「light pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(132ページ目) - Weblio英語例文検索

The marker light M is designed to draw a clear pattern on the reading object if the distance from the device to the reading object is within a readable range A of effective reading of a two-dimensional code by a reading mechanism and to defocus in ranges B and C beyond and short of the range.例文帳に追加

このとき、装置から読取対象までの距離が、読取機構により二次元コードの読取りを良好行える読取可能範囲Ａにあるときには、マーカ光Ｍが読取対象に鮮明なパターンを描き、その範囲から遠近に外れた範囲Ｂ、Ｃにおいてはぼけるように構成する。 - 特許庁

The manufacturing method of the light guide plate using a base material made of thermoplastic resin includes a process of forming a pattern on at least one of the surfaces of the base material, and a process of giving curved surface shapes after that by a thermal bending process.例文帳に追加

熱可塑性樹脂からなる基材を用いた導光板の製造方法であって、前記基材の少なくとも一方の表面にパターンを形成する工程と、その後熱曲げ加工により曲面形状を付与する工程と、を有すること特徴とする導光板の製造方法である。 - 特許庁

To adjust the position of reflection light to a sensor pattern on a photo detector smoothly by adding a simple configuration in an optical pickup device for dynamically switching an objective lens where a laser beam enters by a polarization conversion element and a polarization beam splitter.例文帳に追加

偏光変換素子と偏光ビームスプリッタを用いてレーザ光が入射される対物レンズを動的に切り替える光ピックアップ装置において、簡単な構成の追加により円滑に、光検出器上のセンサパターンに対する反射光の位置調整を行えるようにする。 - 特許庁

To provide a defect inspection device having an improved detection ability by inspecting a film or a pattern comprising an inorganic substance/inorganic compound by using a light in a wavelength range suitable for wavelength dependency carried by a refractive index, an extinction coefficient and a surface reflectivity of the substance.例文帳に追加

無機物／無機化合物から成る膜またはパターンを、その物質の屈折率，消光係数、および表面反射率が持つ波長依存性に関して好適な波長範囲の光を用いて検査することにより、向上した検出能力をもつ欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

The regulation of a low beam attitude of the shade 5 in the three directions can regulate the position of the low beam attitude of the shade 5 with high precision to ensure a given low beam light distribution pattern LP with high precision, even without a request for high precision tolerance to the solenoid 6.例文帳に追加

この結果、シェード５のロービーム姿勢を３方向において規制することにより、ソレノイド６に対して高精度の公差を要求しなくとも、シェード５のロービーム姿勢を高精度に位置規制することができ、所定のすれ違い用の配光パターンＬＰが高精度に得られる。 - 特許庁

There are provided: a light transmitting electromagnetic wave shielding film provided with a printing pattern having silver as a main component and an anticorrosive (preferably thiol and a disulfide compound) on a transparent substrate; a film for display panels using the same; an optical filter for display panels; and a plasma display panel.例文帳に追加

透明基材上に、銀を主成分とする印刷パターンと防錆剤（好ましくはチオール及びジスルフィド化合物）とを備えてなることを特徴とする透光性電磁波シールド膜、これを用いたディスプレイパネル用フィルム、ディスプレイパネル用光学フィルター及びプラズマディスプレイパネル。 - 特許庁

In the method for forming a pattern by performing exposure and development with respect to the photosensitive layer, the cover film for photosensitive layer is disposed and used on the photosensitive layer and has a total light transmittance of 70% or higher for a laser beam of wavelength 405 nm.例文帳に追加

感光層に対して、露光・現像を行うことによりパターンを形成する方法において、前記感光層上に配置されて用いられ、４０５ｎｍの波長のレーザ光に対する全光線透過率が７０％以上であることを特徴とする感光層カバーフィルムである。 - 特許庁

The light-scattering film 3 is formed by applying a material prepared by adding a photosensitive resin consisting of an organic material as a binder to an inorganic material such as silicon oxide (silica), aluminum oxide (alumina), titanium oxide (titania) or the like on the surface of the glass substrate 2 and by forming the desired rugged pattern by a photolithographic method.例文帳に追加

光散乱膜３は、酸化珪素（シリカ）、酸化アルミニウム（アルミナ）、酸化チタン（チタニア）等の無機材料にバインダーとして有機材料から成る光感光性樹脂を添加したものをガラス基板２表面に塗布してフォトリソグラフ法により所望の凹凸形状に成形される。 - 特許庁

To solve the problems that the provision of only a head for light-colored ink and a head for a specified color such as gold and silver disables high-speed printing due to an increase in the weight of a carriage, and disables imaging which does not have an influence on an image, in the imaging of a tracking pattern.例文帳に追加

淡いインク用のヘッドや金、銀色などの特定の色のヘッドを備えているだけであるため、キャリッジの重量が増加して高速印字をできなかったり、追跡パターンを印写する場合に画像に影響を与えない印写を行うことができなかったりする。 - 特許庁

The exposure device irradiates a resist film with exposure light through a mask 72 at an exposure section 20 while arranging immersion liquid 71 on the resist film formed on a wafer 70, and an immersion liquid supply section 30 supplies the liquid 71 to the pattern exposure section 20.例文帳に追加

露光装置は、露光部２０において、ウェハ７０上に形成されたレジスト膜の上に液浸用の液体７１を配した状態で、レジスト膜にマスク７２を介した露光光を照射し、液浸用液体供給部３０は液体７１をパターン露光部２０に供給する。 - 特許庁

This lighting device 10 for a vehicle is constructed in such a way that it may form a light distributing pattern P having at least two high lumen regions HZ within an angular range of each of the right and left regions by 20° and each of upper and lower regions by 10° in regard to a front surface direction of the vehicle.例文帳に追加

車両用灯具１０を、該車両用灯具１０からの光照射により、車両正面方向に対して左右各２０°および上下各１０°の角度範囲内に少なくとも２つの高光度領域ＨＺを有する配光パターンＰを形成するように構成する。 - 特許庁

To provide a method and device for acquiring the three-dimensional information capable of enhancing the lamination accuracy of the shape information and surface attribute information of an object photographed by correcting the dislocation of a pattern light photographed image from a normally photographed image.例文帳に追加

本発明は、パターン光撮影画像と通常撮影画像とのずれを補正することによって、被撮影物の形状情報と表面属性情報の張り合わせ精度を向上させることを可能とした３次元情報取得装置及び３次元情報取得方法を提供する。 - 特許庁

To provide a headlight for a vehicle arranged so that a low beam projection is conducted with a light distribution pattern having a horizontal and an oblique cutoff line, capable of heightening a long-range visibility by securing the photo-quantity of a hot zone sufficiently even in the case the vertical width of its reflector is small.例文帳に追加

水平および斜めカットオフラインを有する配光パターンでロービーム照射を行うように構成された車両用前照灯において、たとえそのリフレクタの上下幅が小さい場合であってもホットゾーンの光量を十分に確保して自車線側の遠方視認性を高める。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition for exposure with far UV adaptable to exposure in the far UV region using ArF or KrF as a light source in production of a semiconductor device, ensuring improved dimensional uniformity of a resist pattern and excellent also in various properties as a resist, such as resolving power and focal depth.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、ＡｒＦやＫｒＦを光源とする遠紫外線領域の露光に対応し得、レジストパターンの寸法均一性が改善され、さらに解像力、焦点深度などのレジスト諸特性にも優れた遠紫外線露光用ポジ型感光性組成物を提供する。 - 特許庁

A copper foil 23, which is combined with a polyamide tape 21, is smoothed by applying a first etching treatment (b) to the copper foil 23, then, a photo resist coating (d), a light exposure/developing (e), and a second etching treatment (f) are applied in order, for a specified pattern on a wiring layer 4 to be formed.例文帳に追加

ポリイミドテープ２１と複合化された銅箔２３に第１のエッチング処理（ｂ）を施すことにより銅箔２３の表面を平滑化した後、フォトレジスト塗布（ｄ）、露光・現像（ｅ）および第２のエッチング処理（ｆ）を順に施し、所定のパターンの配線層４を形成する。 - 特許庁

To provide a printed circuit board, small in the reflection of light from an insulating layer (resist layer) on the surface of a printed circuit board, small in the undercut of an opening of an insulating layer pattern formed so as to eliminate a spot or discoloration occurring on the mounting pad at the opening, and suitable for the mounting of a semiconductor chip for imaging.例文帳に追加

プリント配線基板表面の絶縁層（レジスト層）からの光の反射が少なく、形成した絶縁層パターン開口部のアンダーカットが小さく、開口部の実装パッドに生じるシミや変色のない撮像用半導体チップの実装に適したプリント配線基板の提供。 - 特許庁

The drawing head 40 is provided with a DMD (digital micromirror device) having a group of micromirrors 9 to modulate reflected light, and a pattern is drawn, by irradiating the substrate 9 with a spatially modulated beam from the drawing head 40, while relatively moving the substrate 9 with respect to the drawing head 40.例文帳に追加

描画ヘッド４０には、反射光を変調する微小ミラー群を有するＤＭＤが設けられ、基板９が描画ヘッド４０に対して相対的に移動しつつ、描画ヘッド４０から空間変調された光が基板９上へ照射されることによりパターンの描画が行われる。 - 特許庁

The objective leather-like sheet has the surface layer comprising gigged and colored ultra fine fiber of ≤0.4 decitex and polymer which is solid at normal temperature, melts at ≥60°C and has ≤10% elongation at break and characteristically has a light and shade pattern caused by variation in the polymer distribution.例文帳に追加

表層が、着色された０．４デシテックス以下の極細繊維立毛と常温で固体で融点が６０℃以上でかつ破断伸度が１０％以下であるポリマーからなり、該ポリマーの存在状態の差により、濃淡模様を有していることを特徴とする皮革様シート。 - 特許庁

When the wave length λ and the angle ϕ of the light to be used are properly set, the same interference fringe patterns are generated repeatedly and periodically in the direction of Y-axis within the unit region Cm and, therefore, the computing is performed only for the pattern of one cycle, which are duplicated as much as necessary.例文帳に追加

用いる光の波長λおよび角度φを適当に設定すると、単位領域Ｃｍ内には、Ｙ軸方向に同一の干渉縞パターンが周期的に繰り返し生じることになるので、１周期分のパターンについてのみ演算を行い、これを必要な分だけ複製する。 - 特許庁

To prevent light irradiated on a finger from entering an optical image from inside of the finger due to reflection on a surface skin of the finger, to obtain a vivid image of a vein pattern, in a vein image reader for reading an optical image of a vascular tissue in the illuminated finger by a solid imaging device.例文帳に追加

照明された指内部の血管組織の光学画像を固体撮像素子により読み取るための血管画像読み取り装置において、指への照射光が指の表皮で反射して指内部からの光学画像に混入することなく、鮮明な血管パターンの画像を得る。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition having improved use efficiency of light, high sensitivity to i-line and h-line rays, showing proper pattern features and proper raw preservability, and to provide a photosensitive film containing the photosensitive composition and a method for manufacturing a printed board by using the photosensitive composition.例文帳に追加

光の利用効率を向上させ、ｉ線及びｈ線の感度が高く、パターン形状が良好で、生保存性も良好な感光性組成物、該感光性組成物を含む感光性フィルム、及び、該感光性組成物を用いたプリント基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

Besides, high-frequency components of respective transmissive grooves G1 to G5 are superposed on effective values of variation components corresponding to a basic period applied on the illumination light by the alternating transmission pattern, consequently, such the trouble that flickering remarkably arises is prevented following the mitigation of the moving image blurring.例文帳に追加

また、交番する透過パターンによって照明光に与えられる基本周期に対応する変動成分実効値に対して各透過溝Ｇ１〜Ｇ５の高周波成分を重畳することになり、動画ボケの緩和に伴ってフリッカが顕著になることを防止できる。 - 特許庁

An exposure apparatus using an immersion lithography method includes a projection lens 31 for projecting an exposure light which transmits through the mask 22 having a design pattern to a resist film, and a solution supply unit 40 for temporarily storing an immersion solution 21A disposed between the resist film and the lens.例文帳に追加

浸漬リソグラフィ法を用いる露光装置は、設計パターンを有するマスク２２を透過した露光光をレジスト膜に投影する投影レンズ３１と、レジスト膜とレンズとの間に配する浸漬溶液２１Ａを一時的に貯留する溶液供給部４０とを含んでいる。 - 特許庁

In response to an access request from a reader/writer device 16 to information stored in a storage part 25 of an IC card part 10, a CPU 8 controls the light emission of an LED display part 3 with a pattern corresponding to the attributes of the access-requested information according to an IC card access display program 15.例文帳に追加

ＣＰＵ８が、ＩＣカードアクセス表示プログラム１５に従って、ＩＣカード部１０の記憶部２５内に記憶されている情報に対するリーダ／ライタ装置１６からのアクセス要求に応じて、アクセス要求された情報の属性に応じたパターンでＬＥＤ表示部３を発光制御する。 - 特許庁

The method includes a step of arranging a mask 1 and a glass substrate 12 in opposed relationship through a gap and transmitting monochromatic light through the glass substrate 12 to irradiate the mask 1 with it, and a step of discriminating the quality of the mask 1 on the basis of the interference fringe pattern formed between the mask 1 and the glass substrate 12.例文帳に追加

マスク１とガラス基板１２とを間隙を介して対向配置し、ガラス基板１２を透過させてマスク１に単色光を照射する工程と、マスク１とガラス基板１２との間に形成された干渉縞パターンに基づいてマスク１の良否を判別する工程とを備える。 - 特許庁

The jacket 12 is stripped by beaming laser light 23 on the jacket 12 to create a notched groove 15 and going through a notching step A, to form a jacket stripping section 14 in a desired pattern, and a punching step B in which the jacket stripping section is pressed with a pressing tool 31.例文帳に追加

被覆材１２にレーザ光２３を照射して切込溝１５を入れることにより、所望パターンの被覆材除去部１４を形成する切込工程Ａと、被覆材除去部１４を押圧工具３１で押圧するパンチ工程Ｂとを経て、被覆材１２を皮剥ぎする。 - 特許庁

In the optical path of the lighting optical system, the illuminating light projected upon the mask 27 is transformed to at least two luminous fluxes, which are inclined by the angles which vary depending upon the fineness of the pattern by means of a luminous flux transforming member 12 provided at a position, which is nearly conjugate to the mask 27 or its vicinity.例文帳に追加

そして、照明光学系の光路中で、マスクと略共役な位置またはその近傍に設けられる光束変換部材１２によって、マスクに照射する照明光を、パターンの微細度に応じて決まる角度だけ傾いた少なくとも２つの光束に変換する。 - 特許庁

To solve the problem wherein, when inspecting a defect by an image acquired by imaging a surface of a polycrystal silicon wafer such as a solar cell wafer by an imaging device, a pattern of a crystallite of the silicon wafer is imaged in a normal visible light illumination, and thereby discrimination from a defect existing on the surface is difficult.例文帳に追加

太陽電池ウェーハなどの多結晶シリコンウェーハの表面を撮像装置で撮像した画像によって欠陥検査を行う場合、通常の可視光照明では、シリコンウェーハの結晶体の模様が撮像されて、表面にある欠陥との判別が困難である。 - 特許庁

To provide an exposure mask for an aligner capable of approaching to a photoresist film with a light shielding pattern formed on a surface of a substrate to be processed when exposed, closely thereto or under a condition near to a close contact, even when protruded contamination exists on the surface of the substrate to be treated, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

被処理基板の表面に突起状の異物が存在しても、露光の際に遮光膜パターンを被処理基板の表面に形成されたフォトレジスト膜に密着、或いは密着に近い状態で接近させることが可能なアライナ用露光マスク及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

Therefore, although the eight kinds of sheets, when visually observed, seem to have the same pattern which is recognized as a design glittered by reflected light in the grooves, codes embedded therein can be recognized with the area of the thick black line as "1" and the area of the thin black line as "0" by mechanical image reading.例文帳に追加

このため、肉眼観察時には、８種類のシートは、同一の模様を有し、溝内の反射光によりキラキラ光るデザインとして認識されるが、機械により画像を読み取れば、太い黒線の領域が「１」、細い黒線の領域が「０」として、埋め込まれたコードが認識される。 - 特許庁

A start switch 5 starting an engine of the vehicle is provided with an infrared light source 13 irradiating an infrared ray of wavelength which is absorbed in reduced hemoglobin of blood, and an image pick-up element 12 receiving the infrared ray and picking up an image, thereby carrying out individual authentication by a blood vessel pattern.例文帳に追加

車輌のエンジンを始動するスタートスイッチ５に血液の還元ヘモグロビン成分に吸収される波長の赤外線を照射する赤外線光源１３と、この赤外線を受光して撮像を行う撮像素子１２とを備えて血管パターンによる個人認証を行う。 - 特許庁

The interference type filter layers 31, 32 and 33 for B, R and G are respectively pattern-formed corresponding to a pixel electrode 41b for B, a pixel electrode 41r for R and a pixel electrode 41g for G and laminated each other through light transmissive interlayer films 35, 36 and 37.例文帳に追加

Ｂ，Ｒ，Ｇ用の干渉型フィルタ層３１，３２，３３を、それぞれＢ用の画素電極４１ｂ，Ｒ用の画素電極４１ｒ，Ｇ用の画素電極４１ｇに対応してパターン形成し、これらをそれぞれ透光性の層間膜３５，３６，３７を介して互いに積層する。 - 特許庁

(1) This is a manufacturing method of a flexible optical disk to be irradiated with light intermittently in a process in which a concavo-convex minute pattern of a stamper is transferred to a transfer layer which includes a photocurable resin in manufacturing the flexible optical disk which has at least a film substrate, a transfer layer and a recording layer.例文帳に追加

（１）少なくとも、フィルム基板と転写層と記録層を有するフレキシブル光ディスクを作製するに当り、スタンパの凹凸微細パターンを光硬化性樹脂からなる転写層に転写する工程において、断続的に光を照射するフレキシブル光ディスク作製方法。 - 特許庁

Or, the environment of the film is changed, temporarily retained on a surface of a cathode ray tube 9, a light is emitted from the tube 9, and the presence or absence or a moire-like protrusion and recess surface generated by interfering with its black matrix pattern is visually inspected, thereby detecting the presence or absence of the irregularities on the surface of the film.例文帳に追加

または、機能性フィルムの設置環境を変化させて陰極線管の表面に仮留めし、陰極線管を発光させてそのブラックマトリクスパターンと干渉して発生するモアレ状のムラの有無を目視で検査して、機能性フィルム表面の凹凸の有無を検出する。 - 特許庁

A positive-type photosensitive material 7 is applied over an entire front face 1a of the substrate 1, and exposure is carried out from the rear face 1b side of the substrate 1 through a diffusion plate 9 to make irradiate the positive-type photosensitive material layer 7 irradiated in a wide angle manner light from the openings of the pattern 3a (D).例文帳に追加

表面１ａ上全面にポジ型感光性材料７を塗布した後、石英基板１の裏面１ｂ側から拡散板９を介して露光し、露光を遮光膜パターン３ａの開口部分から広角的にポジ型感光性材料層７に照射する（Ｄ）。 - 特許庁

Thus, only the pattern information is visually recognized in an ordinary viewing state and, when irradiated with two types of light sources having the irradiation angle suitable for the two types of diffraction gratings, a concealed image is decrypted and becomes readable since two encrypted images are visually recognized simultaneously.例文帳に追加

これにより、通常の観察状態では絵柄情報のみが視認されるが、前記２種の回折格子に適合した照射角を持つ２種の光源が照射された際には、２つの暗号画像が同時に視認されるため隠蔽された画像が復号され判読可能となる。 - 特許庁

In the photomask used for performing pattern exposure to a substrate on the surface of which a photosensitive resist film is applied, the light transmission quantity at a region where the development irregularity occurs is reduced corresponding to the coating film thickness of the photosensitive resist or to the development irregularity of the photosensitive resist.例文帳に追加

表面に感光性レジスト膜を塗布した基板にパターン露光を行うフォトマスクにおいて、前記感光性レジストの塗布膜厚に対応して、あるいは前記感光性レジストの現像ムラに対応して、前記現像ムラを生じた部位の光透過量を低減したことを特徴とするフォトマスクである。 - 特許庁

In a pattern forming method which forms patterns in a two-layer photoresist obtained by laminating a first positive type photoresist, a middle layer which is transparent to the wavelength of light for exposure and a second positive type photoresist in order on a substrate, two latent images are formed at different developing speeds.例文帳に追加

基盤上に第１のポジ型のフォトレジスト、露光光の波長に対し透明な中間層、第２のポジ型のフォトレジストの順に積層されている２層フォトレジストにパターンを形成するパターン形成方法について、現像速度を違えて二つの潜像を形成する。 - 特許庁

To provide a method for forming a negative pattern which is transparent in the far UV region including 193 nm wavelength of ArF excimer laser light, which has a chemical structure with high durability against dry etching and shows excellent resolution without swelling in a 2.38% tetramethylammonium hydroxide aqueous solution as a standard developer.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザーの波長１９３ｎｍを含む遠紫外線領域で透明で、かつドライエッチング耐性も高い化学構造を持ちながら、標準現像液である２．３８％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液で、膨潤のない解像性能の優れたネガ型のパタン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a monomer for producing a resin for a resist, the resin being used in a photosensitive composition which can form a resist pattern having high dry etching resistance and excellent transparency to short wavelength light, good resolving properties with an alkaline development, and high adhesiveness.例文帳に追加

短波長光に対する透明性が優れるとともに高いドライエッチング耐性を備え、かつアルカリ現像で解像性の良好で密着性の高いレジストパターンを形成することができる感光性組成物に用いることができるレジスト用樹脂を製造するためのモノマーの提供。 - 特許庁

To provide a resist underlayer film forming material which is effective as an antireflection film material used in microfabrication in a production process of a semiconductor device or the like, and a resist pattern forming method using the same and suitable for immersion lithography with ArF excimer laser light (193 nm).例文帳に追加

半導体素子などの製造工程における微細加工に用いられる反射防止膜材料として有効なレジスト下層膜形成材料及びこれを用い、ＡｒＦエキシマレーザー光（１９３ｎｍ）を用いた液浸リソグラフィーに好適なレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

An embodiment of the present invention provides a solar cell module including: a solar cell including an electrode pattern on at least one surface; and a parylene coating layer forming a light-transmitting passivation film on at least a front surface of the solar cell.例文帳に追加

本発明の一実施形態によると、少なくとも一面に電極パターンが形成された太陽電池セルと、太陽電池セルの少なくとも前面上に光透過性パッシベーション膜を形成するパリレン（ｐａｒｙｌｅｎｅ）コーティング層と、を含んでなる太陽電池モジュールが提案される。 - 特許庁

A fluid jetting apparatus is characterized by being equipped with a nozzle jetting a fluid on the medium and an irradiating part for irradiating the medium on which the yellow pattern is formed by jetting the fluid from the nozzle with light for enlarging a contrast of yellow with white.例文帳に追加

流体を媒体に噴射するノズルと、前記ノズルが前記流体を噴射することにより黄色のパターンが形成された前記媒体に対して、黄色と白色のコントラストをより大きくする光を照射する照射部と、を備えることを特徴とする流体噴射装置。 - 特許庁

When the determination result of a light reception waveform determination part 21 is pulse-shaped outgoing pattern, a central arithmetic unit 15 copies reference coordinate data whose shape is rectangular, and whose size is "middle" to the coordinate data of instruction pointer data PointInf, and transmits a page feed command to a video generation device 50.例文帳に追加

中央演算部１５は、受光波形判定部２１の判定結果がパルス状の出射パターンであると、形状が四角形、大きさが「中間」の基準座標データを、指示ポインタデータＰｏｉｎｔＩｎｆの座標データにコピーするとともに、改頁コマンドを映像生成装置５０に送信する。 - 特許庁

After resist is applied on a substrate, a region where a logic with patterns arranged at random is formed is subjected to a first exposure process, using the interference of light penetrating through slit grooves 3 and 4 located on each side of the line of a pattern provided on a Levenson phase shift mask.例文帳に追加

基盤上にレジストを塗布した後、レベンソン位相シフトマスクに設けられたパターンにおける線幅方向の両側のスリット溝３とスリット溝４とをそれぞれ透過する光の干渉を用いて、ランダムに配置されたパターン形状を有するロジック部の形成領域に対して１回目の露光を行う。 - 特許庁