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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > length of exposureに関連した英語例文

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length of exposureの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 134



例文

time of exposurelength of exposure 例文帳に追加

露出時間 - 斎藤和英大辞典

To set the appropriate length of exposure time for each pixel column.例文帳に追加

画素列毎に適切な露光時間の長さを設定できるようにすること。 - 特許庁

In addition, a displacement amount at the start of the exposure is set in response to the length of an exposure time period so that the displacement during the exposure time period is reduced.例文帳に追加

また、露光期間中における変位が小さくなるように、露光期間の長さに応じて露光開始時の変位量を設定する。 - 特許庁

In switching the mode, the length of H and the exposure control value I are each doubled, thereby quadrupling an exposure time E according to the number of synthesized pixels.例文帳に追加

モード切換時に、Hの長さ及び露光制御値Iをそれぞれ2倍することにより、露光時間Eを画素合成数に応じた4倍とする。 - 特許庁

例文

The luminosity of the LED light source is adjusted to obtain appropriate exposure, corresponding to the length of an exposure period TL when the LED light source emits light.例文帳に追加

LED光源の発光する露光期間T_Lの長さに対応して、適切な露出が得られるようにLED光源の光度を調整する。 - 特許庁


例文

The control means determines delay time from the instruction of starting the exposure until the exposure, and calculates the predicted value in accordance with length of the delay time.例文帳に追加

制御手段は、露光の開始が指示されてから露光時までの遅延時間を判定し、該遅延時間の長さに応じた予測値を算出する。 - 特許庁

By using a device capable of adjusting beam intensity across the length of an exposure field, the transmission loss is compensated at exposure.例文帳に追加

露光フィールドの長さにわたってビーム強度を調節することができる装置を使用して、露光時に透過損の補償を行う。 - 特許庁

To position a substrate during exposure with high accuracy by using a laser length measuring system in proximity exposure using a plurality of moving stages.例文帳に追加

複数の移動ステージを用いるプロキシミティ方式の露光において、レーザー測長系を用いて、露光時の基板の位置決めを精度良く行う。 - 特許庁

The exposure time is measured by an exposure time measuring timer 84 and day/night are judged by a day/light judgement part 83 from the length of measuring time.例文帳に追加

この露光時間が露光時間測定タイマー84によって測定され、測定時間の長さから昼夜判定部83により昼夜が判定される。 - 特許庁

例文

The protruding length of the eave portion 207 is ≥0.2 times as the wavelength of the exposure light.例文帳に追加

庇部207の張り出す長さは露光光の波長の0.2倍以上である。 - 特許庁

例文

To provide an electron beam exposure method in which pit width is not varied always independently of pit length.例文帳に追加

ピット長に関係なく、常にピット幅が変化しない電子ビーム露光方法を提供する。 - 特許庁

INSPECTION METHOD OF EXPOSURE MASK AND RECORD MEDIUM RECORDING PROGRAM FOR SEARCHING PLACE TO MEASURE ITS LENGTH例文帳に追加

露光マスクの検査方法および測長箇所を探索するプログラムを記録した記録媒体 - 特許庁

A plurality of video signals, where an exposure value and a focal length to a main subject are different each, are obtained.例文帳に追加

露光量及び主被写体との焦点距離がそれぞれ異なる複数の映像信号を取得する。 - 特許庁

To provide an X-ray diagnostic apparatus and a long-length image generation method, by which the long-length images uniform in X-ray dose can be generated by suppressing the exposure of a subject.例文帳に追加

被検体の被曝を抑えて、X線線量が均一な長尺画像を作成するX線診断装置及び長尺画像作成方法を提供する。 - 特許庁

The illumination control unit also includes a signal supply means for supplying the first rectangular wave signal to the illuminating means when the exposure period is shorter than a fixed length of time whereas it supplies the second rectangular wave signal to the illuminating means when the exposure period is longer than the fixed length of time.例文帳に追加

露光時間が一定時間より短い場合には第1矩形波信号を、露光時間が一定時間以上長い場合には第2矩形波信号を、照明手段に供給する信号供給手段を備える。 - 特許庁

An immersion exposure device is provided with a means for operating an exposure device so as to have the immersion liquid on all target parts of a substrate during a time of substantially the same length or for controlling the exposure quantity to a specific target part based on the length of the time having the immersion liquid on it.例文帳に追加

液浸露光装置において、実質的に同じ長さの時間の間、基板のすべての目標部分がその上に浸漬液を有するように露光装置を動作させること、あるいは特定の目標部分への露光量を、その上に浸漬液を有している時間の長さに基づいて制御する手段を備える。 - 特許庁

To provide an exposure head and an exposure apparatus capable of maintaining a high resolution and achieving a large focal depth by performing multi-focal exposure with light beams which are equal in focal length.例文帳に追加

焦点距離が等しい光ビームで多重焦点露光を行うことで、高い解像度を維持し且つ深い焦点深度を得ることができる露光ヘッド及び露光装置を提供する。 - 特許庁

The exposing means performs preliminary exposure to longer than the circumferential length of the image carrier 1 under a latent image formation condition or exposure condition different from that in normal image formation right before image formation and preliminary exposure conditions are switched by imaging speeds.例文帳に追加

前記露光手段により、画像形成直前に、通常画像形成時と異なる潜像形成条件又は現像条件で像担持体1の周長以上の予備露光を行い、予備露光条件は、作像速度毎に切り替える。 - 特許庁

A hand blurring amount (S_L) of a normal exposure image is estimated from a focal length (f_D) and an exposure time (T_EP) when imaging the normal exposure image as a correction target image.例文帳に追加

補正対象画像としての通常露光画像の撮影時における焦点距離(f_D)と露光時間(T_EP)から通常露光画像の手ぶれ量(S_L)を推定する。 - 特許庁

On the basis of the calculated exposure length, switching of photographing modes and selection of an image to be reproduced in a reproduction mode are carried out.例文帳に追加

この算出された露出長さに基づいて、撮影モードの切替や再生モードにおける再生画像の選択を行う。 - 特許庁

This can manufacture the lengthy flexible board longer than the length of the pattern hole of the exposure mask.例文帳に追加

これにより、露光マスクのパターン孔の長さより長い長尺なフレキシブル基板を製造することができる。 - 特許庁

To obtain a higher effect of panning in contrast with length of exposure time set when performing panning.例文帳に追加

流し撮りに際して設定される露光時間の長さに比して、より高い流し撮り撮影の効果が得られるようにする。 - 特許庁

A zoom system constituted in a form of a focal-length zoom lens for an illumination device of a microlithgraphic projection exposure system is disclosed.例文帳に追加

焦点距離ズームレンズの形状で構成されるマイクロリソグラフ映写露光システムの照射装置のためのズームシステムが開示される。 - 特許庁

To make constant the length of a cut-out sheet piece as far as possible while exposure of cords is suppressed effectively.例文帳に追加

コードの露出を効果的に抑制しながら切り出されたシート片の長さを可能な限り一定長とする。 - 特許庁

The material of the present invention is characterized by improved run length and can be used as a printing plate just after exposure.例文帳に追加

本発明に従う材料は向上したランレングスを特徴とし、露出の直後に印刷版として用いることができる。 - 特許庁

To improve throughput while forming a high-resolution pattern without lowering scanning speed and extending the length of an exposure pitch.例文帳に追加

走査速度の低下、露光ピッチの長さ拡張等することなく、高解像度パターンを形成しながらスループットを向上させる。 - 特許庁

To print, without increasing the size of a processor, a photograph which has a feed length greater than a distance from a cutter to an exposure section.例文帳に追加

装置を大型化することなく、カッターから露光部までの距離よりも大きな送り長さ寸法を有する写真をプリントする。 - 特許庁

To prevent an increase in a floor possession area, to suppress an increase in the length of a cable, and to improve exposure accuracy.例文帳に追加

床面占有面積の増加を防ぎ、且つケーブル類の長尺化を抑制して露光精度の向上を図る。 - 特許庁

The exposure length of the model 17 exposed in the tunnel 11 can be freely changed by driving the cylinder 22 to move the floor member 13 vertically.例文帳に追加

シリンダ22を駆動して床部材13を上下動させれば、風洞11内に露呈する模型17の露出長を自由に変更できる。 - 特許庁

In this case, the period of the commercial AC power supply can be made coincident with the exposure period by setting the period to be corrected and the time length to be corrected.例文帳に追加

この際、補正を行う周期と補正すべき時間長との設定により、商用交流電源周期と露光周期とを一致させることができる。 - 特許庁

LENGTH MEASURING METHOD BY LASER BEAM PROPAGATING THROUGH SOLID, AND METHOD OF EXPOSURE AND PATTERNING BY USING THE SAME LASER BEAM例文帳に追加

固体を伝搬するレーザ光による測長方法及びそのレーザ光による露光とパターニング方法 - 特許庁

In a method of controlling an automatic exposure, a location of a scene is judged, and an exposure length is set to be an integer times as long as half period of an AC current that is usually used in the location of the scene.例文帳に追加

自動露出を制御する方法において、シーンの所在地を判定し、シーンの所在地で通常使用される交流電流の半周期の整数倍に等しく露出長を設定する。 - 特許庁

The structural requirements and exposure conditions of the photoreceptor are controlled to satisfy 0.1<3.75×10-3L/λ<d/λ<0.5, wherein d is the average particle diameter of the inorganic filler added to the protective layer, λ is the wavelength of the laser light and L is the minor axial length of the exposure spot.例文帳に追加

ここでは感光体の構成要件、露光条件を、0.1<3.75×10-3L/λ<d/λ<0.5(d:保護層に添加する無機フィラーの平均粒径、λ:レーザー波長、L:露光スポットの短軸長)を満たす様に構成し上記課題を解決する。 - 特許庁

The plurality of measurement points are arranged over a length substantially equal to or longer than the width of an exposure slit of an exposure station in a non-scanning direction.例文帳に追加

複数の計測ポイントは、露光ステーションにおける露光スリットの非走査方向の幅とほぼ等しいか、又はそれ以上の長さにわたって配置されている。 - 特許庁

To suppress uneven exposure of photo-sensing material caused by the difference of wave length among a plurality of lights for sensing material for exposure by a light quantity control method and the device.例文帳に追加

光量調節方法および装置において、感光材料を露光するための、複数の光の互いの波長の相違によって生じる感光材料の露光ムラを抑制する。 - 特許庁

To exhibit function as a buffer after exposure to the maximum and to enlarge a length dimension of an image forming medium capable of performing treatment without generating unevenness of exposure as much as possible in an image forming device A in which a loop is formed on a part of paper P and is functioned as the buffer after exposure.例文帳に追加

ペーパーPの一部にループを形成して、露光後バッファとして機能させるようにした画像形成装置Aにおいて、その露光後バッファとしての機能を最大限に発揮させ、露光ムラを生じることなく処理可能な画像形成媒体の長さ寸法を可及的に大きくする。 - 特許庁

The length of an independent exposure part in the power feeling wire 18a is shortened by the conductive sleeve 22 to that adverse influence due to the transmission/reception of radio wave is reduced in the exposure part.例文帳に追加

この導体スリーブ22により、給電線18aが単独で露出する部分の長さを短くすることができ、この露出部分における電波の送受信による悪影響を低減できる。 - 特許庁

To provide an exposure device that can conform to shielding of light in various regions different in length along a transportation direction without complicating structure of a light-shielding mechanism in small mask continuous exposure.例文帳に追加

小型マスク連続露光において、遮光機構の構造を複雑にすることなく、搬送方向の長さが異なる様々な領域の遮光に対応できる露光装置を提供する。 - 特許庁

The length of one end of a mask cell is set smaller than a resolution-limit length of an optical system of an exposure device using the photomask 10.例文帳に追加

マスクセルの一辺の長さは、当該フォトマスク10が用いられる露光装置の光学系の解像限界となる長さより小さく設定されている。 - 特許庁

The exposure position P by the exposure means 40 and the heating start position by the heating means 50 are set at a spacing nearer than the length in the feed direction of the films 154 in this device, by which the exposure processing and the heat treatment may be simultaneously carried out in parallel.例文帳に追加

この装置では、露光手段40による露光位置P及び加熱手段50による加熱開始位置をフィルム154の送り方向長さより近い間隔に設定しており、露光処理及び加熱処理を並行して同時に行うことができる。 - 特許庁

The image forming apparatus includes a winding mechanism 8 for temporarily winding the paper P, whose length is equal to or exceeding a prescribed length in a storage cavity S arranged on the downstream side of the exposure engine 7.例文帳に追加

露光エンジン7よりも下流側に設けられた収容空間部S内に、所定長さ以上のペーパーPを一時的に巻き取るための巻き取り機構8を設ける。 - 特許庁

A winding mechanism 8 for temporarily winding a paper P whose length is equal to a prescribed length or more is provided in a storage cavity S arranged on the downstream side of an exposure engine 7.例文帳に追加

露光エンジン7よりも下流側に設けられた収容空間部S内に、所定長さ以上のペーパーPを一時的に巻き取るための巻き取り機構8を設ける。 - 特許庁

The image forming apparatus includes the winding mechanism 8 for temporarily winding a paper P, whose length is equal to or exceeding a prescribed length arranged in a storage cavity S formed on the downstream side of an exposure engine 7.例文帳に追加

露光エンジン7よりも下流側に設けられた収容空間部S内に、所定長さ以上のペーパーPを一時的に巻き取るための巻き取り機構8を設ける。 - 特許庁

The relation between the output value outputted from a light receiving part 20 when the light receiving part 20 received a light associated with light quantity and wave length leading to a predetermined specific certain exposure level of the sensing material 1, and the wave length is stored in an output wave length memory 40.例文帳に追加

感光材料1の露光レベルを予め定められた所定の一定露光レベルにせしめる光量と波長との関係を有する光を受光部20で受光したときの受光部20から出力される出力値と上記波長との関係を出力波長記憶部40に記憶させる。 - 特許庁

When the exposure beam is not irradiated, the position of the counter stage is properly corrected so that a movement stroke of the counter stage for the exposure thereafter can be obtained by means of a correction device (45A1, etc.), and thereby the stroke length required for the counter stage can be shortened.例文帳に追加

また、露光ビームが照射されていないときには、補正装置(45A1等)によって適宜、その後の露光動作のためのカウンタステージの移動ストロークを確保するように、カウンタステージの位置が補正されるので、カウンタステージ用として確保しなければならないストローク長を短くすることができる。 - 特許庁

When the upper unit 14 is closed, a roll 96 disposed on the main scanning exposure unit 30 abuts the outer peripheral surface of a platen roll 26 and the positions of the main scanning direction and sub-scanning direction and exposure focal length with respect to the platen roll 26 are determined.例文帳に追加

上部ユニット14を閉じると、主走査露光ユニット30に設けられたロール96がプラテンロール26の外周面に当接し、プラテンロール26に対して主走査方向、副走査方向の位置、及び露光焦点距離が決定される。 - 特許庁

The imaging apparatus acquires an image signal in a luminous quantity detection frame with a length of an exposure time (1/500 second) shorter than an ordinary exposure time (1/30 second) just after half depression (S1 ON) of a shutter button in live view imaging before main photographing.例文帳に追加

撮像装置では、本撮影前のライブビュー撮像時においてシャッターボタンの半押し操作(S1オン)が行われた直後に、通常の露光時間(1/30秒)より短い露光時間(1/500秒)の光量検出フレームで画像信号を取得する。 - 特許庁

When the paper presence/absence detecting sensor 4 detects the absence of paper at a position shorter than the length of paper corresponding to the paper size recognized at the time of paper feeding operation, the length of the paper is calculated, the exposure time in the image forming part is shortened and the image forming operation is continued until ejecting the paper.例文帳に追加

給紙動作時に認識した用紙サイズに対応する紙長さより短い位置で紙有無検知センサ4が紙無しを検知した場合、用紙の長さを割り出して画像形成部における露光時間を短くし、画像形成動作を用紙が排出されるまで継続させる。 - 特許庁

Thus, reset timing can be set for each line, and, for example, the appropriate length of exposure time can be set for each pixel column, unlike a method for sequentially resetting each line and setting the same exposure time in the whole lines.例文帳に追加

そのため、ライン毎にリセットタイミングを設定することができ、例えば、単に1ラインずつ順次リセットさせて全てのラインに同じ露光時間を設定する方法と異なり、画素列毎に適切な露光時間の長さを設定することができる。 - 特許庁

例文

The digital camera (1) includes a vibration type low pass filter means (14) for vibrating an object image on an imaging device (13), and a control means (15) for setting the driving frequency of the vibration type low pass filter means (14) during the exposure of the imaging device (13) in accordance with the length of the exposure period of the exposure.例文帳に追加

本発明のディジタルカメラ(1)は、撮像素子(13)上の被写体像を振動させる振動型ローパスフィルタ手段(14)と、前記撮像素子(13)の露光時における前記振動型ローパスフィルタ手段(14)の駆動周波数を、その露光期間の長さに応じて設定する制御手段(15)とを備えたことを特徴とする。 - 特許庁

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