「light pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(129ページ目) - Weblio英語例文検索

In the game machine, any one of a plurality of kinds of presentation patterns is determined based on whether an internal winning combination related to a specific symbol combination is stored or not by a carry-over means, and the determined presentation pattern is executed with the output of light.例文帳に追加

遊技機は、持越手段により特定の図柄の組合せに係る内部当籤役が記憶されているか否かに基づいて、複数種類の演出パターンの中から何れかを決定し、決定される演出パターンを光の出力により実行するようにした。 - 特許庁

The wearable robot 1 emits light diagonally forward down in a predetermined shape pattern to project an image, photographs the image, detects a level difference between a comb plate at the end and the step plate, on the basis of the distortion of the image, and calculates a distance between the comb plate and the step plate to be fed.例文帳に追加

装着型ロボット１は、所定形状パターンの光を前進方向斜め下に照射して像を投影してこれを撮影し、その像の歪みから乗口の櫛板と踏板の段差を検出し、櫛板から繰り出される踏板までの距離を算出する。 - 特許庁

To provide a projection aligner, which corrects the irrotational symmetric property of the optical characteristics of a lens that accompanies a thermal change in the lens due to the absorption of exposure light by an aligner using a step-and scan system and can obtain a high-resolution pattern image, and to provide a method of manufacturing a device using the projection aligner.例文帳に追加

ステップアンドスキャン方式を用いた露光装置で露光光吸収によるレンズの熱的変化に伴う光学特性を補正し、高解像度のパターン像が得られる投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法を得ること。 - 特許庁

When causing display patterns 2, 3 to be emitted, a constant current is passed through display patterns as the object of light emission, by impressing a voltage between the positive electrode and negative electrode thereof, and at this time, divided positive electrodes of the same fixed display pattern (any one of 2A to 2E) are driven synchronously.例文帳に追加

表示パターン２，３を発光する場合には、発光対象となる表示パターンの陽極と陰極との間に電圧を印加して定電流を流し、その際、同一の固定表示パターン（２Ａ〜２Ｅのいずれか）において分割された陽極は同期駆動する。 - 特許庁

To correct color slippage by detecting the difference of reflection ratio between each color slippage pattern transferred to a transporting body by a little light quantity and a transporting body itself, without being influenced by a surface state of the transporting body and a transfer plane color on the transporting body.例文帳に追加

搬送体の表面状態に左右されることなく、かつ、搬送体の転写面色に左右されることなく、僅かな光量で搬送体に転写される各色ずれパターンと搬送体自体との反射率の差異を検知して色ずれを補正することである。 - 特許庁

To provide a method for producing a printing plate by which a stable fine image pattern can be reproduced by improving the adhesive property of a light shielding ink to a photosensitive printing plate material and to provide a screen printing plate and a gravure printing plate each produced using the method.例文帳に追加

遮光性インクの感光性版材へのインク付着性を向上させることにより、安定且つ精細な画像パターンの再現を可能とする印刷版の製造方法並びにそれを用いて製造されたスクリーン印刷版及びグラビア印刷版を提供する。 - 特許庁

The optical element 200 includes a glass optical system 202 having 1,000 μm or less of thickness between the first surface and the second surface, and a pattern 203 arranged on the first surface of attenuating the light incident into the first surface of the glass optical system 202.例文帳に追加

光学素子200が、第１の表面と第２の表面との間において１０００ミクロン以下の厚さを有するガラス光学系202と、ガラス光学系202の第１の表面に入射する光を減衰させる、第１の表面に配置されているパターン203とを包含する。 - 特許庁

A marker beam for showing a reading position irradiated to a reading target by the marker beam irradiating unit 16 is composed of four L-shaped patterns corresponding to four corner parts of an imaging field of view of a light receiving sensor and a cross-shaped pattern showing its center.例文帳に追加

マーカ光照射部１６により読取対象に対して照射される読取位置を示すためのマーカ光は、受光センサの撮像視野の４つのコーナー部に対応した４個のＬ字状のパターンと、その中心部を示す十字状のパターンとからなる。 - 特許庁

On the placing pattern 2a of a metallic lead frame 2, a recessed section 5 having a smaller size than the bottom face 4 of the semiconductor light emitting element 3 has is provided and filled up with a wavelength converting material 7, and the element 3 is placed on the material 3.例文帳に追加

金属製のリードフレーム２の載置パターン２ａに半導体発光素子３の底面４の大きさよりも小さい凹部５を設け、この凹部５に波長変換材料７を充填し、この波長変換材料７の上に半導体発光素子３を載置する。 - 特許庁

To solve the problems of a performance-improving the technique for microfabrication of a semiconductor element or the like that uses ultraviolet radiation, excimer laser light, an electron beam or the like, and to provide a positive photosensitive composition, having high sensitivity and high resolution and satisfying a good pattern profile.例文帳に追加

紫外線、エキシマレーザー光、電子線等を使用する半導体素子等の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度かつ高解像性、良好なパターン形状を満足するポジ型感光性組成物を提供する。 - 特許庁

A thin film layer 11 composed of black ceramic is formed on the circumferential part of the surface of the driver's cab side of a glass window attached to the window frame of an driver's cab of a vehicle, and a light shielding thin film layer 12 having a punctiform pattern which is composed of the black ceramic is formed on the surface.例文帳に追加

車両の運転室の窓枠に取り付けられる運転室用ガラスの室内側の表面に、周縁部の黒色セラミックよりなる薄膜層１１を形成するのと同時に、遮光用の黒色セラミックよりなる点状の薄膜層１２を形成する。 - 特許庁

The exposure method comprises: making a beam from a light source scan an exposure object via an optical element LG; and exposing a pattern PA1 whose region is enlarged on the exposure object in a direction approximately perpendicular to the scanning direction X, via the optical element on the exposure object.例文帳に追加

この露光方法は、光源からの光を光学素子ＬＧを介して走査するとともに、光学素子を介することでその走査方向Ｘと略直交する方向に被露光物上で領域が拡大したパターンＰＡ１を被露光物上に露光する。 - 特許庁

Further, the distance between a concave surface 45a of the column body 45 and each photoreflector 46 varies as the column body 45 moves in a percussion direction, and the light emission intensity of the column body 45 varies, which is viewed as a percussion pattern in meshes of the head 12 through the tube body 41.例文帳に追加

また、柱体４５が、打撃方向に移動するのに応じて、柱体４５の凹面４５ａとフォトリフレクタ４６との距離が変化し、柱体４５の発光強度が変化し、それが、打撃態様として、チューブ体４１を介して、ヘッド１２の網目から視認される。 - 特許庁

A light absorbable pattern 95 of a gray level image is formed on the surface of a base material layer 91 corresponding to the rear surface of the layer 92 of the sheet 9 based on distance image data or the like expressing a stereoscopic shape regarding the image 97.例文帳に追加

また、発泡性シート９の発泡層９２の裏面に相当する基材層９１の表面上に、平面画像９７に関する立体形状を表現した距離画像データなどに基づき、濃淡画像の光吸収性パターン９５を形成する。 - 特許庁

The method for operating the computer input device with the context-awareness function includes steps for detecting sound source data from a sound source control module 104 of a computer system and driving an input device 114 based on the sound source data to generate a corresponding light emission pattern.例文帳に追加

コンテキストアウェアネス機能を備えるコンピュータ入力装置の操作方法は、コンピュータシステムの音源制御モジュール１０４からの音源データを検出するステップと、音源データを基に、入力装置１１４を駆動し、対応した発光パターンを生成するステップと、を含む。 - 特許庁

When a photosensitive resist 2 is exposed through a mask 1 having optical windows 11, 12 and an isolated light shield 142 and developed to form an isolated resist pattern 22, a mask width W10 of the shield 142 is set to 80-97% of an exposure wavelength λ.例文帳に追加

光学的窓１１，１２及び孤立遮光体１４２を有するマスク１を通して感光性レジスト２を露光し、現像して孤立レジストパターン２２を形成する際、孤立遮光体１４２のマスク幅Ｗ１０を、露光波長λの８０〜９７％にする。 - 特許庁

During such a process that a solder resist 4a is applied and tentatively hardened onto an insulated substrate 2 on which a conductor pattern 3 is formed and the solder resist 4a is exposed to ultraviolet radiation through an exposure mask film 5, ultraviolet light is selectively diffused to form a solder resist 4.例文帳に追加

導体パターン３が形成された絶縁基板２上にソルダレジスト４ａを塗布、仮硬化し、露光用マスクフィルム５を介しソルダレジスト４ａを紫外線で露光する工程において、紫外光を選択的に拡散させてソルダレジスト４を形成する。 - 特許庁

A bearing member 4 to support respective one ends of guide shafts 6, 7 is attached to the chassis 1 with the inclination of the member 4 adjustable, and the bearing member 4 is provided with a part 14 to arrange the light receiving and emitting element 12 to detect the encode pattern on the back face of the turntable 2.例文帳に追加

ガイドシャフト６，７の一端を支持する軸受け部材４をシャーシ１に対して傾き調整可能に取り付ける共に，ターンテーブル２裏面のエンコードパターンを検出する受発光素子１２を設置する設置部１４を前記軸受け部材４に設ける。 - 特許庁

The light- shielding paint 20 supplied on a paint supply face 23b of the plate 21 is made to pass through the pattern 30 as the plate 21 is moved toward the connecting direction with the outer tube 12 and the outer tube 12 is rotated with the plate 21 and the outer tube 1 in contact with each other.例文帳に追加

版２１と外管１２との接触下で、版２１を外管１２の接線方向に移動させるとともに外管１２を回転させながら、版２１の塗料供給面２３ｂ上に供給された遮光塗料２０をパターン３０に通過させる。 - 特許庁

The recording and reproducing device performs recording by a multiphoton absorption process to a recording material in a multilayer recording medium, wherein the interference pattern of recording light is generated and consequently a fine structure is introduced to a recording mark in the multilayer recording medium.例文帳に追加

多層記録媒体中の記録材料に多光子吸収過程により記録を行う記録再生装置において、記録光の干渉パターンを生じさせることにより、前記多層記録媒体中の記録マークに微細構造を導入した構成となっている。 - 特許庁

As the photomask 2, a general purpose polyester film coated with a photosensitive material is used, and after a pattern is formed, it is brought into close contact with a mold 1' molded into the same shape as that of the mold 1 by vacuum molding or the like and coated with a photoresist, and is exposed to a light and is then, developed.例文帳に追加

フォトマスク２として汎用のポリエステルフィルム上に感光性材料を塗布したものを用い、パターン形成後、真空成形等で金型１と同じ形状に成形してフォトレジストを塗布した金型１´と密着、露光、現像するようにした。 - 特許庁

After a resist film 101 composed of a chemically amplified resist material is formed, a resist film 102 is exposed to a pattern by selectively projecting exposing light 104 upon the film 102 in a state where a solution 103 containing a basic compound is supplied to the surface of the film 102.例文帳に追加

化学増幅型レジスト材料よりなるレジスト膜１０１を形成した後、塩基性化合物を含む溶液１０３をレジスト膜１０２の上に供給した状態で、露光光１０４をレジスト膜１０２に選択的に照射してパターン露光を行なう。 - 特許庁

A lighting tool system 100 for a vehicle includes: a lighting tool for an vehicle 70 in which a cutoff line extended in the vehicle width direction can be moved in the vertical direction in a light distributing pattern for a low beam; and a control part which controls the movement quantity of the vertical direction of the cutoff line.例文帳に追加

車両用灯具システム１００は、ロービーム用配光パターンにおいて車幅方向に延びるカットオフラインを上下方向に移動可能な車両用灯具７０と、カットオフラインの上下方向の移動量を制御する制御部と、を備える。 - 特許庁

An image of the measuring object projected by this light pattern is shot with a camera and a phase ϕ1 corresponding to the sine signal with the basic cycle and a phase ϕ2 corresponding to the sine signal with the double cycle are calculated based on this image shot.例文帳に追加

このような光パターンが投射された計測対象物体を画像をカメラで撮影し、この撮影した画像に基づいて、基本の周期の正弦波信号に対応する位相φ_１と２倍の周期の正弦波信号に対応する位相φ_２とが計算される。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition capable of forming a resist pattern good in sensitivity and resolution at the time of using an exposure light of ≤250 nm, especially, ≤220 nm, and by using a specified resin which has repeated units and is decomposed by acid to increase solubility to alkaline developing solution.例文帳に追加

２５０ｎｍ以下、特に２２０ｎｍ以下の露光光源の使用時に、良好な感度及び解像度で、密着性に優れた現像欠陥の少ないレジストパターンを与え、更に充分な耐ドライエッチング性を示すポジ型感光性組成物を提供すること。 - 特許庁

To reliably manufacture an elastic wave device to which required marking is performed without causing degradation of characteristics by performing marking to one principal plane of a piezoelectric substrate using laser light without damaging an electrode pattern formed on the other principal plane of the piezoelectric substrate.例文帳に追加

圧電基板の一方主面に形成された電極パターンを損傷することなく、レーザ光を用いて圧電基板の他方主面にマーキングを行い、特性の低下を招くことなく、必要なマーキングが施された弾性波装置を確実に製造できるようにする。 - 特許庁

The formed resist film 102 is pattern-exposed by selective irradiation with exposure light 104 comprising high-energy lines or electron beams of which the wavelength is 100-300 nm band or 1-30 nm band.例文帳に追加

その後、形成されたレジスト膜１０２に対して、波長が１００ｎｍ帯以上且つ３００ｎｍ帯以下若しくは波長が１ｎｍ帯以上且つ３０ｎｍ帯以下の高エネルギー線又は電子線よりなる露光光１０４を選択的に照射してパターン露光を行なう。 - 特許庁

The condensing can be increased in comparison with the conventional device by forming a Fresnel lens pattern 18 for collimating the laser beam L3 from the light emitting parts of the semiconductor laser array 11 correspondingly to the laser emitting parts by etching.例文帳に追加

半導体レーザアレイ１１の各レーザ発光部から出射されたレーザ光Ｌ３をコリメートするためのフレネルレンズパターン１８を、エッチングを用いて各レーザ発光部に対応して形成させることにより、従来よりも集光性能を高めることが可能になる。 - 特許庁

The photomask 100 comprises a substrate 102 having transmitting property for UV rays at predetermined wavelengths and a light shielding layer 104 comprising an organic substance formed in a predetermined pattern above the substrate and not transmitting the UV rays at the predetermined wavelengths.例文帳に追加

フォトマスク１００は、所定波長の紫外光に対して透過性を有する基板１０２と、前記基板の上方に所定のパターンで形成され、かつ、前記所定波長の紫外光を透過しない、有機系物質からなる遮光層１０４と、を含む。 - 特許庁

To provide a torque measuring device capable of cutting out a waveform of a reflection pattern position of reflected light efficiently and accurately even under a condition wherein rotational speed or torque of a rotator is fluctuated greatly, and measuring accurately a torque of a turbine shaft.例文帳に追加

回転体の回転速度やトルクが大幅に変動する条件下でも反射光の反射パターン位置の波形の切り出しを効率的に精度良く行うことができ、精度良くタービン軸のトルクを計測できるトルク計測装置を提供することである。 - 特許庁

A coating film of a UV-curing resin is mixed with plural photosetting initiators having reaction to the wavelength characteristic of a UV light source and different from each other in absorption wavelength pattern and the coating film is efficiently cured by irradiation with UV.例文帳に追加

紫外線硬化型樹脂の塗膜中に、紫外線光源の波長特性に反応する光硬化開始剤であって、吸収波長パターンが相違する複数種類の光硬化開始剤を混入し、紫外線照射により硬化させて効率的な硬化を行う。 - 特許庁

The color shift-reducing optical filter is interposed on the front side of a display panel of the display device, and includes a laminar back ground layer 10 and a green wavelength absorption pattern 20 absorbing the light of green wavelength.例文帳に追加

ディスプレイ装置のディスプレイパネルの前方に具備される光学フィルターであって、層をなすバックグラウンド層（１０）と、上記バックグラウンド層に所定の厚さにて形成され、グリーン波長の光を吸収するグリーン波長吸収パターン（２０）と、を含むカラーシフト低減光学フィルター。 - 特許庁

To solve the problem on techniques to improve the intrinsic performance of microphotofabrication using far-UV rays, particularly ArF excimer laser light and to provide an excellent positive resist composition having low dependence on the pattern density and a wide side robe margin.例文帳に追加

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、疎密依存性が小さく、サイドローブマージンが広い優れたポジ型感光性組成物を提供することにある。 - 特許庁

The remote control signal transmitting section 11 that receives this command, transmits from a light-emitting diode LED an infrared remote control signal of a signal pattern corresponding to the relevant transmission channel stored in a learning function section 13 and remotely controls predetermined controlled system equipment 3.例文帳に追加

この指令を受けたリモコン信号送信部１１は学習機能部１３で記憶している当該送信チャンネルに対応した信号パターンの赤外線リモコン信号を発光ダイオードＬＥＤより送信させ、所定の操作対象機器３をリモコン操作するのである。 - 特許庁

This authenticity determining device for determining the authenticity of the image formation body receives the light of the concealed pattern by a visual observation device and a sensor, calculates the secret image by the operation, and checks the secret image with the prescribed secret image recorded in advance.例文帳に追加

また、画像形成体の真贋を判定する真贋判定装置で、目視で観察する装置、およびセンサで隠しパターンを受光して演算で秘密画像を算出し、予め記録された所定の秘密画像とを照合する真贋判定装置を特徴とする。 - 特許庁

The pattern display device 30 has a liquid crystal panel 31 capable of displaying a variety of patterns, and a storage case 32 storing the liquid crystal panel 31 so as to make the frame portion 38 of the storage case 32 butt against the board cover 75 of the light emission device 71.例文帳に追加

図柄表示装置３０は、各種図柄を表示可能な液晶パネル３１と、液晶パネル３１が収容される収容ケース３２とを備えて、収容ケース３２のフレーム部３８が発光装置７１の基板カバー７５に当接するよう構成される。 - 特許庁

A refraction/reflection pattern is projected from the diamond 3 onto the screen member 4 when illuminating the diamond 3 by a light source 6 on the opening part side of the black box 1 with beam-like white rays through a translucent part 5 formed on a top part of the screen member 4.例文帳に追加

暗箱１の開口部側の光源６により、スクリーン部材４の頂部に形成された透光部５を通じて、ダイヤモンド３に対してビーム状白色光線を照射すると、スクリーン部材４にダイヤモンド３からの屈折反射模様が投影される。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an organic electroluminescent element, and an organic electroluminescent element, in which an organic layer with a pattern formed can be simply formed on a substrate, and having excellent light-emitting efficiency and durability so as the formed organic layer not to mix at an interface.例文帳に追加

基板上にパターンを形成した有機層を簡便に形成できるとともに、形成した有機層が界面で混合しないために発光効率及び耐久性に優れた有機電界発光素子の製造方法及び有機電界発光素子を提供する。 - 特許庁

If the area Sp of the white part is larger than the target area Spt as the result of comparison, the CPU 120 corrects the pattern image for adjustment so that light valve white area Sq is small in order to make the area Sp of the white part small.例文帳に追加

比較した結果、白色部分の面積Ｓｐが目標面積Ｓｐｔより大きい場合には、白色部分の面積Ｓｐを小さくするために、ＣＰＵ１２０は、ライトバルブ白色面積Ｓｑが小さくなるように、調整用パターン画像を修正する。 - 特許庁

A light shielding element that shields the illuminating beam for irradiating parts of the multiply-overlapped-exposure acceptable region is installed in a beam shaping opening to reduce the count of the exposure on the multiply-overlapped-exposure acceptable region, and to consequently mitigate the decrease in contrast of the device pattern on the sensitized substrate.例文帳に追加

ビーム成形開口に、多重重複露光可能領域に当たる部分への照明ビームを遮る遮光部が設け、多重重複露光可能領域に対する露光回数を減らし、感応基板上のデバイスパターンのコントラスト低下を低減する。 - 特許庁

The authentication device serving as the reading means includes an installation part (2) positioned on the visual axis (X) of an imaging means (1), for the inspection target (10) whose vein pattern is to be read, and a light source (3) placed in a position where an optical axis (Y) intersects the visual axis at a predetermined angle (A).例文帳に追加

該読取手段である認証装置は、撮像手段(1)の視線軸(X)上に配置された、静脈パターンを読み取る検査対象(10)の設置部(2)と、該視線軸に対し光軸(Y)が所定角度(A)をなして交差する位置に配置された光源(3)とを備える。 - 特許庁

The exposing filter comprises a transparent substrate 11, a pattern of fine particles of a noble metal 13 formed on the transparent substrate 11, and means for irradiating the fine particles of a noble metal 13 with light in total reflection mode from the transparent substrate 11 side.例文帳に追加

少なくとも、透明体１１と、該透明体１１上に形成された、貴金属微粒子１３からなるパターンと、該貴金属微粒子１３に透明基板１１側から全反射モ−ドで光を照射するための手段を有することを特徴とする露光フィルター。 - 特許庁

The exposure device EX comprises an exposure unit which exposes a substrate P to be exposed with a circuit pattern, and an alignment system 4 provided to penetrate the substrate P and to detect the position of the substrate P by passing light through an alignment mark AM becoming a position reference of exposure.例文帳に追加

本発明の露光装置ＥＸは、露光対象の基板Ｐに回路パターンを露光する露光部と、基板Ｐを貫通して設けられ、露光の位置基準となるアライメントマークＡＭに光を通して基板Ｐの位置を検出するアライメント系４を備える。 - 特許庁

The substrate transfer mechanism 20 used for an exposing device 1 for exposing a pattern P of a mask M on a substrate W by directing an exposing light EL via the mask M to the substrate W lifts up and supports the substrate W and conveys the same in the X direction.例文帳に追加

基板搬送機構２０は、基板Wに対してマスクMを介して露光用光ＥＬを照射し、基板ＷにマスクＭのパターンＰを露光する露光装置１に適用され、基板Ｗを浮上させて支持すると共に、基板ＷをＸ方向に搬送する。 - 特許庁

Visibility of a cholesteric liquid crystal in an authenticity identifying article A is improved by disposing a colored pattern layer 5, which then absorbs unnecessary reflected light, between a relief hologram and a reflective thin film 3 formed on the relief hologram, as well as at a position opposing to the cholesteric liquid crystal 4.例文帳に追加

レリーフホログラムとそのレリーフホログラム上に形成されている反射性薄膜との間であって、コレステリック液晶と相対する位置に、不要な反射光を吸収する着色パターン層を設けることにより、コレステリック液晶の視認性を改善する。 - 特許庁