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layout processの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 287件
The pad layout can be obtained as capable of wire bonding easily, and narrowing the pitch between the probe contacting regions, in which the probe needle is planted in the inspection process of semiconductor chips.例文帳に追加
ワイヤボンディングが容易に行うことができ、半導体チップ検査工程におけるプローブ針立てが行われるプローブ接触領域の狭ピッチ化が可能なパッドレイアウトが得られる。 - 特許庁
To provide a variable print system etc., that unify and manage specifications used for layout design and variable text design, optimize the whole process, and improve reusability of programs.例文帳に追加
レイアウト設計及びバリアブルテキスト設計で使用する設計書を一元管理し、全体工程を最適化し、プログラムの再利用性を向上させるバリアブルプリントシステム等を提供する。 - 特許庁
To provide an information processor or the like which generates data which a plurality of devices can process respectively, and is capable of displaying a setting screen having a layout common to the plurality of devices.例文帳に追加
複数の機器の夫々が処理可能なデータを生成し、且つ、複数の機器に共通なレイアウトを有する設定画面を表示することが可能な情報処理装置等を提供する。 - 特許庁
This system and method allows a user to add masking regions to the dynamic range of a screen for selectively ignoring the region range of user interface layout expected to change during a verification process.例文帳に追加
ユーザが、検証プロセス中に変化することが予想されるユーザインタフェースレイアウトの領域範囲を選択的に無視するために、画面の動的範囲にマスキング領域を追加する。 - 特許庁
To shorten the design period of a semiconductor integrated circuit by reducing layout man-hours required for one more delay adjustment by preventing the fluctuation of the delay adjustment under each semiconductor process condition.例文帳に追加
半導体プロセス条件ごとの遅延調整のバラツキを防いで、再度の遅延調整に要するレイアウト工数を削減し、半導体集積回路の設計期間の短縮を可能にする。 - 特許庁
To reduce the time taken for the crosstalk verification and correction by checking the crosstalk as the pretreatment of the wiring process with taking the cell layout and circuit capacity of the cell into consideration.例文帳に追加
配線工程の前処理としてセル配置とセルの回路能力を考慮したクロストークエラーチェックを行い、配線工程後のクロストーク検証と修正に要する時間を削減する。 - 特許庁
The automatic photograph vending machine selects a photograph used for a subsequent process, adjusts brightness of the photograph, and selects a seal layout on printing after photographing.例文帳に追加
この写真自動販売機では、写真撮影の後、以降の処理に用いる写真の選択、その写真に対する明るさ調整、およびプリントする際のシールレイアウトの選択などの処理を行なう。 - 特許庁
To provide an active matrix substrate by which any of a high pixel aperture ratio, a further larger thin-film transistor (TFT) manufacturing process margin, a small peripheral circuit layout area, and a long service life is obtained.例文帳に追加
高い画素開口率と、更に広いTFT製造プロセスマージン、小さな周辺回路レイアウト面積、長い寿命、のいずれかを実現するアクティブマトリクス基板を提供する。 - 特許庁
This method has a process for providing the respective ports of the same terminal in cell layout with different recognition names and a process for preparing inter-port wiring information together with an existing library or as a new library by extracting wiring resistance and capacitance between the respective relevant ports.例文帳に追加
セルレイアウトの同一端子の各ポートに別々の認識名を設ける工程と、当該各ポート間の配線抵抗および容量を抽出して既存ライブラリと一緒にまたは新規ライブラリとしてポート間配線情報を作成する工程を有する。 - 特許庁
To freely change a display layout and process individual images on an output-destination image display terminal equipment in the abnormal shadow detecting process system when the output destination of image information is the image display terminal equipment.例文帳に追加
異常陰影検出処理システムにおいて、画像情報の出力先が画像表示端末機であるときは、その表示レイアウトの組替えや、個々の画像に対する画像処理を、出力先の画像表示端末機において自由に行うことができるようにする。 - 特許庁
After the process of CTS in a layout flow is completed(2), longest wiring lengths from a CTS final stage buffer to FF concerning each CTS are inspected(3) and the average l of the lengths is obtained(4).例文帳に追加
レイアウトフローにおけるCTSの工程が終了した後、各々のCTSについて、CTS最終段バッファからFFまでの最長配線長を調べ、最長配線長の平均値lを求める。 - 特許庁
Further, timing verification is executed (S4) after the layout process, and a capacity cell replaces the inter-power-source capacity cell nearby the object wiring where the timing violation occurs (S8), and is connected to the object wiring (S9).例文帳に追加
また、レイアウト後にタイミング検証を実行し(S4)、タイミング違反が発生した対象配線近傍の電源間容量セルを容量セルへ置換し(S8)、対象配線へ接続する(S9)。 - 特許庁
To provide a delay optimizing system for hierarchical LSI design, with which repeat processing from the layout of a post-process can be reduced without manually applying all the areas of sub-blocks of respective hierarchies.例文帳に追加
各階層のサブブロックの面積をすべて人手で与えることなく、後工程のレイアウトからの繰返し処理を削減可能なLSI階層設計における遅延最適化システムを提供する。 - 特許庁
To provide a semiconductor integrated circuit and a layout method thereof such that the factor of a decrease in yield such as variance in film thickness after CMP which is caused in a manufacturing process can be removed in a stage of designing.例文帳に追加
製造工程で生じるCMP後の膜厚ばらつき等の歩留まり低下要因を設計段階で取り除くことができる半導体集積回路及びそのレイアウト方法を提供する。 - 特許庁
The semiconductor device including a cell array has provided with a process failure detection circuits, having a layout pattern of the substantially same shape as that of the cell of the cell array in a dummy region provided in the periphery of the cell array.例文帳に追加
セルアレイを含む半導体装置において、セルアレイの周囲に設けられたダミー領域にセルアレイのセルと略同一形状のレイアウトパターンを有するプロセス不良検出回路を設ける。 - 特許庁
By this, the proxy server does not have to process and correct an HTML content, and consequently, an image plane layout is not disordered and the advertisement information not depending on a configuration of the client is displayed.例文帳に追加
以上により、プロキシサーバがHTMLコンテンツを加工修正することがなく、従って、画面レイアウトが崩れることなく、かつ、クライアントの設定に依存しない広告情報の表示を行う。 - 特許庁
The correcting device performs OPC of matching finished dimension by simulation within a movable range of a correcting object edge in which the process margin is secured and predicts a finished layout pattern at high speed and with high accuracy.例文帳に追加
この補正装置は、プロセスマージンを確保できる補正対象エッジの移動可能範囲内で、シミュレーションにより仕上がり寸法合わせのOPCを行い、仕上がりレイアウトパターンを高速、高精度で予測する。 - 特許庁
In this method for delay adjustment, a delay value and skew prior to delay adjustment are calculated under each of the plurality of process conditions of a semiconductor integrated circuit on the basis of layout information ( a step ST1).例文帳に追加
本発明の遅延調整方法は、まず、レイアウト情報にもとづいて、半導体集積回路の複数のプロセス条件ごとに、遅延調整前の遅延値およびスキューを求める(ステップST1)。 - 特許庁
Then temporal simulation is carried out to make distinct a process time and the shapes of the elements and then a performance analysis is taken to evaluate the layout area, power consumption, processing speed, etc., of the selected elements.例文帳に追加
時間的シミュレーションを行なって、処理時間や要素の形状を明確にした後、性能解析を行なって、選択した各要素のレイアウト面積,消費電力,処理速度などを評価する。 - 特許庁
Afterwards, in a layout process S7, a library LIB3 including the driver 30B whose output terminal Y2 is set as wiring permission is used for replacing the driver 30A in the final stage with the driver 30B.例文帳に追加
その後、レイアウト工程S7において、出力端子Y2が配線許可に設定されたドライバ30Bを含むライブラリLIB3を用いて、最終段のドライバ30Aをドライバ30Bで置き換える。 - 特許庁
Based on the content set, the layout of the document data is determined so that the inner side of the bleed area on the filed side of the bleed area determined in the determining process is positioned on the filed side of the sheet.例文帳に追加
設定内容に基づいて、決定工程で決定したドブ領域のとじ処理される側のドブ領域の内辺を、用紙上のとじ辺に位置合わせされるように、原稿データの配置を決定する。 - 特許庁
In the power source noise analysis process S1, the layout information 10 to 12 of each part of a DIE, a PKG and a PCB is used to calculate power source noise waveforms 16 to 18 of the each part of the DIE, PKG and PCB.例文帳に追加
電源ノイズ解析工程S1では、DIE、PKG、PCB各部のレイアウト情報10〜12を用いてDIE、PKG、PCB各部の電源ノイズ波形16〜18を算出する。 - 特許庁
A subset of the target pattern is selected so as to cover all possible diffraction signature groups so that the subset of the target pattern shows at least a part of a design layout for a lithography process.例文帳に追加
ターゲットパターンの部分集合がリソグラフィプロセスのための設計レイアウトの少なくとも一部を表すように、可能な回折シグネチャグループすべてをカバーするようにターゲットパターンの部分集合が選択される。 - 特許庁
The deviation of alignment occurring in a semiconductor manufacture process is spuriously reproduced on layout CAD data, and the yield fail by the deviation of alignment is analyzed from the area value of a via for connecting wiring layers.例文帳に追加
レイアウトCADデータ上で半導体製造工程で生ずるアライメントずれを擬似的に再現し、配線層間を接続するビアの面積値からアライメントズレによる歩留まり不良を解析する。 - 特許庁
To provide a semiconductor integrated circuit design capable of suppressing increase in the number of lines and the total area of cells while avoiding a wiring congestion in a layout process.例文帳に追加
半導体集積回路の設計において、配線混雑が予想されるセルを使用禁止にして配線混雑を回避する方法では、レイアウトの総配線数と総セル面積が必要以上に増えてしまう。 - 特許庁
The image display means alters the line density or width of hatching in the noise generation process images according to the changing rates of the noise voltages in the noise information or the degree of the layout concentration in the designing information.例文帳に追加
画像表示手段は、ノイズ情報のノイズ電圧の変化率又は設計情報中のレイアウト集中度に応じて、ノイズ発生経路画像におけるハッチングの線密度又は線幅を変更する。 - 特許庁
To provide a print data creation system capable of performing the process of converting print data into photograph document data based on layout information in creating the print data, and automatically replacing the photograph document data after the conversion.例文帳に追加
印刷データの作成に際し、レイアウト情報を踏まえて写真原稿データに変換処理を行い、かつ、変換後の写真原稿データを自動的に差し替えできる印刷データ作成システムを提供する。 - 特許庁
A computer 100 that operates as a semiconductor integrated circuit designing device performs a first candidate extraction process, extracts a candidate from the plurality of ECO cells arranged on a layout pattern to be changed, and selects an ECO cell to be used for changing the layout from each extracted candidate.例文帳に追加
半導体集積回路設計装置として動作するコンピュータ100は、第1の候補抽出処理を行って、レイアウト変更がなされるレイアウトパターンに配置された複数のECO対象セルから候補を抽出し、抽出された各候補から、レイアウト変更に用いるECO対象セルを選出する。 - 特許庁
Based upon layout information D1 and process information D2, three-dimensional TCAD 3 simulates a three-dimensional structure while taking an adversely influencing device phenomenon into consideration to output electric characteristic data D3 corresponding to design rules prescribed in layout information D1 as many times as the plurality of design rules.例文帳に追加
3次元TCAD3は、レイアウト情報D1及びプロセス情報D2に基づき、悪影響デバイス現象を考慮しつつ3次元構造のシミュレーションを実行することにより、レイアウト情報D1に規定されたデザインルールに対応する電気的特性データD3を複数のデザインルールに対応する回数分出力する。 - 特許庁
This delay adjustment method includes a step, in which it is determined whether at least one of insertion, deletion, substitution, and a shift of a cell can be carried out in a circuit description including layout information, and a step for performing processing in the circuit description including the layout information according to determination showing that one process can be carried out.例文帳に追加
遅延調整方法は、レイアウト情報を含む回路記述においてセルの挿入、削除、置換、及び移動の少なくとも1つの処理が可能か否かを判断する段階と、1つの処理が可能であるとの判断に応じてレイアウト情報を含む回路記述において処理を実行する各段階を含む。 - 特許庁
In the image forming apparatus of a tandem layout constitution where a plurality of process units consisting of the developing part and a drum part are installed in the carrying direction of an intermediate transfer body, the shielding member to cut off the flow of air between a process unit on the upstream side and a process unit on the downstream side in the carrying direction of the intermediate transfer body is provided.例文帳に追加
現像部とドラム部とからなる複数のプロセスユニットを中間転写体搬送方向に配置したタンデムレイアウト構成の画像形成装置において、中間転写体搬送方向に対して、上流側のプロセスユニットと下流側のプロセスユニットとの空気の流れを遮断する遮蔽部材を設けたことを特徴とする画像形成装置。 - 特許庁
By a layout managing method of homogeneous carrier, a plurality of processors in a production line are divided into a single or a plurality of sequential process groups to set a segment, while a process starting range of a carrier is limited within the segment for a longer homogeneous length.例文帳に追加
また、同質キャリアのレイアウト管理方法により、生産ライン内の複数の処理装置を一つまたは複数の一連の工程群に分割してセグメントを設定し、同質長を管理するグループのキャリアの着工範囲を前記セグメント内に制限することにより、同質長を長くするものである。 - 特許庁
To make it possible to cope with process change certainly without affecting the upper level design such as the layout design of a standard cell, by enabling the adjustment corresponding to extensive delay values without changing cell size and metal wiring as much as possible, even when a process change arises.例文帳に追加
プロセス変動が生じた場合でも、できるだけセルサイズやメタル配線の変更を行なうことなく広範なディレイ値に対応した調整を可能にして、スタンダードセルのレイアウト設計等の上位設計に影響を与えずにプロセス変動に確実に対処できるようにする。 - 特許庁
To provide a processing device for correlating image process information and a printing system including this device, for correlating image process information for optimizing RGB image data for print with the RGB image data when layout data includes the RGB image data.例文帳に追加
レイアウトデータがRGB画像データを含む場合に、当該RGB画像データを印刷用に最適化するための画像処理情報をレイアウトデータにおいてRGB画像データと関連付けする、画像処理情報関連付け処理装置およびこれを含む印刷システムを提供する。 - 特許庁
In order to enable it, different vulcanization processes are prepared in the vulcanization time for one kind of size, and corresponding to a size layout table, a vulcanization process of the shortest vulcanization time common to all sizes is selected for vulcanization.例文帳に追加
これを可能にするため、一種類のサイズに加硫時間に異なる複数の加硫プロセスを準備しておき、サイズ割付表に応じて、もっとも短い、全サイズに共通の加硫時間の加硫プロセスを選択して加硫する。 - 特許庁
To avoid peeling of such a coating as a printed ink and a coating material during slitting in a process for manufacturing a metal drawn cap and improve the efficiency in layout of the metal sheet to be drawn.例文帳に追加
金属用搾りキャップを製造する工程中のスリット加工時に、印刷のインク及びコーティング材等の塗布の剥がれをなくすこと、及び、搾られる金属板の面取りの効率を上げることを提供する。 - 特許庁
To provide a layout for a float glass manufacturing system, which reduces the number of steps (including, for example, packing, unloading, and the like) from a high temperature process to shipping of products in the manufacture of float glass, and is optimum as a continuous line.例文帳に追加
フロートガラスを製造する過程において、高温工程から製品出荷までの様々な工程(例えば、包装、アンローディングなど)を減らし、連続ラインとして最適化なフロートガラス製造システム用レイアウトを提供する。 - 特許庁
To provide a macro automatic arrangement method which is capable of lessening useless wirings and empty regions in number around macros and decreasing a chip in size, and shortening a time required for a layout process by arranging macros properly.例文帳に追加
好ましいマクロの配置をすることによって、マクロ周辺の無駄な配線や空き領域を低減し、チップサイズの縮小化とレイアウト工期の短縮が可能なマクロ自動配置方法を提供することである。 - 特許庁
To provide an apparatus, method and program for predicting layout-wiring-congestion, easily confirming the degree of wiring congestion without any increase in cell area, and remarkably reducing the process delay.例文帳に追加
セル面積の増大を招くことなく、配線混雑度を容易に確認することが可能で、工程遅延を大幅に短縮することが可能なレイアウト配線混雑予測装置およびその方法、並びにプログラムを提供する。 - 特許庁
To provide a technology for measuring the location of an operator or a product, and for displaying their tracks on a two-dimensional layout, and for showing work time or the change of a process with the change of a time.例文帳に追加
作業者や製品の位置を測定し、二次元のレイアウト上に軌跡を表示して、作業にかかった時間や、時刻の変化に対する工程の変化を示すことができる技術の提供を目的とする。 - 特許庁
Furthermore, since the IC 21 loaded to the process cartridge 20 can be removed, it is no longer necessary to secure space for the IC tag 21 and the layout inside the image forming apparatus can be simplified accordingly.例文帳に追加
また、プロセスカートリッジ20に搭載したICタグ21を取り外すことができるので、ICタグ21のスペースを確保する必要がなくなり、その分だけ画像形成装置40内部のレイアウトの簡素化を図る事ができる。 - 特許庁
To provide multiple dwelling houses capable of simplifying a construction process in the multiple dwelling houses, capable of reducing a manufacturing cost, and capable of changing a layout ranging astride stories in the dwelling houses after constructed.例文帳に追加
集合住宅における建設工程が簡略化でき、製造コストの低減が可能であるとともに、建築後に住戸において階層にまたがるレイアウト変更を行うことが可能な集合住宅を提供すること。 - 特許庁
Cell shape data 17a, cell attribute data 17b and arrangement restriction condition data 17c formed as libraries are stored in the pattern forming device 11 which executes layout data formation processing of process patterns.例文帳に追加
プロセスパターンのレイアウトデータ作成処理を実行するパターン作成装置11には、ライブラリとして作成されたセル形状データ17a、セル属性データ17b及び配置制約条件データ17cが格納される。 - 特許庁
To simplify a manufacturing process, to simplify a circiut layout and to make a circuit operation correct by providing a shift register unit including only either one of p-type transistors or n-type transistors, thereby reducing the number of transistors.例文帳に追加
p型またはn型のいずれかのトランジスタのみを含むシフトレジスタユニットを提供することで、トランジスタ数を減らして製造工程簡略化・回路レイアウトの単純化を図り、さらに、回路動作をより精確とする。 - 特許庁
Image processing by illegal user can be prevented by previously notifying the predetermined document setting state for enabling image process only of the legal users among a plurality of the document setting states corresponding to a plurality of layout states such as position or direction of the predetermined document and by inhibiting image process when the layout state of the predetermined image corresponding to the setting state other than the predetermined setting state.例文帳に追加
所定画像の位置又は向き等の複数通りの配置状態に対応する複数通りの原稿の載置状態の内、画像処理が可能となる原稿の所定の載置状態を正当な使用者のみに予め通知しておき、所定の載置状態以外の載置状態に対応する所定画像の配置状態が得られた場合は画像処理を禁止することにより、不正な使用者による画像処理を防止することができる。 - 特許庁
This automatic design device is provided with a layout information preparing part 1 for arranging a plurality of delay cells by folding them multiple times by using delay cell layout having a plurality of transistor patterns and an rough wiring part 12 for carrying out the rough wiring of the plurality of delay cells by deciding the deviation of the inter-gate capacity of each of the plurality of transistor patterns from the process information.例文帳に追加
複数のトランジスタパターンを有する遅延セルレイアウトを用いて複数の遅延セルを複数回折り返して配置する配置情報作成部11、及びプロセス情報から複数のトランジスタパターンのそれぞれのゲート間容量の偏りを判定して複数の遅延セルの概略配線を行う概略配線部12を備える。 - 特許庁
The photo print providing method includes: an edit menu layout selection process for selecting a prescribed edit menu among multiple kinds of edit menus; and edit processing for displaying the edit menu selected in the edit menu layout selection processing on a tablet display apparatus 13 to allow a user 15 to execute graffiti entries.例文帳に追加
本発明の写真プリント提供方法は、複数種類の編集画面の中から所定の編集画面を選択する編集画面レイアウト選択処理と、編集画面レイアウト選択処理において選択された編集画面を上記タブレットディスプレイ13に表示し落書き入力をユーザ15に実行させる編集処理とを備える。 - 特許庁
In an output device, printed matters having superior color reproductivity, good quality, etc. can be outputted by performing an optimizing process after referencing the added recipe information even though information for performing the optimizing process relating to the RGB image data is not given previously in producing the layout data.例文帳に追加
レイアウトデータの作成時に、あらかじめRGB画像データに対して最適化処理を行うための情報が与えられていなくても、出力装置においては、付加されたレシピ情報を参照して最適化処理を行うことによって、色再現性等に優れた、品質の良い印刷物を出力することができる。 - 特許庁
To provide a highly integrated semiconductor memory device by a method, where a unit cell is lessened in area, a plug is disused to make a manufacturing process easier, and a capacitor and a transistor are arranged at the same position in layout.例文帳に追加
単位セルの面積を減少させることができ、プラグが不要であるので製造工程がさらに容易であり、キャパシタとトランジスタをレイアウト上同位置に配置させることによって高集積化された半導体メモリ素子を提供する。 - 特許庁
To provide s substrate exposing method and substrate exposing device capable of improving the throughput of the exposing process of plural sheet layout exposing substrates to be laid out to one sheet of the exposing substrate inwhich a plurality of cell substrates are arranged and to be exposed.例文帳に追加
セル基板を複数枚、1枚の露光基板に割付けて露光する複数枚取り露光基板の露光処理のスループットを向上させることができる基板露光方法および基板露光装置を提供することにある。 - 特許庁
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