「light pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(136ページ目) - Weblio英語例文検索

In the imprint method for imprinting a pattern formed on a mold onto a resin, a wavelength of light incident on an imaging device is controlled in accordance with a gap between the mold and the substrate when an alignment mark provided on the mold is imaged by the imaging device.例文帳に追加

本発明の第１の側面は、モールドに形成されたパターンを基板上の樹脂にインプリントするインプリント方法であって、該モールドに設けられているアライメントマークを撮像素子で撮像する場合に、該モールドと該基板との間のギャップに応じて、該撮像素子に入射する光の波長を制御する、インプリント方法である。 - 特許庁

The photoreceptor drum is scanned with light by a signal in accordance with an image pattern in each color conducted to a desired input image 4 by a toner image conducting part 31 so as to form a latent image by exposure devices 5BK, 5Y, 5M and 5C and the toner image on the photoreceptor drum is developed by a developing device.例文帳に追加

トナー画像導出部３１によって所望の入力画像４に対して導出した、各色における画像模様に従った信号による光が、露光装置５ＢＫ、５Ｙ、５Ｍ、５Ｃにより、感光ドラムに走査され潜像が形成され、現像装置によって感光ドラム上にトナー像が現像される。 - 特許庁

To provide a mask pattern imaging apparatus capable of continuously carrying out alignment between a substrate and a mask on a substrate plane and alignment of a mask mark and an image plane position on the basis of light diffraction by an alignment mark provided on the substrate and an alignment mark provided on the mask arranged to be separated from the substrate.例文帳に追加

基板上に設けたアライメントマークと上記基板から離間して配置したマスク上に設けたアライメントマークによる光回折に基き、基板平面における基板とマスク間の位置合わせと、上記マスクマークの像面位置合わせとを連続的に履行可能とする、マスクパターン画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

The examiner can use a monitor 102, and an electronic operation system comprising a mouse 107, a light pen 108, and another pointing device 109 to directly operate a recording sheet pattern displayed (or printed) on the monitor 102 or a digitizer pad for deciding a spot position, inputting commands for recording user response, etc.例文帳に追加

検者は、モニタ１０２、および、マウス１０７、ライトペン１０８、その他のポインティングデバイス１０９から成る電子化された操作系を用いて、モニタ１０２あるいはデジタイザパッド上に表示（あるいは印刷）された記録用紙パターンを直接、操作することによりスポット位置の決定、ユーザ応答の記録などのためのコマンド入力を行なう。 - 特許庁

In the patterning method, the pattern of a photomask is transferred to an underlying material by exposure processing thus forming a first guide where the surface energy of the underlying material is changed, and a second guide where the surface energy of the underlying material is changed is formed between the first guides by diffraction of exposure light resulting from exposure processing.例文帳に追加

実施の形態のパターン形成方法は、露光処理により、フォトマスクのパターンを下地材に転写して下地材の表面エネルギーを変化させた第１のガイドを形成すると共に、露光処理により生じる露光光の回折により、第１のガイド間に下地材の表面エネルギーを変化させた第２のガイドを形成する。 - 特許庁

The computer 2 normalizes each reflection light intensity distribution, hue distribution and color component distribution by the color image data at a dynamic range D, using information of R(red), G(green) and B(blue) components of each pixel, of which the received color data have at a proper pattern extracting section 2a.例文帳に追加

電子計算機２では、固有パターン抽出部２ａにおいて、受けたカラー画像データが有する各画素のＲ（赤）、Ｇ（緑）及びＢ（青）成分の情報を用い、当該カラー画像データによる表示画像中の反射光強度分布、色相分布、色成分分布をそれぞれダイナミックレンジＤで正規化する。 - 特許庁

The diffraction grating pattern 5 is provided with: a first cell 10 in which a blazed grating 11 of diffracting incident light Li in the specified direction is formed on substrate surface; and a second cell 20 in which a blazed grating 21 having the grating line direction different from that of the blazed grating 11 of the first cell 10 by about 180° is formed.例文帳に追加

回折格子パターン５は、基材表面に、入射光Ｌｉを特定方向に回折するブレーズド格子１１が形成された第１セル１０と、第１セル１０のブレーズド格子１１とは、格子線方向が略１８０度異なるブレーズド格子２１が形成された第２セル２０とを備えている。 - 特許庁

To provide a polymer which has excellent transparency, excellent dry etching resistance and excellent solubility in organic solvents, to provide a chemical amplification type resist composition suitable for far infrared light excimer laser lithography, electron beam lithography and the like, and to provide a method for forming a pattern with the chemical amplification type resist composition.例文帳に追加

優れた透明性と高いドライエッチング耐性とを有し、有機溶媒に対する溶解性にも優れた重合体、遠紫外光エキシマレーザーリソグラフィーや電子線リソグラフィー等に好適な化学増幅型レジスト組成物、および、この化学増幅型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

A photosensitive composition containing a compound for generating an acid by irradiation with a beam of active light or a radiation, a specific basic compound having a polar group, a specific basic compound having no polar groups, and a specific surfactant, and a pattern forming method using the same are provided.例文帳に追加

活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、極性基を有する特定の塩基性化合物、極性基を有さない特定の塩基性化合物、及び、特定の界面活性剤を含有することを特徴とする感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

The resist pattern 18 comprises a photosensitive resin mainly composed of a highly light-shielding, aqueous alkali-soluble resin to which a naphthol structure in which at least one hydroxyl group is bound to a naphthalene nucleus is incorporated or an aqueous alkali-soluble resin derivative is used as a polymeric resin matrix.例文帳に追加

レジストパターン１８は、ナフタレン核に少なくとも一つの水酸基が結合したナフトール構造を組み込んだ高遮光性の水性アルカリ可溶性樹脂または上記水性アルカリ可溶性樹脂の誘導体を高分子樹脂マトリックスとする水性アルカリ可溶性樹を主成分とする感光性樹脂組成物からなる。 - 特許庁

To ensure high sensitivity to a short wavelength light source, to suppress the occurrence of development defects and to obtain a superior pattern profile by using a compd. having a specified structure besides an acid decomposable resin and a photo-acid generating agent.例文帳に追加

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術の課題を解決することで、短波長光源に対して高い感度を有し、更に現像欠陥の発生が軽減され、優れたパターンプロファイルが得られる遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a resist pattern forming method which improves performance in microfabrication of a semiconductor element using a high energy beam, X-ray, electron beam or EUV light and satisfies high sensitivity, high resolution, good line width roughness and process margin at the same time, and a developer used for the method.例文帳に追加

本発明は、高エネルギー線、Ｘ線、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なラインウィズスラフネス、プロセスマージンを同時に満足するレジストパターン形成方法及びそれに用いる現像液を提供する。 - 特許庁

To provide a thin film transistor that improves driving characteristics and reliability, a method for manufacturing the thin film transistor, and a display device including the thin film transistor by forming a semiconductor layer located over a metal pattern such as a gate electrode or a light shielding member by using polycrystalline silicon that does not include incomplete crystal growth region.例文帳に追加

不完全結晶成長領域を含まない多結晶シリコンでゲート電極または遮光部材のような金属パターン上に位置する半導体層を形成することにより、駆動特性及び信頼性を向上させる薄膜トランジスタ、その製造方法、及びこれを含む表示装置を提供する。 - 特許庁

The photomask 20 is used for forming the fixed spacer 5 for controlling the liquid crystal cell gap by using the positive photoresist on the color filter substrate 11 or on the pixel electrode substrate in the liquid crystal display device, and has a gray tone portion 9 including a total transmission slit on the periphery of a light-shielding portion 8 as a photomask pattern of the fixed spacer.例文帳に追加

液晶表示装置におけるカラーフィルタ基板１１、または画素電極基板に、ポジ型フォトレジストを用いて液晶セルギャップ制御用の固定スペーサ５を形成するためのフォトマスク２０であって、固定スペーサのフォトマスクパターンとして、遮光部８の周囲に全透過スリットを含むグレートーン部９を有する。 - 特許庁

In a state where a surface 20a to be processed is irradiated with irradiation light 22 from an illumination lamp 32 while conveying an etched substrate 20 to be processed, a line sensor 33 captures image data of the surface 20a to be processed, and an etching pattern formed on the surface 20a to be processed is specified based on the image data.例文帳に追加

エッチング処理が施された被処理基板２０を搬送させながら、被処理面２０ａに照明ランプ３２による照射光２２を照射させた状態で、ラインセンサー３３により、被処理面２０ａの画像データを撮影し、該画像データに基づいて、被処理面２０ａに形成されたエッチングパターンを特定する。 - 特許庁

To provide a method of forming a multilayer coating film, which can form the coating layer showing a uniform texture excellent in metal feeling in a highlight (near a regular reflection light), and changing the texture of the whole coating film significantly by an observation angle expressing a pattern design in a shade (oblique direction).例文帳に追加

本発明の目的は、ハイライト（正反射光近傍）において金属感に優れた均一な質感を示し、シェード（斜め方向）において模様意匠を発現する観察角度によって塗膜全体の質感が大きく変化する塗膜を形成可能な複層塗膜形成方法を提供することである。 - 特許庁

To acquire an image information detecting device capable of detecting a pattern image with high accuracy by taking a condition of spherical aberration of an illumination optical system into account, thereby increasing a quantity of illumination light in the central portion of an illumination area and its vicinity and hence improving the S/N ratio of a detection signal.例文帳に追加

照明光学系の球面収差の状態を考慮することにより照明領域中心部及びその近傍の照明光量を大きくすることができ、検出信号のＳ／Ｎ比を向上させ位置検出用のパターン像を高精度に検出することができる画像情報検出装置を得ること。 - 特許庁

To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition having excellent sensitivity while maintaining storage stability in a level suitable for practical use, and in particular, to provide a positive resist composition for electron beams, X-rays or EUV light, and a resist film formed of the composition and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

保存安定性について実用レベルを損なうことなく、優れた感度を有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、特には電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光用ポジ型レジスト組成物、該組成物を用いてなるレジスト膜及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In the color image forming apparatus, the toner image of each color pattern for determination is configured such that the toner images of a plurality of thin-width patterns, whose dimensions in a sub-scanning direction are smaller than a diameter of a spot of light radiated from an optical sensor, are arranged along the sub-scanning direction at intervals smaller than the diameter of the spot.例文帳に追加

カラー画像形成装置において、各色の判定用パターンのトナー画像は光センサから照射された光のスポットの径よりも副走査方向の寸法が小さい複数の細幅パターンのトナー画像を、上記スポットの径よりも小さい間隔で副走査方向に沿って並べた構成を有する。 - 特許庁

To provide an active light sensitive or radiation sensitive resin composition and a method of forming a pattern using the resin composition improved in line edge roughness, BLOB defects and generation of scum, and having good conformability to an immersion liquid in immersion exposure.例文帳に追加

ラインエッジラフネス、ＢＬＯＢ欠陥、並びにスカムの発生が改良され、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるレジストパターンを形成することが可能な感活性光線性または感放射線性樹脂樹脂組成物、及び該樹脂組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

Microstructures with different sizes and regularly aligned patterns are fabricated in a large area and parallel mode by transferring a controlled template, wherein the direction of fluidization is determined by the polarization of light, and the pattern and size of the polymer array template having the directional photo-fluidization phenomenon are precisely controlled.例文帳に追加

光の偏光によって流体化方向が決定され、方向性光流体化現象を有する高分子アレイ型枠の模様と大きさを精密に制御し、制御された型枠を転写することによって規則的に配列された模様と大きさが多様な微細構造体を大面積及び平行的方法で製作する。 - 特許庁

The organic light-emitting diode display device forms a first electrode using a display base having a pixel separation pattern including a pixel separation part and an insulating part extended from the pixel separation part and disposed along the periphery of a pixel part, thereby preventing corrosion of the first electrode, and reducing man hours.例文帳に追加

本発明の有機発光ダイオード表示装置は、画素分離部及び画素分離部から延長され、画素部の周辺に沿って配置された絶縁部を含む画素分離パターンを備える表示基板により第１電極を形成して、第１電極の腐食を防止し、工程数を短縮することができる。 - 特許庁

To provide a halftone phase shift mask blank having a halftone phase shift film which can control the retardation and transmittance as a phase shift mask for exposure light and the transmittance at an inspection wavelength, which has excellent chemical resistance and excellent patterning property by etching, and to provide a phase shift mask and a method for transferring a pattern.例文帳に追加

露光光での位相シフトマスクとしての位相差，透過率や検査波長での透過率を制御でき、耐薬品性に優れ、さらにエッチングによるパターニング性に優れたハーフトーン型位相シフト膜を有するハーフトーン型位相シフトマスク用ブランクス及び位相シフトマスク並びにパターン転写方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To more strictly perform the evaluation of a defective factor even for an object to be inspected wherein a cyclic light and shade pattern appears in a photographed image, in the optical member inspection method in an image inspection device for inspecting the quality of an optical member such as a lens or the like.例文帳に追加

レンズ等の光学部材の品質を検査するための画像検査装置における光学部材検査方法において、撮影した画像に周期的な濃淡模様が現れるような被検物に対しても不良要因の評価をより厳密に行うことが可能な光学部材検査方法を提供することである。 - 特許庁

One principal surface of a base material is irradiated with laser light in a state where a metal film made of low-fusion-point metal is brought into contact with the defective part of the pattern (wiring), and an alloy layer is formed and firmly fixed on a contact boundary surface between a metal film of a transfer member and a metal film forming the wiring.例文帳に追加

基材の一方の主表面上に低融点金属からなる金属膜を、パターン（配線）の欠陥部に密着させた状態でレーザ光を照射して、転写部材の金属膜と、配線を形成する金属膜との密着境界面でそれらの合金層を形成して固着させる。 - 特許庁

It is preferable that a light projector 10 projecting a group of slit lights combined in a lattice type and a stereo type image sensing devices 12R, 12L measuring three- dimensional coordinates of each cross point of a lattice pattern formed by the projection of the group of the slit lights are contained in the measuring apparatus 5, and the three-dimensional coordinates are measured by a stereo image sensing method.例文帳に追加

好ましくは計測装置５に、格子状に組み合わせたスリット光の群を投光する投光器10と、スリット光の群の投影により形成された格子模様の各交点の三次元座標を計測するステレオ式撮像装置12R、12Fを含め、ステレオ画像法により三次元座標を計測する。 - 特許庁

To provide a reticle with which an exposure region of the light emitting from an illumination optical system of an exposure apparatus can be aligned to a specified position of an inspection pattern so as to inspect the performance of the exposure apparatus with high reproducibility, to provide a method for inspecting an exposure apparatus by using the reticle, and to provide a method for manufacturing a reticle.例文帳に追加

露光装置の性能検査を再現性よく行うために、露光装置の照明光学系から照射される光の露光領域を検査用パターンの特定の位置に合わせることが可能なレチクル、そのレチクルを用いた露光装置の検査方法及びレチクル製造方法を提供する。 - 特許庁

The black layer 46 is subjected to dry etching to integrally form a peripheral light-shielding film 45 covering the peripheral region S of a pixel forming region A of the solid-state imaging element 10, and an aperture pattern to leave a black matrix 41 as boundaries among red, green and blue pixels 40R, 40G and 40B, respectively, on the pixel forming region A.例文帳に追加

黒色層４６をドライエッチングして、固体撮像素子１０の画素形成領域Ａの周縁領域Ｓを覆う周縁遮光膜４５と、画素形成領域Ａ上に赤色・緑色・青色画素４０Ｒ，４０Ｇ，４０Ｂ間の境界となるブラックマトリックス４１を残すように開口パターンとを一体形成する。 - 特許庁

At the time, light emitted by a blue or red LED mounted on an LED board 562b passes through a display panel 562d and then a plurality of slits provided on the slit sheet 562cb of the slit elevating and lowering device 562c and a pattern plotted on a blue or red sheet is viewed as a moving image.例文帳に追加

このとき、ＬＥＤ基板５６２ｂに実装された青色又は赤色のＬＥＤが発する光が表示パネル５６２ｄ、続いてスリット昇降装置５６２ｃのスリットシート５６２ｃｂに設けられている複数のスリットを通って、青色又は赤色シートに描かれている模様が動画となって見える。 - 特許庁

To provide an optical three-dimensional shaping apparatus capable of manufacturing a three-dimensional shaped product excellent in dimensional precision, appearance and strength by irradiating a shaping surface, which comprises a photosetting resin composition, with light enhanced in energy intensity and having a uniform optical intensity distribution in a predetermined shape pattern through a sheet drawing mask.例文帳に追加

エネルギー強度が高く、光強度の分布が均一な光を面状描画マスクを介して所定の形状パターンで光硬化性樹脂組成物よりなる造形面に照射して、寸法精度、外観、強度などに優れる立体造形物を速い造形速度で製造できる光学的立体造形装置の提供。 - 特許庁

In the manufacture method of unidirectional diffusion plate, the unidirectional diffusion plate is manufactured by utilizing a speckle pattern formed when the surface relief type diffusion plate having groove depth of ≥2 μm and ≤20 μm on the surface is irradiated with the light of linear coherence.例文帳に追加

表面の溝の深さが２μｍ以上２０μｍ以下であるような、表面レリーフ型の拡散板で、直線状の可干渉性のある光を拡散板に照射して、そのときに生じるスペックルパターンを用いて作成することを特徴とする一方向性拡散板の作成方法および表面レリーフ型拡散板である。 - 特許庁

After a hole 10 in a desired shape is formed inside a substrate 1, the substrate is immersed in an electroless plating liquid 11 and irradiated with condensed laser light 12 along a desired pattern to precipitate and fix a metal in the irradiated region to form a metal electrode.例文帳に追加

基板１内部に所望形状の空孔１０を形成した後、この基板を無電解メッキ液１１中に浸し、所望のパターンに応じてレーザ光１２を集光照射することによって該照射領域に金属を析出、固定し、金属電極を形成することを特徴とする電極形成方法。 - 特許庁

Laser light from a laser oscillator for continuously radiating optical pulses having the spatial and temporal large energy density at the pulse emitting time not more than 1 picosecond is radiated to a workpiece of a multilayer structure having the different wave length absorptance in a specified pattern and with specified energy density, and the workpiece is machined.例文帳に追加

１ピコ秒以下のパルス放射時間で空間的時間的なエネルギー密度の大きい光パルスを連続放射するレーザ発振器からのレーザ光を、前記レーザ光の波長吸収率が異なる多層構造の被加工物に、所定パターン、所定エネルギー密度にて照射し、前記被加工物を加工するように構成する。 - 特許庁

A colored striped pattern line creating means 1 creates a colored multiple line by bringing a plurality of colored lines of colors of light with greatly different wavelengths in contact with each other and merging them, and outputs the colored multiple line on the present position indicator image display part 2 as an indicator image of the present position.例文帳に追加

色付き縞模様線作成手段１は光の色の波長が大きく異なる複数個の波長の光の色の複数の色付き線を接触合体させて色付き多層線を作成し、その色付き多層線を現在位置の指示子画像として現在位置指示子画像表示部２に出力する。 - 特許庁

A wiring part 15 of the positive electrode pattern 3 is comprised of a transparent wiring layer 22 made of the same transparent conductive material as the transparent electrode part 13 and a metallic film 23 made of low resistance metal material same as the metal lattice 21 having light shielding function, formed on the transparent wiring layer 22.例文帳に追加

また、陽極パターン３の配線部１５が、透明陽極部１３と同一の透明導電材料によって形成された透明配線層２２と、その透明配線層２２上に金属格子２１と同一の低抵抗金属材料によって形成された遮光性を有する金属薄膜２３とを備えて構成されている。 - 特許庁

A carriage 4 mounting a recording head 3 is provided with a photosensor 5 for emitting and receiving infrared light and, for a dedicated recording medium recorded with a scale pattern, a second timing generating section 8 generates a timing signal for determining the driving timing of the recording head 3 based on the detection signal from the photosensor.例文帳に追加

記録ヘッド３を搭載するキャリッジ４に赤外線の発光および受光を行うフォトセンサ５を設け、スケールパターンの記録された専用の記録媒体に対しては、第２のタイミング生成部８によりフォトセンサの検出信号に基づいて記録ヘッド３の駆動タイミングを規定するタイミング信号を生成する。 - 特許庁

The immersion lithography apparatus is constituted so that the pattern of an original plate is projected on a substrate through a projection optical system and a liquid so as to expose the substrate, and includes a substrate reference plate arranged on a substrate stage to hold the substrate, and a drive portion to drive a field stop which restricts a measuring light irradiated to the substrate reference plate.例文帳に追加

液浸露光装置は、原版のパターンを投影光学系および液体を介して基板に投影して該基板を露光するように構成され、基板を保持する基板ステージに配置された基板基準プレートと、前記基板基準プレートに照射される計測光を制限する視野絞りを駆動する駆動部とを備える。 - 特許庁

A test pattern for detecting a density variation amount (reflected light variation amount) of an image in one rotation cycle of the electric motor for rotating or moving an image carrier is formed while changing a motor control constant, and the density variation amounts of the respective test patterns are compared, whereby the appropriate motor control constant is set.例文帳に追加

像担持体を回転或いは移動させる為の電動モータ１回転周期の画像の濃度変動量（反射光変動量）を検出するためのテストパターンを、モータ制御定数を変化させながら形成し、各テストパターンの濃度変動量を比較することで、適切なモータの制御定数を設定する。 - 特許庁

This layer 13 is exposed to light with the specified pattern and developed, and the part corresponding to the part where barrier ribs are to be formed is removed, and thereby grooves for barrier rib formation 13a and cell forming parts 13b are formed, and the surface of the cell forming parts 13b and the inside of the grooves 13a are covered with die releasing films.例文帳に追加

次に感光性材料層１３を所定のパターンで露光した後に現像して隔壁形成予定部に対応する部分を除去することにより、隔壁形成用溝１３ａ及びセル形成部１３ｂを形成し、セル形成部１３ｂの表面及び隔壁形成用溝１３ａの内部を離型膜にて被覆する。 - 特許庁

In the optical disk with an information recording layer in which information is recorded by a pit-form pattern, this information recording layer comprises three or more layers (layer L0, layer L1, layer L2...), and a reflection film used for layers except for a layer farthest from a light incident side is made of Al (aluminum), Ag (silver) and oxygen (O).例文帳に追加

ピット状のパターンにより情報が記録された情報記録層を有する光ディスクにおいて、この情報記録層が３層以上（Ｌ０層、Ｌ１層、Ｌ２層・・・）からなり、光入射側から最も遠い層を除いた層に用いる反射膜がＡｌ（アルミニウム）とＡｇ（銀）とＯ（酸素）とから構成されることを特徴とする。 - 特許庁

In this pattern defect inspection device, the quantity change in the ultraviolet laser beam is detected during inspection, to thereby determine the existence of an influence on the inspection, and service life prediction and abnormality of the light source are detected, and the inside of an optical system is cleaned, to thereby ensure prolongation of service life and long-term reliability of optical parts.例文帳に追加

検査中に紫外レーザ光の光量変動を検出して検査への影響の有無を判定し、かつ光源の寿命予測と異常を検知するとともに、光学系の内部を清浄化して光学部品の寿命延長と長期信頼性を確保するようにしたパターン欠陥検査装置である。 - 特許庁

The electron beam mask drawing device draws a circuit pattern or the like, by irradiating a mask having a square peripheral edge form with an electron beam, wherein the dimensions of the mask which stretch or contract due to thermal expansion by irradiation with electron beams is measured on both the opposing sides by using a laser light.例文帳に追加

本発明は、周縁の形状が矩形のマスクに電子線を照射して回路パターン等を描画する電子線マスク描画装置において、電子線の照射による熱膨張で伸縮する前記マスクの寸法を対向する両側辺からレーザ光を用いて測長することを特徴とする。 - 特許庁

The super resolution optical recording medium has at least a recording layer and a super resolution layer on a substrate, and a recording mark being super resolution limit or below and a space are formed by adjusting the intensity or light emitting pattern of laser beams used for recording so that a recording mark 26 is a recessed part with respect to a unrecorded part 29.例文帳に追加

超解像光記録媒体は、基板上に少なくとも記録層と超解像層とを有してなり、記録マーク２６が未記録部２９に対して凹部となるように、記録に供するレーザの強度または発光パターンを調整して、解像限界以下の記録マーク及びスペースを形成する。 - 特許庁

To provide a low-reflective photomask which essentially consists of aluminum, has high light-shielding property and excellent pattern processability, exhibits a low reflectance at an exposure wavelength, is relatively gradual in reflectance variation in a wavelength range from 200 to 400 nm, and is suitable for lithographic techniques aiming to a half pitch of 45 nm and beyond (smaller) on a wafer, and to provide a photomask blank.例文帳に追加

アルミニウムを主成分として、遮光性が高くてパターン加工性に優れ、露光波長で低反射率を示し、かつ、２００〜４００ｎｍの波長域での反射率変動が比較的緩やかであり、ウェハ上のハーフピッチ４５ｎｍ以降のリソグラフィ技術に適した低反射型のフォトマスクおよびフォトマスクブランクスを提供する。 - 特許庁

In a communication system wherein a first communication device 10 and a second communication device 20 perform communication through an optical transmission line 30 with feeble light as a medium, the first communication device 10 divides transmission data by frame of a fixed length and transmits them to the optical transmission line together with a frame pattern provided on a fixed position of each frame.例文帳に追加

微弱強度の光を媒体として第一通信装置１０と第二通信装置２０とが光伝送路３０を介して通信を行う通信システムにおいて、第一通信装置１０は、固定長のフレームごとに送信データを分割し、各フレームの固定位置に設けられたフレームパタンとともに光伝送路へ送信する。 - 特許庁