「light pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(138ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a photosensitive resin composition which has excellent sensitivity, and can suppress undercut occurred in a pattern after development even in such a situation that the photosensitive resin composition contains a light shielding agent or has insufficient exposure; and a color filter and a display device using the same.例文帳に追加

良好な感度を有し、かつ、感光性樹脂組成物が遮光剤を含んだり、露光量が不足したりするような状況にあっても、現像後のパターンにアンダーカットが生じることを抑制することのできる感光性樹脂組成物、並びにそれを用いたカラーフィルタ及び表示装置を提供すること。 - 特許庁

A control portion 17 inputs to itself the reflection factor and desired pattern width of a wafer which is measured by a reflection factor measuring device 20 before applying a photoresist to the wafer, and computes the exposure by using the exposure function stored in the exposure function storing portion 18 to control the power to be fed to a light source 11.例文帳に追加

制御部１７は、反射率測定装置２０で測定したフォトレジスト塗布前のウェハの反射率と所望のパターン幅とを入力し、露光量関数記憶部１８に記憶されている露光量関数を用いて露光量を演算して、光源１１に供給される電力を制御する。 - 特許庁

This solid preparation is covered with a continuous film coating layer having two or more colors or having a pattern having two or more colors and obtained by irradiating a part of a film coating layer containing one or more color pigments with light, a method for producing the same, and a film- coating agent are provided.例文帳に追加

本発明は、１色以上の色素を含むフィルムコーティング層の一部に光を照射することにより得られる２色以上の色彩又は２色以上の色彩の図柄を有する連続したフィルムコーティング層で被覆された固形製剤、その製造方法及びフィルムコーティング剤を提供することを目的とする。 - 特許庁

To solve problems on a technique adaptable to reduction in the thickness of a film for lithography using far ultraviolet light and to provide a radiation sensitive resin composition capable of reproducing a desired resist pattern which retains satisfactory intrasurface uniformity, has high resolving power and collapses hardly even in a thin film process.例文帳に追加

遠紫外光を使用するリソグラフィの薄膜化に対応する技術課題を解決することであり、具体的には薄膜プロセスにおいても十分な面内均一性が保持され、高解像力でパターン倒れの少ない、所望のレジストパターンを再現し得る感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

A frame 110 and at least one polarization pane 102 combined with the frame are provided, then a polarization direction of light which transmits the polarization pane is changed, by which the device is constituted so that at least one polarization pattern may be obtained over a pupil of the lighting device.例文帳に追加

前記課題は、フレーム１１０と該フレームに結合された少なくとも１つの偏光ペイン１０２とが設けられており、該偏光ペインを透過する光の偏光の方向を変化させることにより、少なくとも１つの偏光パタンが該照明装置の瞳にわたって得られるように構成することによって解決される。 - 特許庁

To provide a negative resist composition having sensitivity to a g-line, an i-line, a KrF excimer laser and an electron beam and usable in a mix and match process where exposure is performed using at least two kinds of exposure light sources selected from a g-line, an i-line, a KrF excimer laser and an electron beam, and to provide a resist pattern forming method.例文帳に追加

ｇ線、ｉ線、ＫｒＦエキシマレーザーおよび電子線に対する感度を有し、ｇ線、ｉ線、ＫｒＦエキシマレーザーおよび電子線から選ばれる少なくとも２種の露光光源を用いて露光するミックスアンドマッチ工程に使用できるネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To reduce unevenness in resist patterns on a mask due to a fogging effect in an exposure step in mask production (difference in dimension due to pattern density irregularity) and to provide a mask having high dimensional accuracy required for photolithography by which dimension equal to or below the wavelength of light for exposure (with a large numerical value of MEEF (mask error enhancement factor)) is formed on a wafer.例文帳に追加

マスク製造の露光工程においてFogging効果によるマスク上レジストパターンのばらつき（パターン疎密による寸法差）を低減し、ウェハ上で露光波長以下の寸法を加工する（ＭＥＥＦの数値が大きい）光リソグラフィで要求されるレベルの高寸法精度マスクを提供することを目的としている。 - 特許庁

A length of a shadow-like dark part with a distance between LED chips as a bottom side length becomes about 3 cm and the same is masked, and a strip-like region of the incident light dispersing pattern 13 becomes 1.5 cm and if the same is masked, a masking width becomes reduced to one half and an effective lighting area can be enlarged.例文帳に追加

ＬＥＤチップ２１の間隔を底辺とする影状暗部３の長さＬ１が３ｃｍ程度となり，そのマスクを行うのに対して，入射光拡散パタン１３の帯状領域幅Ｌ２が１．５ｃｍとなるから，この部分をマスクするとしてもマスク幅が１／２に縮小して有効照明面積を拡大できる。 - 特許庁

In the method of manufacturing the optical master disk for forming projecting and recessed patterns by developing an exposed photoresist, the photoresist layer is irradiated with the second harmonic of solid laser as reference beam in the development and the developing process is finished based on the level of a diffracted light in the projecting and recessed pattern.例文帳に追加

露光されたフォトレジスト層を現像し凹凸パターンを形成する光ディスク原盤の製造方法において、上記現像の際にフォトレジスト層に対して固体レーザの第２高調波を参照光として照射し、上記凹凸パターンにおける回折光のレベルに基づいて現像工程を終了させる。 - 特許庁

To solve the problems on a technique for improving the original performance of microphotofabrication using far ultraviolet light, EUV, electron beam or the like, particularly ArF excimer laser light; to provide an excellent actinic ray- or radiation-sensitive resin composition which in patterning by liquid immersion exposure as well as by normal exposure, suppresses development defects, can reduce line edge roughness, and ensures a wide exposure latitude; and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

遠紫外光、ＥＵＶ、電子線等、特にＡｒＦエキシマレーザー光を使用するミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、通常露光さらには液浸露光によるパターニングにおいても、現像欠陥が抑制されるとともに、ラインエッジラフネスを抑制でき、さらには露光ラチチュードが広く、優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In this enclosed aligner, an exposure light from an exposure light source 1 is projected via an illuminating optical system on a mask 8 serving as the original plate, and the pattern formed on the mask 8 is then projected via a projection lens 11 on a wafer 12 for the exposure of the wafer 12 serving as the photosensitive substrate.例文帳に追加

露光光源１からの露光光により照明光学系を介して原版としてのマスク８を照明し、マスク８に形成されたパターンを投影レンズ１１を介して感光基板としてのウエハ１２上に投影露光する露光装置であって、露光光源１から投影レンズ１１に至る露光光の光路上に配置される光学系素子を内部に配置した複数の筐体３，４，５，６，７と、該複数の筐体３〜７をガス置換するガス置換手段とを有する。 - 特許庁

A fabrication method of semiconductor device includes a process for pressing a mold 1 having a pattern formed thereon to a negative-type photoresist 2, a process for selectively irradiating an irradiated light 7 to the photoresist 2 by pressing the mold 1 to the photoresist 2 through the mold 1, and a process for patterning the photoresist 2 by removing an area of the photoresist 2 where the irradiated light 7 is not irradiated by developing the photoresist 2.例文帳に追加

本発明の半導体装置の製造方法は、パターンの形成されたモールド１をネガ型のフォトレジスト２に押し付ける工程と、モールド１をフォトレジスト２に押し付けた状態で、照射光７をモールド１を通じてフォトレジスト２に選択的に照射する工程と、フォトレジスト２を現像することによりフォトレジスト２の照射光７が照射されていない領域を除去してフォトレジスト２をパターニングする工程とを備えている。 - 特許庁

To provide an antireflection film forming composition, having high power to absorb reflected light and capable of forming an antireflection film which has full resistance, even with respect to a developing solution on which a resist pattern excellent in shape can easily be formed at a high etching rate, even if the antireflection film is made thick and difference in level on a substrate is planarized.例文帳に追加

反射光に対して吸収能が高く、エッチングレートが高く反射防止膜を厚膜にし基板上の段差を平坦化しても形状に優れたレジストパターンが容易に形成でき、かつ現像液に対しても充分な耐性を有する反射防止膜を形成できる反射防止膜形成用組成物を提供すること。 - 特許庁

When determining the film thickness optically by using visible light, since an object pattern has the size of about one-tenth of a detection wavelength after 45 nm node to be below a resolution, the measuring object can be assumed as a uniform layer structure, and the film thickness measurement in a short time can be realized by using an assumed model.例文帳に追加

可視光を用いて光学的に膜厚を求める場合、４５ｎｍノード以降では対象パターンが検出波長の１０分の１程度の大きさとなり解像度以下となるため、被計測対象を均一な層構造と仮定することができ、仮定したモデルを用いることにより短時間での膜厚計測を実現することができる。 - 特許庁

Further, an optical waveguide comprising a substrate plate 1 and a cladding layer 2 formed on the substrate plate 1, and formed with a core part 3 having a prescribed pattern and transmitting light signals, in the cladding layer 2 is provided with that at least one of the cladding layer 2 and core part 3 is formed by a resin composition containing the above trisoxetane ether compound.例文帳に追加

さらに、基板１と、その基板１上に形成されたクラッド層２とを備え、上記クラッド層２中に所定パターンで、光信号を伝搬するコア部３が形成されてなる光導波路であって、上記クラッド層２およびコア部３の少なくとも一方が、上記トリスオキセタンエーテル化合物を含有する樹脂組成物によって形成されている。 - 特許庁

Further, by shortening the dry etching time, a pattern of the light shielding film having an excellent sectional shape can be formed.例文帳に追加

透光性基板上に遮光膜を有するフォトマスクブランクにおいて、前記フォトマスクブランクは、前記遮光膜上に形成されるレジストパターンをマスクにしてドライエッチング処理により、前記遮光膜をパターニングするフォトマスクの作製方法に対応するドライエッチング処理用のマスクブランクであって、前記遮光膜は、前記ドライエッチング処理において、前記レジストとの選択比が１を超える材料で構成した。 - 特許庁

Another embodiment provides a manufacturing method for a solar cell module including: (a) a step of preparing a solar cell including an electrode pattern on at least one surface; and (b) a step of forming a light-transmitting passivation film by performing parylene coating on at least a front surface of the solar cell.例文帳に追加

また、他の実施形態によると、（ａ）少なくとも一面に電極パターンが形成された太陽電池セルを準備する段階と、（ｂ）太陽電池セルの少なくとも前面上にパリレン（ｐａｒｙｌｅｎｅ）コーティングを行って光透過性パッシベーション膜を形成する段階と、を含んでなる太陽電池モジュールの製造方法が提案される。 - 特許庁

In the manufacturing method of the organic EL element including a wet process for film-forming at least one organic light-emitting medium layer in a pixel zoned by barrier ribs made of an organic matter, a barrier-rib pattern is coated with one or more barrier rib insulating layers without any apertures.例文帳に追加

有機物からなる隔壁で区切られた画素内に、有機発光媒体層の少なくとも一層以上をウエットプロセスによって成膜する工程を含む有機ＥＬ素子の製造方法において、前記隔壁パターンが一層以上の隔壁絶縁被膜層で開口部なく被覆されていることを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法等を提供する。 - 特許庁

To make operation possible in a light room, and to enhance handleability, resolution, adhesiveness and storage stability and to make possible formation of a pattern high in density and precision and freedom by forming a photosensitive resin layer containing an infrared absorbing dye between a transparent organic support and an organic protective layer.例文帳に追加

明室下での作業が可能で取扱性に優れる上に、解像性、密着性、保存安定性にも優れ、設備投資、環境安全面の問題がなく、多品種少量生産、短納期化に対応可能な半導体レーザー等の直接描画により、高密度かつ微細で自由度の高いパターン形成が可能な感光性樹脂積層体を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing a master type mold for microfabrication is characterized in that laser light is irradiated on a polyurethane membrane with dispersed metal particles in accordance with the specified pattern, while developing on a substrate a paste composed of a polyurethane resin composite that contains a liquid of independently dispersed metal particles.例文帳に追加

金属微粒子が独立分散した金属微粒子分散液を含むポリウレタン樹脂組成物からなるペーストを基板上に展開して金属微粒子分散ポリウレタン薄膜を作製し、前記金属微粒子分散ポリウレタン薄膜に所定のパターンに従ってレーザ光を照射することを特徴とする微細加工型用マスター型の製造方法である。 - 特許庁

To provide a light-curable resin composition enabling formation of an optically functional sheet having a fine pattern, and sufficiently satisfying adhesion to a sheet base material, mold releasability from a mold, a high refractive index of a work layer, surface hardness, flexibility and flaw resistance of the sheet, and to provide the optically functional sheet showing excellent front luminance.例文帳に追加

本発明は、微細なパターンを有する光学機能性シートを形成可能とし、シート基材との密着性、金型との離型性、加工層の高屈折率、表面硬度とシートの柔軟性・耐擦傷性を十分に満足できる光硬化性樹脂組成物および正面輝度に優れた光学機能性シートを提供せんとするものである。 - 特許庁

To reduce an electrode width and increase an electrode cross sectional aspect ratio for the purposes of expanding a light indent opening face and lowering electrode wiring resistance, a discharge passage is tilted in a coating direction relative to the cell substrate by using the coating head 5 whose nozzles are shaped like a long hole, whereby collision energy at discharge time is alleviated and a desired electrode pattern is obtained.例文帳に追加

光入射開口面の増加と電極配線抵抗の低減という目的から電極幅を低減し電極断面アスペクト比を増大させるため、長孔のノズル形状の塗布ヘッド５を用い吐出流路をセル基板に対して塗布方向に傾けることで、吐出時の衝突エネルギを緩和して所期の電極パターンが得られる。 - 特許庁

In the luminance-uniformiazing sheet 1, a white diffusion layer 12 containing at least one kind of an ultraviolet absorbent from among cyanoacrylate base, oxalic acid anilide base, malonic ester base is formed in a pattern adjusted so as to equalize and emit an incident light having nonuniformized luminance distribution, on at least one surface of a translucent substrate 11.例文帳に追加

透光性基材１１の少なくとも片面に、不均一な輝度分布を有する入射光を均斉化して出射できるよう調整されたパターン状に、シアノアクリレート系、蓚酸アニリド系、マロン酸エステル系の内、少なくとも１種の紫外線吸収剤を含む白色拡散層１２が形成されていることを特徴とする輝度均斉化シート１である。 - 特許庁

In the pixel formation area preformed on a transparent substrate, an ink layer is formed by selectively sticking the curable color ink of ≥40 wt.% in solid-component density which contains a pigment and a curable component with an ink jet method, and the ink layer is cured by light irradiation and/or heat irradiation to form a prescribed pattern.例文帳に追加

透明基板上に予め形成される画素形成領域に、顔料および硬化可能な成分を含む固形分濃度が４０重量％以上である硬化性カラーインクを、インクジェット法によって選択的に付着させて、インク層を形成し、該インク層を、光照射および／または熱照射によって硬化させて所定のパターンを形成する。 - 特許庁

In an optical disk master production device 20, a resist substrate 103 is obtained by depositing an inorganic resist material made of incomplete oxides of transition metal on a substrate 100 to form a resist layer 102, and the resist layer 102 is irradiated with singular output light LE to be selectively exposed in accordance with a desired rugged pattern.例文帳に追加

光ディスク用原盤製造装置２０は遷移金属の不完全酸化物からなる無機レジスト材料を基板１００上に成膜してレジスト層１０２を形成しレジスト基板１０３を得て、当該レジスト層１０２に特異出力光ＬＥを照射し所望の凹凸パターンと対応した選択的な露光を施し感光させる。 - 特許庁

To shorten the total time required for regulating an imaging apparatus by applying a first high speed communication mode to common data, at the time of writing binary measurement pattern for detecting respective quantity of exposure or writing regulated data in an apparatus for recording an image using a plurality of laser light emitting elements.例文帳に追加

複数のレーザ発光素子を用いて画像を記録する装置において、それぞれの露光量検出のための測定用２値パターンの書き込む際、及び、調整後のデータを書き込むときの共通なデータについては、高速な第１の通信モードを適用することにより、画像形成装置の調整にかかるトータル時間を短縮させる。 - 特許庁

The method for forming an image is carried out by using the above photoresist in steps of forming a photoresist layer on a substrate, irradiating the photoresist layer with light through a mask corresponding to a specified pattern, developing the photoresist film with a developing solution containing an alkali and removing the exposed part to form a positive image.例文帳に追加

更に、本発明によれば、基材上にフォトレジスト層を形成し、所望のパターンに対応するマスクを介して上記フォトレジスト層に光照射した後、得られたフォトレジスト膜をアルカリを含む現像液で現像し、露光部を除去して、ボジ型画像を形成する画像形成方法において、上記フォトレジストを用いる方法が提供される。 - 特許庁

On a flexible substrate 30 having a wiring pattern 21, a block 40 positioning optical fibers 2a and 2b at positioning grooves (first positioning parts) 41a and 41b and having a projection 42 (second positioning part) for positioning an optical component 50 for aligning the optical fibers 2a and 2b and a light emitting element, and the optical component 50 having an optical semiconductor element are mounted.例文帳に追加

配線パターン２１を有するフレキシブル基板２０には、光ファイバ２ａ，２ｂを位置決め溝（第１の位置決め部）４１ａ，４１ｂに位置決めし、光ファイバ２ａ，２ｂと発光素子との調芯のために光部品５０を位置決めする突起４２（第２の位置決め部）を有するブロック４０、及び光半導体素子を有する光部品５０が実装されている。 - 特許庁

The fingerprint sensor 10 which receives light from the finger which is brought near and detects the finger print pattern of the finger is equipped with a low-resistance layer 15 which is connected to a fixed voltage covering the top of a signal transmitting path 14 between a prescribed region of an upper surface of the fingerprint sensor on which the finger is mounted and the signal transmitting path 14 of the fingerprint sensor.例文帳に追加

近接された指からの光を受光し、指の指紋パターンを検出する指紋センサ１０において、指を載置する当該指紋センサの上面の所定領域と当該指紋センサにおける信号伝送路１４との間に、信号伝送路１４の上方を覆う固定電位に接続された低抵抗層１５を設ける。 - 特許庁

In the method of producing a semiconductor base material, when an etching mask for forming protrusions and recesses on the surface of a semiconductor base material by photolithography processing of a resist film, a transfer mask 100 where the dimensions of a dot-shaped light-shielding portion 104, i.e. a pattern of protrusions and recesses near the region where the exposure shots overlap, are corrected previously.例文帳に追加

半導体基材を製造する方法において、半導体基材の表面に凹凸部を形成するためのエッチングマスクをレジスト膜のフォトリソグラフィ処理により形成する際、転写用マスク１００として、あらかじめ露光ショットの重なる領域付近にある凹凸パターンであるドット状遮光部１０４の寸法を補正した転写用マスクを使用する。 - 特許庁

The gray tone mask has a pattern comprising a light shielding part, an opening and a semitransmitting part, wherein a semitransmitting film constituting the semitransmitting part is composed of a metal Cr film formed as a first thin film, and a Cr oxide film or a Cr oxide nitride film or a Cr nitride film as a second thin film formed on the first thin film.例文帳に追加

遮光部と、開口部と、半透光部とから成るパターンを有するグレートーンマスクにおいて、半透光部を形成する半透光膜が第一の薄膜として形成した金属Ｃｒ膜と、この第一の薄膜上に第二の薄膜として形成した酸化Ｃｒ膜、又は酸窒化Ｃｒ膜、又は窒化Ｃｒ膜とで構成される。 - 特許庁

To provide a positive radiation sensitive resin composition which excels in application property and radiation sensitivity, provides good pattern form and can form an interlayer insulating film having excellent heat resistance, solvent resistance, light transmittance, dry-etching resistance, and the interlayer insulating film obtained from the composition and a method for forming the film.例文帳に追加

塗布性に優れ、放射線感度、及び良好なパターン形状が得られると共に、耐熱性、耐溶剤性、光線透過率、耐ドライエッチング性に優れた層間絶縁膜を形成することが可能なポジ型感放射線性樹脂組成物、その組成物から得られた層間絶縁膜、並びにその層間絶縁膜の形成方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a reflection type photomask blank including a reflection prevention film having a reflection preventing function for the whole inspection light of a wavelength range of 190-260 nm and enabling the reflection prevention film applied to a pattern non-open portion of a reflection type photomask to be easily manufactured, and to provide the reflection type photomask and a method for manufacturing the reflection type photomask.例文帳に追加

反射型フォトマスクのパターン非開口部にかかる反射防止膜の製造を容易に行うことができ、且つ、波長範囲１９０ｎｍ〜２６０ｎｍの検査光全てに対して反射防止機能を有する反射防止膜を具備する反射型フォトマスクブランク及び反射型フォトマスク、並びに反射型フォトマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

The card reading device includes: a card guide allowing rotation of the card; an infrared light source; a bandpass filter; an imaging means; a watermark pattern image obtaining means; a blocking means; a data conversion amplitude obtaining means; a total amplitude obtaining means; a magnification/reduction rate detection means; a rotation angle detection means; and a data detection means.例文帳に追加

カード読み取り装置は、カードを回転させることが可能なカードガイドと、赤外光源と、帯域通過フィルタと、撮像手段と、透かしパターン画像取得手段と、ブロック化手段と、データ変換振幅取得手段と、総和振幅取得手段と、拡大縮小率検出手段と、回転角検出手段と、データ検出手段と、を有する。 - 特許庁

The inspection method of an element mounted to a substrate includes a stage of generating a shape template corresponding to the element, a stage of irradiating the substrate with the lattice pattern light of an illumination part to acquire height information at each pixel, a stage of generating a contrast map corresponding to the height information at each pixel, and a stage of comparing the contrast map with the shape template.例文帳に追加

基板に装着された素子の検査方法において、素子に対応する形状テンプレートを生成する段階と、照明部の格子パターン光を基板に照射してピクセル別高さ情報を獲得する段階と、ピクセル別高さ情報に対応してコントラストマップを生成する段階と、コントラストマップと形状テンプレートとを比較する段階と、を含む。 - 特許庁

This sheet-shaped mold position detector 183 used when the sheet-shaped mold M having the minute transfer pattern M1 formed thereon is transferred and positioned, includes a sheet-shaped mold position detection means 191 detecting a predetermined portion of the sheet-shaped mold M by detecting a light transmission rate in the sheet-shaped mold M.例文帳に追加

微細な転写パターンＭ１が形成されているシート状モールドＭを移送して位置決めするときに使用されるシート状モールド位置検出装置１８３において、シート状モールドＭにおける光の透過率を検出することによって、シート状モールドＭの所定部位を検出するシート状モールド位置検出手段１９１を有する。 - 特許庁

To provide a light diffusion film for a backlight device which can provide optical characteristics necessary for a backlight device, such as high luminance, reduction in angle dependency of luminance, uniformity of in-plane luminance, and pattern-shielding properties by using only one sheet of member, and to provide a backlight device having high performance and superior cost benefit by using the film.例文帳に追加

一枚だけの部材を使用することで高い輝度、輝度の角度依存性の低減、面内輝度均質性及びパターン隠蔽性等のバックライト装置が具備する必要のある光学特性を付与することができるバックライト装置用光拡散フィルム及びそれを用いてなる高性能で、かつ経済性に優れたバックライト装置を提供すること。 - 特許庁

This vehicular lighting fixture system 100 includes a vehicular lighting fixture 70 capable of forming the light distribution pattern for a high beam divided into a plurality of irradiation areas in the vehicle width direction and switching the existence of irradiation of respective irradiation areas, and a control part for controlling the vehicular lighting fixture based on information for indicating a vehicle front state.例文帳に追加

車両用灯具システム１００は、車幅方向で複数の照射領域に分割されそれぞれの照射領域の照射の有無が切り替えられるハイビーム用配光パターンを形成可能な車両用灯具７０と、車両前方状況を示す情報に基づいて車両用灯具を制御する制御部と、を備える。 - 特許庁

To solve the problem that almost no reaction mechanisms of highly practicable organic molecules such as photochromic molecules with quantum beams have been made clear and that no promising proposals have been made concerning next-generation recording systems that enhance recording density by leaps and bounds though utilization of quantum beams having a wavelength of a pattern size or less is inevitable as light used for densification.例文帳に追加

高密度化のために用いる光は、その波長がパターンサイズ以下の量子ビームの利用が必須となるが、フォトクロミック分子など実用性の高い有機分子の量子ビームによる反応機構はほとんど解明されておらず、記憶密度を飛躍的に向上させる次世代の記録システムに関する有力な提案はなされていない。 - 特許庁

A target area is repeatedly imaged by constituting a three-dimensional space with the head/face part and an active optical device, assigning the position and posture of the head/face part based on physical anthropology standards, and geometrical-optically reassigning the position and posture of the head/face part based on a reflection pattern image of a structural light coaxially projected on the surface of the head/face part.例文帳に追加

頭顔部と能動光学装置を含んで３次元世界空間を構成し、頭顔部の位置と姿勢を自然人類学の基準に基づいて定位し、更に頭顔部表面に同軸投光した構造光の反射パタン画像に基づいて幾何光学的に再定位することにより、対象領域を繰り返し撮像する。 - 特許庁

In a vehicle headlight, a headlight unit has a first movable shade with a side edge and an upper edge for forming an additional light-distributing pattern PA2 which has a vertical cut-off line CV1 turned to an opposite lane side and a horizontal cut-off line CH1 turned upward, and a position of the side edge is set up at a position separated from an optical axis to a road shoulder side.例文帳に追加

灯具ユニットとして、対向車線側を向いた鉛直カットオフラインＣＶ１および上向きの水平カットオフラインＣＨ１を有する付加配光パターンＰＡ２を形成するための側端縁および上端縁を有する可動式の第１シェードを備えた構成とし、その側端縁の位置を光軸から路肩側に離れた位置に設定する。 - 特許庁

A dice body formed of a regular hexagonal or polygonal body having different character displays such as figure, character, pattern or the like on each face is formed of a transparent or translucent material, and a light emission part which senses the vibration and result when throwing the dice to flash on and off for a scheduled time and a control circuit therefor are fitted within the dice body.例文帳に追加

各面に異なる数字・文字・図柄などのキャラクタ表示がなされた正六面体または正多面体よりなるサイコロ本体を、透明または半透明な材料で構成すると共に、前記サイコロ本体内に、サイコロが振られた際の振動、結果を感知して予定の時間、点滅する発光部およびその制御回路を装備している。 - 特許庁

A hole transport/injection layer or a light-emitting hole transport layer, with a high heat resistance having crosslinking group, having a pattern formed by mask exposure, can be effectively formed by using a hole transporting condensate with a high Tg formed by addition condensation of aromatic tertiary amine having a triarylamine structure and a carbonyl compound like aldehyde.例文帳に追加

トリアリールアミン構造を有する芳香族第三級アミンとアルデヒド等のカルボニル化合物との付加縮合により生成されるＴｇの高い正孔輸送性縮合物を用いると、耐熱性が高く、架橋基を有することもでき、マスク露光によるパターン形成した正孔輸送注入層や正孔輸送発光層を形成するのに効果がある。 - 特許庁

Thread parts 20 of a stitch pattern ST are formed by changing the color of the front face 12 of a base material 10 and needle hole parts 22 engraved into a recessed recess shape from the front face 12 are formed in the end parts of the thread parts 20 by casting laser light onto the front face of the synthetic resin made base material 10 shaped into a desired shape in a prior step.例文帳に追加

前工程において所要形状に成形した合成樹脂製の基材１０の表面に向けレーザー光を照射して、基材１０の表面１２を変色させてステッチ模様ＳＴの糸部２０を形成すると共に、糸部２０の端部には表面１２から陥凹状に彫り込んだ針穴部２２を形成する。 - 特許庁

To provide a resin sheet with an attached color filter which is thin, light in weight, with a high gas barrier function and with low variation of yellow chromaticity, a precise and efficient method for manufacturing the resin sheet with the attached color filter preventing deviation of a pattern in laminating the color filter and the liquid crystal display device using the resin sheet with the attached color filter.例文帳に追加

本発明は薄型、軽量で高いガスバリア機能を有し黄色度変化率が小さいカラーフィルター付き樹脂シート、カラーフィルターを積層する際にパターニングの位置ずれを防止し精度よく効率的なカラーフィルター付き樹脂シートの製造方法、および上記カラーフィルター付き樹脂シートを用いた液晶表示装置を提供することを課題とする。 - 特許庁