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light patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 7053件
This layer 13 is exposed to light with the specified pattern and developed, and the part corresponding to the part where barrier ribs are to be formed is removed, and thereby grooves for barrier rib formation 13a and cell forming parts 13b are formed, and the surface of the cell forming parts 13b and the inside of the grooves 13a are covered with die releasing films.例文帳に追加
次に感光性材料層13を所定のパターンで露光した後に現像して隔壁形成予定部に対応する部分を除去することにより、隔壁形成用溝13a及びセル形成部13bを形成し、セル形成部13bの表面及び隔壁形成用溝13aの内部を離型膜にて被覆する。 - 特許庁
In the optical disk with an information recording layer in which information is recorded by a pit-form pattern, this information recording layer comprises three or more layers (layer L0, layer L1, layer L2...), and a reflection film used for layers except for a layer farthest from a light incident side is made of Al (aluminum), Ag (silver) and oxygen (O).例文帳に追加
ピット状のパターンにより情報が記録された情報記録層を有する光ディスクにおいて、この情報記録層が3層以上(L0層、L1層、L2層・・・)からなり、光入射側から最も遠い層を除いた層に用いる反射膜がAl(アルミニウム)とAg(銀)とO(酸素)とから構成されることを特徴とする。 - 特許庁
In this pattern defect inspection device, the quantity change in the ultraviolet laser beam is detected during inspection, to thereby determine the existence of an influence on the inspection, and service life prediction and abnormality of the light source are detected, and the inside of an optical system is cleaned, to thereby ensure prolongation of service life and long-term reliability of optical parts.例文帳に追加
検査中に紫外レーザ光の光量変動を検出して検査への影響の有無を判定し、かつ光源の寿命予測と異常を検知するとともに、光学系の内部を清浄化して光学部品の寿命延長と長期信頼性を確保するようにしたパターン欠陥検査装置である。 - 特許庁
The electron beam mask drawing device draws a circuit pattern or the like, by irradiating a mask having a square peripheral edge form with an electron beam, wherein the dimensions of the mask which stretch or contract due to thermal expansion by irradiation with electron beams is measured on both the opposing sides by using a laser light.例文帳に追加
本発明は、周縁の形状が矩形のマスクに電子線を照射して回路パターン等を描画する電子線マスク描画装置において、電子線の照射による熱膨張で伸縮する前記マスクの寸法を対向する両側辺からレーザ光を用いて測長することを特徴とする。 - 特許庁
The super resolution optical recording medium has at least a recording layer and a super resolution layer on a substrate, and a recording mark being super resolution limit or below and a space are formed by adjusting the intensity or light emitting pattern of laser beams used for recording so that a recording mark 26 is a recessed part with respect to a unrecorded part 29.例文帳に追加
超解像光記録媒体は、基板上に少なくとも記録層と超解像層とを有してなり、記録マーク26が未記録部29に対して凹部となるように、記録に供するレーザの強度または発光パターンを調整して、解像限界以下の記録マーク及びスペースを形成する。 - 特許庁
To provide a low-reflective photomask which essentially consists of aluminum, has high light-shielding property and excellent pattern processability, exhibits a low reflectance at an exposure wavelength, is relatively gradual in reflectance variation in a wavelength range from 200 to 400 nm, and is suitable for lithographic techniques aiming to a half pitch of 45 nm and beyond (smaller) on a wafer, and to provide a photomask blank.例文帳に追加
アルミニウムを主成分として、遮光性が高くてパターン加工性に優れ、露光波長で低反射率を示し、かつ、200〜400nmの波長域での反射率変動が比較的緩やかであり、ウェハ上のハーフピッチ45nm以降のリソグラフィ技術に適した低反射型のフォトマスクおよびフォトマスクブランクスを提供する。 - 特許庁
In a communication system wherein a first communication device 10 and a second communication device 20 perform communication through an optical transmission line 30 with feeble light as a medium, the first communication device 10 divides transmission data by frame of a fixed length and transmits them to the optical transmission line together with a frame pattern provided on a fixed position of each frame.例文帳に追加
微弱強度の光を媒体として第一通信装置10と第二通信装置20とが光伝送路30を介して通信を行う通信システムにおいて、第一通信装置10は、固定長のフレームごとに送信データを分割し、各フレームの固定位置に設けられたフレームパタンとともに光伝送路へ送信する。 - 特許庁
In the displaying device, a soldering land 2 for back light is disposed on one side of the flexible printed board 1, and a pattern 3 for connecting to a LCD and a land 4 for mounting a chip LED are disposed on another side, and either the LED or the LCD is mounted, thereby realizes the determined display.例文帳に追加
本発明の表示装置では、フレキシブルプリント基板1の一面にはバックライト用半田付けランド2が設けられ、他面にはLCDとの接続用パターン3とチップLEDを実装するためのランド4が設けられ、表示部材たるLEDまたはLCDのいずれかを実装して所定の表示を実現するものである。 - 特許庁
In a disk 102 recording digital content, an identification mark 106 containing covert security information in a predefined pattern is provided on a top planar surface 110, a covert light source is illuminated for emitting a specified photonic spectrum and an image sensor is used for certifying the identification mark 106 as genuine.例文帳に追加
ディジタルコンテンツが記録されたディスク102において、平坦な上側表面110に所定のパターンで隠しセキュリティ情報を含む識別マーク106を設け、特定の波長の光を発光させるために隠し光源を発光させ、イメージセンサーを用いて識別マーク106の真正性を認証する。 - 特許庁
When a main magnetic pole 21 is formed by etching a non-magnetic insulating layer 3 to form a trench 33 and forming a magnetic layer 35 in the trench, an endpoint detecting layer 31 having light emitting characteristics different from those of a magnetic separation layer 4 as an underlayer is provided in a position corresponding to the fine pattern of the main magnetic pole 21.例文帳に追加
非磁性絶縁層3をエッチングしてトレンチ33を設け、ここに磁性層35を形成することで主磁極21を形成するにあたり、下地層となる磁気分離層4と発光特性が異なるような終点検出層31を、主磁極21の微細なパターンに対応する位置に設ける。 - 特許庁
In a method for manufacturing an aligner, a reticle R1 held by a reticle stage system RST is illuminated via illumination systems IL1, IL2 with exposed lights from an exposure light source 16, and images of a pattern of the reticle R1 are projected on a wafer W1 held by a wafer stage system WST via a projection optical system PL.例文帳に追加
露光光源16からの露光光で、照明系IL1,IL2を介してレチクルステージ系RSTに保持されているレチクルR1を照明し、レチクルR1のパターンの像を投影光学系PLを介してウエハステージ系WSTに保持されているウエハW1上に投影する露光装置の製造方法である。 - 特許庁
After a light-shielding layer and a resist layer to produce an exposure mask are formed in this order, a pattern is drawn in the resist layer by scanning with electron beams EB relatively in the Y direction with specified scanning width while relatively moving the scanning region EA in the X direction for every scanning period.例文帳に追加
露光用マスクを製造するための遮光層およびレジスト層をこの順に積層した後、所定の走査幅をもってY方向に相対的に走査される電子ビームEBの走査領域EAを1走査毎にX方向に相対移動させながらレジスト層に描画する際に、前記走査を2サイクル以上繰り返す。 - 特許庁
A body casing 4 is provided with a sample liquid circulation system 1 having a dispersion bath 11 connected to a flow cell 15 through a circulating passage 14 and a measuring system 2 for emitting laser beam to a sample liquid carried in the flow cell 15 to measure the particle size distribution of the sample on the basis of the diffracted light pattern at that time.例文帳に追加
分散バス11とフローセル15とを循環流路14を介して接続した試料液循環系1と、フローセル15内を流れる試料液に対してレーザ光を照射し、そのときの回折光パターンに基づいて試料の粒度分布を測定する測定系2とを本体筐体4に設ける。 - 特許庁
A pattern formed on an active matrix substrate having pixel parts, which is one of a pair of substrates arranged opposite to each other, is formed as a first marker for alignment, and an opening part on a light-shielding film formed on a counter substrate, which is the other one of the pair of substrates, is formed as a second marker for alignment.例文帳に追加
対向して配置された一対の基板の一方であり、画素部を有するアクティブマトリクス基板上に形成されたパターンを位置合わせのための第1のマーカーとして形成し、一対の基板の他方である対向基板上に形成された遮光膜の開口部が位置合わせのための第2のマーカーとして形成されている。 - 特許庁
To provide the fiber product that has the coating layer formed with a luminous paint and the fiber product to which the luminous paint layer is firmly adhered to the fiber product where the color or the pattern of the fiber product itself can be recognized under the ordinary brightness and luminous paint emits the light on the surface of the fiber product in the dark.例文帳に追加
蓄光塗料により形成される塗料層と繊維製品とが強固に接着しており、通常の明るさにおいては繊維製品自体の色や柄が視認でき、且つ暗闇においては繊維製品の表面が発光する蓄光塗料が塗布されている繊維製品を提供することを課題とする。 - 特許庁
To provide a substrate inspection device for enhancing flaw detecting sensitivity with respect to a flaw being unstable in flaw detecting sensitivity by an observation direction of a focus matching defective flaw or the like in the observation of the diffracted light of a substrate wherein any one side of a substrate pattern is parallel to a feed direction, and a substrate inspection program.例文帳に追加
基板パターンの何れか一辺が搬送方向と平行となっている基板の回折光観察において、合焦不良欠陥などの観察方向によって欠陥検出感度が不安定である欠陥に対して、欠陥検出感度を向上させるための基板検査装置および基板検査プログラムを提供すること。 - 特許庁
To provide a forgery prevention structure, which is hardly forged and has a concealed pattern that is hardly recognized with a usual visible light source and can be checked by an extremely simple verification method without using a specified polarization film or a specified verification device or the like, and to provide a forgery prevention sheet using the structure and a method for determining authenticity of the structure.例文帳に追加
偽造がされ難く、通常の可視光源下では判り難く、特定の偏光フィルムや特定の検証機等を使わずに、極簡単な検証方法で、隠しパターンを確認出来る偽造防止構造体及びそれを用いた偽造防止枚葉体並びにその真偽判定方法の提供にある。 - 特許庁
The rear surface wiring layer 34 is so arranged on the entire one side of the polyimide layer 33 as to be electrically insulated from the wiring pattern 32a, and at least a part of the rear surface wiring layer 34 is electrically connected to the stem 12 of the light module 10 by a specified position of a stub 34a constituting a stub structure for the lead 11.例文帳に追加
裏面配線層34は、配線パターン32aと電気的に絶縁されるようにポリイミド層33の片側全面に配されるとともに、少なくとも裏面配線層34の一部がリード11に対してスタブ構造となるスタブ部位34aの所定位置にて光モジュール10のステム12と電気的に接続される。 - 特許庁
To provide a polymer which has dry etching resistance, is high in sensitivity, resolution and light transmittance, when used for resist compositions for DUV excimer laser lithography or the like, has small line edge roughness of resist patterns and can resist to thin resist films, to provide a resist composition, and to provide a method for producing a substrate on which a resist pattern is formed.例文帳に追加
DUVエキシマレーザーリソグラフィー等のレジスト組成物に用いた場合に、高感度、高解像度であり、光線透過率が高く、レジストパターンのラインエッジラフネスが小さく、レジスト膜の薄膜化に耐えることができるドライエッチング耐性を有する重合体、レジスト組成物及びパターンが形成された基板の製造方法を提供する。 - 特許庁
In setting the color element level (luminance level) of sub-pixels corresponding to the basic part of characters and patterns and that of the nearby sub-pixels, the luminance level (compensation pattern) of all these sub-pixels is set in accordance with the on/off or the irradiation light quantity level of a display device irradiation means 50.例文帳に追加
文字および図形の基本部分に対応するサブピクセルと、その近傍のサブピクセルの色要素レベル(輝度レベル)を設定する際に、表示デバイス照射手段50のオン/オフまたは照射光量レベルに応じて、基本部分に対応するサブピクセルおよびその近傍サブピクセルの輝度レベル(補正パターン)を設定する。 - 特許庁
To provide a curtain having moisture impermeability without impairing a pattern of a cloth, feeling, designability, fashionability, warmth keeping property, heat insulating property, light shielding performance, sound insulation and the other functions of a conventional curtain cloth, and to reduce the amount of dew condensation to a window pane by decreasing the quantity of moisture passing through the curtain using the above curtain.例文帳に追加
従来のカーテン地がもつ生地の柄、風合い、意匠性、ファッション性、保温性、断熱性、遮光性、防音性その他の機能を損なうことなく不透湿性を付加したカーテンを提供するとともに、このカーテンによりカーテンを通過する湿気の量を減少させ窓ガラスへの結露量の減少を図る。 - 特許庁
In the electromagnetic wave shielding filter for displays, a non-conductive geometrical pattern-like light absorption layer 15 is provided on a surface at the side of a transparent conductive layer 13 or at a side opposite to the transparent conductive layer 13 of a transparent base material 11 in which the transparent conductive layer 13 is laminated at the entire image display region on one surface.例文帳に追加
一方の面の画像表示領域全体に透明導電体層13が積層された透明基材11の、当該透明導電体層13側又はその反対側の面に、非導電性の幾何学パターン状光吸収層15が設けられている、ディスプレイ用電磁波遮蔽フィルタである。 - 特許庁
A laser beam 103L taken out from an ArF excimer laser 103 of the exposure light source of a scanning aligner 100 is guided through the inside of an aligner main body 101, and is projected on a reticle 115 to expose a wafer 120d in the form of a pattern through a reducing projection lens 117 to the outgoing laser beam through the reticle 115.例文帳に追加
スキャン型露光機100の露光光源であるArFエキシマレーザ103から取り出されたレーザ光103Lを、露光機本体101の内部を導き、レチクル115に照射し、レチクル115を出射したレーザ光を縮小投影レンズ117を通してウエハー120dをパターン状に露光する。 - 特許庁
The apparatus displays a massage to urge a user to place a finger in an information acquiring area 4 set in a panel board 1a of a touch panel 1, and irradiates the finger 10 placed in the information acquiring area 4 with a light emitted from an LED element 2 to acquire a vein pattern of the finger by imaging the finger by use of a camera 5.例文帳に追加
タッチパネル1のパネル板1aに設定された情報取得領域4に指を置くよう促すメッセージを表示し、情報取得領域4におかれた指10をタッチパネル1のLED発光素子2が発する光で照射して、カメラ5により前記指を撮影することで指の静脈パターンを取得する。 - 特許庁
On a base material, at least a print layer and a transparent OVD (Optical Variable Device) layer having an OVD through which the print layer can be seen are provided in this order, and porous parts are provided at part of the transparent OVD layer by forming many fine holes for scattering light in pattern shapes of characters, symbols, marks, etc.例文帳に追加
基材上に少なくとも印刷層と該印刷層が透けて見えるOVDを持つ透明性OVD層とをこの順序に設けると共に、該透明性OVD層の一部には光を散乱させる多数の微細な孔を文字、記号、マーク等のパターン状に形成してなる多孔質部を設ける。 - 特許庁
Then, an instruction part 20e respectively selects colorless patches at each gray-scale under a predetermined environmental light from more than one patch at each gray-scale of the pattern sheets, and a color correction table is created by a creation part 20g for color correction table to respectively adjust the gray balance at each color of component based on the selected patches.例文帳に追加
そして、指示部20eによって、パターンシートの各階調毎の複数のパッチから、所定の環境光下で無彩色のパッチが各階調毎にそれぞれ選択され、色補正テーブル生成部20gによって、選択されたパッチに基づき、各要素色毎にグレイバランスを調整するための色補正テーブルが生成される。 - 特許庁
In the imprint method for imprinting a pattern formed on a mold onto a resin, a wavelength of light incident on an imaging device is controlled in accordance with a gap between the mold and the substrate when an alignment mark provided on the mold is imaged by the imaging device.例文帳に追加
本発明の第1の側面は、モールドに形成されたパターンを基板上の樹脂にインプリントするインプリント方法であって、該モールドに設けられているアライメントマークを撮像素子で撮像する場合に、該モールドと該基板との間のギャップに応じて、該撮像素子に入射する光の波長を制御する、インプリント方法である。 - 特許庁
The resist pattern 18 comprises a photosensitive resin mainly composed of a highly light-shielding, aqueous alkali-soluble resin to which a naphthol structure in which at least one hydroxyl group is bound to a naphthalene nucleus is incorporated or an aqueous alkali-soluble resin derivative is used as a polymeric resin matrix.例文帳に追加
レジストパターン18は、ナフタレン核に少なくとも一つの水酸基が結合したナフトール構造を組み込んだ高遮光性の水性アルカリ可溶性樹脂または上記水性アルカリ可溶性樹脂の誘導体を高分子樹脂マトリックスとする水性アルカリ可溶性樹を主成分とする感光性樹脂組成物からなる。 - 特許庁
To ensure high sensitivity to a short wavelength light source, to suppress the occurrence of development defects and to obtain a superior pattern profile by using a compd. having a specified structure besides an acid decomposable resin and a photo-acid generating agent.例文帳に追加
遠紫外光、とくにArFエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術の課題を解決することで、短波長光源に対して高い感度を有し、更に現像欠陥の発生が軽減され、優れたパターンプロファイルが得られる遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁
The flexible printed circuit board mounted with a light-emitting diode includes: a lower insulator, an upper insulator, a conductive pattern intervened between the lower and upper insulators, and a white color film attached on the upper insulator.例文帳に追加
本発明によって、発光ダイオードを実装するためのフレキシブルプリント回路基板において、下部絶縁体と、上部絶縁体と、前記下部絶縁体と前記上部絶縁体との間に介された導電パターンと、前記上部絶縁体上に付着された白色フィルムと、を含むフレキシブルプリント回路基板が提供される。 - 特許庁
After a resist film 11 consisting of a chemically amplifying resist material containing a base polymer containing at least one ester of acrylate and methacrylate and an acid generating agent which generates acid by irradiation of light is formed, the resist film 11 is selectively irradiated with extreme UV rays 13 for pattern exposure.例文帳に追加
アクリル酸エステル及びメタクリル酸エステルのうちの少なくとも1つのエステルを含むベースポリマーと、光が照射されると酸を発生する酸発生剤とを有する化学増幅型レジスト材料からなるレジスト膜11を形成した後、該レジスト膜11に極紫外線13を選択的に照射してパターン露光を行なう。 - 特許庁
In the manufacture method of unidirectional diffusion plate, the unidirectional diffusion plate is manufactured by utilizing a speckle pattern formed when the surface relief type diffusion plate having groove depth of ≥2 μm and ≤20 μm on the surface is irradiated with the light of linear coherence.例文帳に追加
表面の溝の深さが2μm以上20μm以下であるような、表面レリーフ型の拡散板で、直線状の可干渉性のある光を拡散板に照射して、そのときに生じるスペックルパターンを用いて作成することを特徴とする一方向性拡散板の作成方法および表面レリーフ型拡散板である。 - 特許庁
After a hole 10 in a desired shape is formed inside a substrate 1, the substrate is immersed in an electroless plating liquid 11 and irradiated with condensed laser light 12 along a desired pattern to precipitate and fix a metal in the irradiated region to form a metal electrode.例文帳に追加
基板1内部に所望形状の空孔10を形成した後、この基板を無電解メッキ液11中に浸し、所望のパターンに応じてレーザ光12を集光照射することによって該照射領域に金属を析出、固定し、金属電極を形成することを特徴とする電極形成方法。 - 特許庁
Laser light from a laser oscillator for continuously radiating optical pulses having the spatial and temporal large energy density at the pulse emitting time not more than 1 picosecond is radiated to a workpiece of a multilayer structure having the different wave length absorptance in a specified pattern and with specified energy density, and the workpiece is machined.例文帳に追加
1ピコ秒以下のパルス放射時間で空間的時間的なエネルギー密度の大きい光パルスを連続放射するレーザ発振器からのレーザ光を、前記レーザ光の波長吸収率が異なる多層構造の被加工物に、所定パターン、所定エネルギー密度にて照射し、前記被加工物を加工するように構成する。 - 特許庁
A colored striped pattern line creating means 1 creates a colored multiple line by bringing a plurality of colored lines of colors of light with greatly different wavelengths in contact with each other and merging them, and outputs the colored multiple line on the present position indicator image display part 2 as an indicator image of the present position.例文帳に追加
色付き縞模様線作成手段1は光の色の波長が大きく異なる複数個の波長の光の色の複数の色付き線を接触合体させて色付き多層線を作成し、その色付き多層線を現在位置の指示子画像として現在位置指示子画像表示部2に出力する。 - 特許庁
A wiring part 15 of the positive electrode pattern 3 is comprised of a transparent wiring layer 22 made of the same transparent conductive material as the transparent electrode part 13 and a metallic film 23 made of low resistance metal material same as the metal lattice 21 having light shielding function, formed on the transparent wiring layer 22.例文帳に追加
また、陽極パターン3の配線部15が、透明陽極部13と同一の透明導電材料によって形成された透明配線層22と、その透明配線層22上に金属格子21と同一の低抵抗金属材料によって形成された遮光性を有する金属薄膜23とを備えて構成されている。 - 特許庁
A carriage 4 mounting a recording head 3 is provided with a photosensor 5 for emitting and receiving infrared light and, for a dedicated recording medium recorded with a scale pattern, a second timing generating section 8 generates a timing signal for determining the driving timing of the recording head 3 based on the detection signal from the photosensor.例文帳に追加
記録ヘッド3を搭載するキャリッジ4に赤外線の発光および受光を行うフォトセンサ5を設け、スケールパターンの記録された専用の記録媒体に対しては、第2のタイミング生成部8によりフォトセンサの検出信号に基づいて記録ヘッド3の駆動タイミングを規定するタイミング信号を生成する。 - 特許庁
A two-dimensional layout determining apparatus 10 determines a pattern 11 having a plurality of apertures of the same size (Wx×Wy), and a three-dimensional structure determining apparatus 20 determines a three-dimensional groove structure with a depth d and an undercut length Uc to shift the phase of transmitted light by 180° for the apertures of even numbers.例文帳に追加
二次元レイアウト決定装置10により、同一サイズ(Wx×Wy)の複数の開口窓を有するパターン11を決定し、三次元構造決定装置20により、偶数番目の開口窓について、透過光の位相を180°シフトするため、深さd、アンダーカット量Ucをもった三次元溝構造を決定する。 - 特許庁
An optical modulation part 60 is arranged on a holding surface 33b for holding the recording medium in the medium holding part 33a, which causes differences in a reflectance of the ultraviolet rays irradiated by the irradiation device and transmitted through the recording medium and reflects the rays to the recording medium as reflection light having a predetermined modulation pattern.例文帳に追加
媒体保持部33aの記録媒体を保持する側の保持面33bには、照射装置から照射され、記録媒体を透過してきた紫外線の反射率に差異を生じさせ、所定の変調パターンを有する反射光としてこれを記録媒体に反射する光変調部60が設けられている。 - 特許庁
To provide a surface-treated product having a photocatalytic function not developing an interference color of light even if a primer film and a photocatalyst film are formed on the surface of a substrate and capable of keeping the design effect of the substrate without damaging the picture, pattern, hue, character or the like applied to the surface of the substrate itself.例文帳に追加
基体の表面に下地皮膜と光触媒皮膜を形成しても、光の干渉色の発現がなく、基体そのものの表面に付されている絵柄、模様、色調、文字等を損ねることなく、基体の意匠性を維持することができる光触媒機能を有した表面処理製品を提供する。 - 特許庁
The biodegradable matting film material contains a biodegradable resin as a main component, and has a thickness of 10-50 μm, a transmittance of a visible light ray having a wavelength range of 400-700 nm of 10% or more, a surface state of a matting pattern and a tensile elastic modulus of 1.2 GPa or more.例文帳に追加
本発明の生分解性樹脂艶消しフィルム材料は、生分解性樹脂を主成分とする厚み10〜50μmのフィルムであって、400〜700nmの波長範囲の可視光線の透過率が10%以上で、表面状態が艶消し模様であり、引張弾性率が1.2GPa以上である事を特徴とする - 特許庁
The coupling efficiency is determined by calculating the intensity of the laser beam emitted from the semiconductor device and an intensity passing through the light-receiving section coupled with the semiconductor laser device in a dot shape, respectively, by using an equipment such as a far field pattern measuring device or the like which can measure the characteristics of the semiconductor laser device with relatively ease.例文帳に追加
遠視野像測定装置などの比較的容易に半導体レーザ素子の特性が測定できる装置を用い、半導体レーザ素子から出されるレーザ光の光強度および、半導体レーザ素子と結合させる受光部における受光部を通過する光強度のそれぞれをドット状に算出し、結合効率を求める。 - 特許庁
To provide a phase shifting mask capable of relatively easily suppressing size variation and dislocation of a pattern in projection exposure with an error in production nearly equal to that in the case of a conventional bored phase shifting mask by making the intensity of transmitted light from bored regions and that from unbored regions nearly equal to each other in a bored phase shifting mask.例文帳に追加
掘り込み型の位相シフトマスクにおいて、掘り込み部からの透過光と非掘り込み部からの透過光の強度を略一致させて、投影露光時のパターンのサイズ変動や位置ずれを、比較的容易に、かつ従来の掘り込み型位相シフトマスクと同程度の製造誤差で抑えることができる位相シフトマスクを提供する。 - 特許庁
To provide a display which enables an arbitrary pattern to be displayed in at least a part of an entirely black display screen by light non-emitting display elements even when a display power source is turned off and is superior in decoration and design and has an effect as an interior accessory and whose power consumption is reduced.例文帳に追加
本発明は、ディスプレイ電源をオフの状態にした場合でも画面全体が黒の表示画面内の少なくとも一部で非発光の表示素子による任意のパターン表示が可能となる、装飾性・意匠性に優れ、インテリアとしての効果を有する、消費電力も少ないディスプレイを提供することを目的とする。 - 特許庁
Switch patterns 13a confronting the respective key operation parts 14b are provided on the printed wiring board 13 so that they are brought into a conducting state by pressingly operating the respective key operation parts 14b while through holes 13b are provided around each switch pattern 13a allowing light to pass therethrough.例文帳に追加
プリント配線基板13には、各キー操作部14bが押圧操作されることによって、それぞれが導電状態になるように、各キー操作部14bに対向してスイッチパターン13aがそれぞれ設けられるとともに、各スイッチパターン13aの周囲に、光を透過させる貫通孔13bがそれぞれ設けられている。 - 特許庁
LED driving means 15 provides navigation from a current position to a destination by driving a predetermined number of LEDs 13 while associating the LEDs 13 with a light emission pattern comprises a combination of temporal change of the kinds and intensity of colors that the respective LEDs 13 emits according to navigation information generated by navigation information generation means 12.例文帳に追加
LED駆動手段15は、ナビゲート情報生成手段12で生成したナビゲート情報に応じて、所定数のLED13をそれぞれの発光する色の種類と発光の強さの時間的な変化の組み合わせからなる発光パターンと対応付けて駆動することで現在位置から目的地までのナビゲートを行う。 - 特許庁
Namely, since the part corresponding to the corner of the connector 10c of the second layer coil 4b of the opening provided in the photomask to the lead-out wire 10b is planely roundish, the detour of a light (ultraviolet rays) in the part is suppressed, and a photosensitive resist can be accurately exposed in a desired pattern shape.例文帳に追加
即ち、フォトマスクに設けられた開口部の前記2層目コイル4bと引出し線10bとの接続部10c角部に対応する部位は平面的に丸みを帯びているため、その部分での光(紫外線)の回り込みが抑制されて感光性レジストを所望のパターン形状にて正確に感光させることができる。 - 特許庁
To provide a positioning structure by which positioning and fine adjustment of original glass on which an original pattern has been formed and transfer glass are accurately and reliably performed with one member at low cost with respect to the positioning structure of an exposing device in which a plulality of original patterns are superposed on a transfer glass to transfer them on it with light.例文帳に追加
複数の原パターンを被転写ガラスに重ね合わせ、該複数の原パターンを光を使い被転写ガラスに転写する露光装置の位置決め構造において、原パターン記載の原ガラスと被転写ガラスとの位置決めと微調整を1個の部材で精度良く安価で確実に行う位置決め構造を提供する。 - 特許庁
To provide a highly precise mask structure, capable of obtaining a deposition pattern having high dimensional precision and in which a mask is fixed to a mask frame in a state with the tension being applied to the mask, while preventing deformation of the mask frame, and to provide a depositing method using the mask structure and a method of manufacturing an organic light-emitting element.例文帳に追加
本発明の目的は、高寸法精度の蒸着パターンを得ることができ、マスクフレームの変形を防止しつつマスクを張力が加えられた状態でマスクフレームに固定した高精度なマスク構造体およびそれを用いた蒸着方法、並びに有機発光素子の製造方法を提供することにある。 - 特許庁
To provide a photomechanical process for a planographic printing plate capable of giving an image with high resolution, adaptable to a direct pattern forming method with a laser, capable of giving an image particularly even in a light room, producing no waste liquid and very excellent in ink/water responsiveness and printing durability.例文帳に追加
平版印刷版の製版技術において、高解像性を有する画像を得ることができ、かつレーザによる直接描画方法に対応し、また特に明室下でも画像を得ることができ、廃液が発生することがなく、インキ/水応答性、耐刷性に非常に優れた平版印刷版の製版方法を提供すること。 - 特許庁
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