すような配置パターンのドットを生成し、これを画像データに付加してＰＷＭ処理部２０９に供給する。 - 特許庁

A plurality of capacitance libraries are prepared according to variations, for instance, wiring width, wiring film thickness, interlayer film thickness, in the manufacturing process for the semiconductor integrated circuit, and one among these capacitance libraries is appropriately selected according to object layout.例文帳に追加

例えば配線幅、配線膜厚や層間膜厚などの半導体集積回路の製造プロセスばらつきに応じて複数の容量ライブラリを準備し、これらの容量ライブラリの中から１つを対象レイアウトに応じて適切に選択する。 - 特許庁

If the roles are defined in the reverse order in the wsdl file (the callback receiver role is defined on the first place, and the service role on the second place) then you get the improper partner link layout in the BPEL process diagram, though the operation is not damaged.例文帳に追加

WSDL ファイル内でロールが逆の順序で定義されている場合 (コールバック受信者のロールが最初に定義され、サービスロールが 2 番目に定義されている)、操作に影響はありませんが、BPEL プロセス図に間違ったパートナーリンクレイアウトが表示されます。 - NetBeans

A data density calculating process part 4 shifts the detection range of layout data of the input process part 3 along an X or Y axis from the position where pattern data are calculated last, calculates the pattern density in the detection range having been moved, and decides whether or not the pattern density is ≥50%, thereby deciding a temporary error area when the pattern data density is ≥50%.例文帳に追加

データ密度計算処理部4は、入力処理部3のレイアウトデータを直前にパターンデータを演算した位置から、X軸方向又はY軸方向の何れかに検出範囲をずらし、移動後の検出範囲のパターン密度の計算を行い、パターンデータ密度が50％以上か否かの判定を行い、50％以上を仮エラー領域とする。 - 特許庁

An operation part 54 calculates production time of a product by calculating processing time of the materials in each process and conveyance time between the processes by referring to the production management data and the equipment data in a production line defined by the layout sheet and the layer.例文帳に追加

演算部５４は、レイアウトシートとレイヤによって定義された生産ラインにおいて、生産管理データおよび装備データを参照して各工程における素材の処理時間および工程間の搬送時間を計算することで、製品の生産時間を演算する。 - 特許庁

This process flow provides a direct body tie contact 222 to mitigate floating body effects but also eliminates hysteresis and transient upset effects common in non-direct body tie contact configurations, without the critical alignment requirements and critical dimension control of the layout.例文帳に追加

このプロセスフローは、浮遊ボディ効果を緩和するように直接ボディ・タイ・コンタクト２２２を提供するが、臨界的なアライメント要求ならびにレイアウトの臨界的な寸法制御なしで、非直接ボディ・タイ・コンタクトに共通のヒステリシスおよび過渡アップセット効果をも除去する。 - 特許庁

In a die structure design process following the layout design, a parameter input related to a plurality of components arranged in a temporary die structure is performed, and the deformation processing of the shapes of the components is performed, and the final press die is displayed in the form of a drawing.例文帳に追加

そしてレイアウト設計工程に続く型構造設計工程では、仮の型構造内に配置された複数の部品に関するパラメータ入力を行って当該部品の形状の変形処理を行って最終的なプレス金型を図面化して表示する。 - 特許庁

The integrated verification and manufacturability tool includes a hierarchical database to store design data accessed by a plurality of verification tool components (e.g., layout versus schematic [440], design rule check [450], optical process correction [430], and phase mask shift assignment [420]).例文帳に追加

集積化検証および製造適応ツールは、複数の検証ツールコンポーネント（例えば、レイアウト対回路図［４４０]、設計ルールチェック[４５０]、光学プロセス修正[４３０]、位相マスクシフト割り当て[４２０]）によってアクセスされる設計データを格納する階層型データベースを含む。 - 特許庁

Differences among predicted pattern data are detected by predicting a plurality of finish patterns in accordance with a plurality of different pattern forming process conditions and/or a plurality of verification layout pattern data and by performing figure operation on the predicted plurality of finished pattern data.例文帳に追加

複数の異なるパターン形成プロセス条件、及び／又は、複数の検証レイアウトパターンデータに対応して複数の仕上がりパターンを予測し、予測された複数の仕上がり予測パターンデータを図形演算することにより、予測パターンデータ間の相違箇所を検出する。 - 特許庁

The integrated verification and manufacturability tool includes a hierarchical database to store design data accessed by a plurality of verification tool components (e.g., layout versus schematic 440, design rule check 450, optical process correction 430, and phase shift mask assignment 420).例文帳に追加

集積化検証および製造適応ツールは、複数の検証ツールコンポーネント（例えば、レイアウト対回路図４４０、設計ルールチェック４５０、光学プロセス修正４３０、位相マスクシフト割り当て４２０）によってアクセスされる設計データを格納する階層型データベースを含む。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus capable of electrostatically and favorably removing a residual toner generating on an image carrier by use of a cleaning member even when a transfer process is carried out in such a layout that a toner image on the image carrier is protruding from a transfer material.例文帳に追加

像担持体上のトナー像が転写材からはみ出すような配置で転写工程が行われた場合でも、像担持体上に発生した残留トナーを良好にクリーニング部材を用いて静電的に除去することのできる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

When a "layout" is changed from "catalog" to "100% (unmagnification)" in process of selection, the display picture 44 made into a state where the contents (black and white) developed below a folder of "catalog" is replaced with a "100% (unmagnification)" folder is displayed on the display part.例文帳に追加

この選択の途中で「レイアウト」を「カタログ」から「１００％（等倍）」に変更した場合、「カタログ」のフォルダ以下に展開されていた内容（＝設定済項目７３）が「１００％（等倍）」フォルダに付け替えた状態にした表示画面４４が表示部に表示される。 - 特許庁

To provide a method of extracting a hot spot in layout designing/verification of a semiconductor device in which it is feasible to appropriately extend a process margin and directly relate a result of extracting hot spots to an improvement in an yield of production steps.例文帳に追加

半導体装置のレイアウトの設計・検証の際にホットスポットを抽出する方法であって、適切なプロセスマージンの拡大を行うことができ、ホットスポットの抽出結果を製造段階での歩留向上に直結させることができる方法をを提供する。 - 特許庁

The vehicle exhaust pipe used in a vehicle exhaust system is, in vehicle layout, a single pipe at a portion which is subjected to a crushing process and a double pipe composed of inner and outer ones at the other portions thereof, wherein the double pipe is integrally connected to the single pipe.例文帳に追加

請求項１に係る発明は、車両排気系に用いる車両用排気管であって、車両レイアウト上、潰し加工を施す部位を単管とし、他の部位を内管と外管からなる二重管として、当該二重管と前記単管とを一体的に接続したことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a production line using a work-in-flat-flowing-process stocker, which can efficiently design a layout of production facilitates for factory construction without restrictions on a factory building size etc., and can reduce the number of units and the cost in conveyance facilities.例文帳に追加

本発明が解決しようとする課題は、工場建屋サイズ等の制約によらず、工場建設の際に効率的な生産設備のレイアウト設計を可能とすると共に、搬送設備のユニット数や費用を少なくすることが可能な平面型ストッカーを用いた生産ラインを提案するものである。 - 特許庁

While image data in a memory card 2 is printed to a paper 3 set in the printer 1, a process image such as one passed through calendar synthesization, stamp synthesization, frame synthesization or multi-layout synthesization to an image being printed is displayed together with a message of "printing underway" on a display 19 of the printer 1.例文帳に追加

プリンタ１にセットされている用紙３にメモリカード２内の画像データを印刷している間、プリンタ１のディスプレイ１９に、「印刷中」のメッセージとともに、印刷中の画像にカレンダー合成、スタンプ合成、フレーム合成、マルチレイアウト合成等した加工画像を表示する。 - 特許庁

When a simple image 65 of a JPEG format or the like is inputted from the data source 10, the printer 20 forms document data 73 of a predetermined language such as XHTML having the image 65 incorporated therein at an image reception/document generation part 43, and delivers the data to the document interpretation/layout process part 41.例文帳に追加

プリンタ２０は、データソース１０からＪＰＥＧ形式などの単なる画像６５を入力すると、画像受信／文書生成部４３にて、画像６５を組み込んだＸＨＴＭＬなどの所定言語の文書データ７３を作成して、文書解釈／レイアウト処理部４１に渡す。 - 特許庁

Size-accuracy at the area near cell boundary can be acquired by completing single process for each cell through implementation of OPC after decomposition of layout data for each cell in the OPC processing step, and by executing OPC only to the cell boundary after arrangement of the OPC application cell of each cell on a chip.例文帳に追加

ＯＰＣ処理工程においてレイアウトデータをセル毎に分解してＯＰＣを実施することで１セル１回の処理で完了し、各セルのＯＰＣ適用セルをチップ上に、配置した後にセル境界部のみＯＰＣを実施することでセル境界近傍の寸法精度を確保する。 - 特許庁

In a semiconductor device formed of automatic arrangement wiring employing a standard cell by a multi-layer process, the multi-logic cell is arranged below second metal power supply wiring whereby a layout which permits the change of a circuit without changing the chip size or a lower stage layer by arranging the multi-logic cell below the second metal power supply wiring is made.例文帳に追加

スタンダードセルを用いた自動配置配線で多層プロセスにより形成された半導体装置において、第二メタル電源配線下部にマルチロジックセルを配置することでチップサイズや下階層を変更することなく回路変更が可能なレイアウトが作成される。 - 特許庁

In this dummy registration information, the dummy symbol and a dummy component number (dummy part) are made to correspond to a dummy footprint, so circuit diagram data can be completed by arranging the dummy symbol, so that the circuit drawing data can be supplied to a substrate layout process at this point of time.例文帳に追加

このダミー登録情報ではダミーシンボルとダミー部品番号（ダミーパート）と、ダミーフットプリントが対応されているため、ダミーシンボルを配することで、仮に回路図データを完成させることができ、つまりこの時点で回路図データを基板レイアウト工程に出図することができるようにする。 - 特許庁

A semiconductor device comprises source regions S1, S2, S3, and the like having source region extended parts S11, S12, S13, and the like extended to parts to become void spaces formed in a layout, by maintaining a depth not reaching an embedded insulating layer of an SOI substrate without obstructing the manufacturing process.例文帳に追加

ＳＯＩ基板の埋め込み絶縁層に到達しない深さを維持すると共に製造プロセス上の支障にならず且つレイアウト上の空所になる部分に延在するソース領域延在部Ｓ_11、Ｓ_12、Ｓ_13などをもつソース領域Ｓ_1 、Ｓ_2 、Ｓ_3 などが形成されてなることを特徴とする。 - 特許庁

Thereby, since it is unnecessary to detach and attach a wire harness for connecting an occupant detection sensor 11 and an electronic unit as before when the seat 12 is detached from and attached to an automobile, it is possible to reduce the manufacturing process and to improve the degree of freedom of seat layout design.例文帳に追加

これにより自動車に座席１２を着脱する際に、従来のように乗員検知センサ１１と電子ユニットとを接続するためのワイヤーハーネスを着脱する必要がなくなり、製造工程の軽減を図るとともに、設計の座席レイアウトの自由度の向上を図ることができる。 - 特許庁

By altering the layout of the respective regions of the semiconductor device, the resistances among the respective regions are set properly, and thereby, the holding voltage and the switching voltage of the thyristor can be optimized independently of each other, and as a result, a proper protecting element and a proper protecting circuit for preventing the electrostatic breakdowns of transistors formed in a CMOS process are made form-able.例文帳に追加

レイアウトの変更により、各領域間の抵抗を適切に設定し、それによってサイリスタのホールディング電圧とスイッチング電圧を独立に最適化可能となり、ＣＭＯＳプロセスで形成されるトランジスタの静電破壊を防ぐための適切な保護素子および保護回路を形成することが可能となる。 - 特許庁

To solve the problem that a layout balance of characters in a printed image is lowered at a communication terminal such as a FAX apparatus, a telephone terminal or the like capable of browser displaying corresponding to a web server, and a user's operation intending to suitably change a font size tends to be complicated in an enlarging process of the image in the case of printing.例文帳に追加

ウェブサーバーに対応し、ブラウザ表示が可能なＦＡＸ装置、電話端末などの通信端末では、印刷画像における文字のレイアウトバランスが低下する一方、印刷処理に際した画像の拡大処理において、フォントサイズを適切に変更しようとするユーザーの操作は煩雑になりがちである。 - 特許庁

In this semiconductor acceleration sensor by the same manufacturing process as that of the leading-out electrode, an electrode thin film pattern of the same width is newly installed, so that the electrode thin film pattern layout of the flexible part region for forming the piezo resistance elements is made uniform in both the detection axial direction and the direction vertical to the detection axial direction.例文帳に追加

本発明では引き出し電極と同一の製造工程で同一幅の電極薄膜パターンを新たに設けることにより、ピエゾ抵抗素子を形成する可撓部領域の電極薄膜パターンレイアウトを検出軸方向および検出軸方向と垂直な方向の両方ともに均一化した。 - 特許庁

Finally, the inspection map is collated with each piece of data by performing a collation process 40, data coincident with the inspection map is searched among pieces of the data, the working area of the surface of the substrate is defined by the working area layout coincident with the inspection map, and the use classification of the substrates are confirmed and the substrates are sorted 46.例文帳に追加

最後に、照合プロセス４０を行って検査マップとそれぞれデータとを照合し、データの中から検査マップに一致したデータを探し出し、また検査マップに一致した作用面積レイアウトにより基板表面の作用面積を定義し、進んで基板の使用類別を確認して分類４６する。 - 特許庁

To provide a filled vessel transporting device including a filling device whereto each vessel after being washed and maintained in the clean condition is transported while bedewing of the transport part is precluded, capable of enhancing the effectiveness in maintenance operation, simplifying the overall constitution of the transport device, suppressing the space, and managing flexibly with the layout etc. of the manufacturing process.例文帳に追加

洗浄後の容器を、クリーンな状態に維持し、搬送部分の結露を防止して充填装置に搬送するとともに、メンテナンス性の向上、搬送装置全体の構成の簡略化、省スペース化を図り、製造工程のレイアウト等にも柔軟に対応することができる充填容器搬送装置とする。 - 特許庁

The method of designing a semiconductor integrated circuit includes the steps of: calculating the risk of occurrence of a problem for each place on the semiconductor integrated circuit to be designed, based on the result of process simulation performed using a previously designed layout pattern 204 and physical model 201; and correcting a design standard 203 according to the risk for each place and generating a compaction condition 206 for each place.例文帳に追加

本発明による半導体集積回路の設計方法は、事前に設計されたレイアウトパタン２０４と物理モデル２０１とを用いて行われるプロセスシミュレーションの結果に基づいて、設計対象となる半導体集積回路上の場所毎に、不具合の発生する危険度を算出するステップと、場所毎の危険度に応じて設計基準２０３を修正し、場所毎のコンパクション条件２０６を生成するステップとを具備する。 - 特許庁

If a person, in good faith, manufactures a product, utilizes an industrialprocess, manufactures an integrated circuit incorporating a layout designor a commodity including such a circuit, exploits a plant variety or makesserious arrangements, before the date of filing the patent application,or the priority application relating to that product or the process,design, plant variety, or the date of first commercial exploitation ofthe design anywhere in the world, such a party shall be entitled - despitethe issuance of the protection document - to continue to perform theseacts without expanding them.This right shall not be assigned ortransferred to others except with all parts of the firm or one of themincluding goodwill.例文帳に追加

ある者が，製品若しくは方法，設計，植物品種に関係する特許出願若しくは優先出願の出願日の前，又は設計が世界の何れかの場所において最初に商業利用される日の前に，誠実に製品を製造し，工業的方法を使用し，配置設計を組み入れた集積回路若しくは当該回路を含む商品を製造し，又は本格的な準備を行った場合は，その者は，保護書類の発行にも拘らず，当該行為を拡大することなく続行する権利を有する。この権利は，営業権を含む企業の全部又は一部と共にするのでなければ，他人に譲渡又は移転してはならない。 - 特許庁