「light pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(140ページ目) - Weblio英語例文検索

An opening formed in a photoresist layer is filled with a non- photosensitive organic film, then the non-photosensitive organic film formed on the photoresist layer is etched back until the photoresist layer is exposed, and all the surface of the photoresist layer is exposed to light and developed, by which the photoresist layer is removed, and a non-photosensitive organic film having a required pattern can be obtained.例文帳に追加

フォトレジスト層に形成された開口部を非感光性有機膜で埋め込み、フォトレジスト層上の非感光性有機膜をフォトレジスト層が露出するまで全面エッチバックし、フォトレジスト層全面を露光及び現像してフォトレジスト層を除去することで、所望するパターンの非感光性有機膜を得ることにより上記の課題を解決する。 - 特許庁

After forming a resist film 101 comprising a chemical amplifying type resist material, a pattern exposure is conducted by selectively irradiating an exposing light 104 to a resist film 102 with a solution 103 supplied on the resist film 102 with its per fluoro polyether added by water and temporarily retained in a solution retaining part as circulating.例文帳に追加

化学増幅型レジスト材料よりなるレジスト膜１０１を形成した後、パーフルオロポリエーテルに水が添加されており且つ循環しながら溶液貯留部に一時的に貯留されている溶液１０３をレジスト膜１０２の上に供給した状態で、露光光１０４をレジスト膜１０２に選択的に照射してパターン露光を行なう。 - 特許庁

To improve freedom in designing a waveguide width by butt-joint-joining a modulator region and a laser region, reduce reflectivity on an emission end surface of laser light by providing a bent waveguide structure in the modulator region, and accurately align angles by making a mounting marker into a linear pattern.例文帳に追加

変調器領域とレーザ領域とをバットジョイント接合させることにより、導波路幅の設計の自由度が高められ、変調器領域に曲がり導波路構造が設けられることにより、レーザ光の出射端面での反射率が低減され、及び、実装用マーカを直線状パターンにすることにより、精度の良い角度合わせをする。 - 特許庁

In semiconductor wafer including an insulated substrate having light transparency and a plurality of chip forming regions formed of silicon semiconductor layer formed on the insulated substrate and defined by scribe line regions, a non-transparent pattern layer is provided in the scribe line region wherein a plurality of non-transparent figures separated via gaps with each other are arranged.例文帳に追加

透光性を有する絶縁基板と、絶縁基板上に形成されたシリコン半導体層とで形成され、スクライブライン領域により区画された複数のチップ形成領域を有する半導体ウェハにおいて、スクライブライン領域に、互いに隙間を介して離間する複数の不透明図形を配置した不透明パターン層を設ける。 - 特許庁

To solve the problem of a performance enhancing technique in the microfabrication of a semiconductor device using active light or radiation, particularly electron beams or X-rays and to provide a resist composition which simultaneously satisfies sensitivity, resolution, a rectangular pattern shape and good edge roughness when electron beams or X-rays are used.例文帳に追加

活性光線又は放射線、特に電子線又はＸ線を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、電子線又はＸ線の使用に対して感度と、解像性、矩形なパターン形状、良好なエッジラフネスの特性とを同時に満足するレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive resist composition having satisfactory transmittance when F_2 excimer laser light (157nm) is used and ensuring improved line edge roughness, few development defects and improved heat resistance of a resist pattern formed on a substrate.例文帳に追加

１６０ｎｍ以下、特にＦ_２エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には１５７ｎｍの光源使用時に十分な透過性を示し、且つラインエッジラフネス、現像欠陥及び基板上に形成されたレジストパターンの耐熱性が改善されたポジ型レジスト組成物を提供することである。 - 特許庁

To provide a functional support having highly sensitive photoreactivity in visible light region, to provide a graft polymer layer laminate provided with a graft pattern layer which is formed by using the functional support, has high sensitivity and has suppressed decrease in film thickness over time even after heating storage, to provide a metal ion-containing material obtained by using the graft polymer layer laminate, and to provide a metal film laminate.例文帳に追加

可視光領域で高感度な光反応性を持つ機能性支持体、及び、それを用いて形成された、高感度で、加熱保存後も経時的な膜厚の減少が抑制されたグラフトパターン層を備えるグラフトポリマー層積層体、それを用いて得られる金属イオン含有材料、金属膜積層体を提供する。 - 特許庁

In a decorative material having minute indentations formed on the surface of a base, the indentations are formed of a set of minute projections 1 arranged with prescribed pitches and having light diffusion properties, and shape parameters of the projections 1, such as a rate of flatness, are changed continuously in the horizontal direction so that they correspond to a surface pattern to be expressed.例文帳に追加

基材表面に微小な凹凸形状が形成された化粧材であって、該凹凸形状を、所定のピッチをもって配列してなる光拡散性を有する微小な凸部の集合によって形成し、前記凸部の偏平率等の形状パラメータを水平方向において、表現すべき表面パターンに対応させて連続的に変化させる。 - 特許庁

When the photosensor 55 is irradiated with light of more than specified brightness, the shutter 9 is opened and closed at a prescribed pattern for a prescribed time to light the electric bulb 13.例文帳に追加

合成樹脂製の外殻３と、吸盤５と、外殻３の前面に固定した半球突部７と、この半球突部７に設けた目玉模様７ａと、この目玉模様７ａを覆い隠した閉じ位置と目玉模様７ａを露出させた開き位置との間を移動する瞼様のシャッター９と、目玉模様７ａの後ろに配置した小型電球１３と、光センサー５５と、シャッター駆動機構１１を備え、光センサー５５に一定の明るさ以上の光が照射したとき、一定時間、所定のパターンでシャッター９を開閉させ且つ電球１３を点灯させる。 - 特許庁

HEAD CAP, LIQUID JET DEVICE HAVING THE SAME, METHODS FOR MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE, ORGANIC EL DEVICE, ELECTRON EMITTING DEVICE, PDP DEVICE, CATAPHORESIS DISPLAY DEVICE, COLOR FILTER, AND ORGANIC EL, AND METHODS FOR FORMING SPACER, METALLIC WIRING PATTERN, LENS, RESIST AND LIGHT DIFFUSION BODY例文帳に追加

ヘッドキャップおよびこれを備えた液滴吐出装置、並びに液晶表示装置の製造方法、有機ＥＬ装置の製造方法、電子放出装置の製造方法、ＰＤＰ装置の製造方法、電気泳動表示装置の製造方法、カラーフィルタの製造方法、有機ＥＬの製造方法、スペーサ形成方法、金属配線形成方法、レンズ形成方法、レジスト形成方法および光拡散体形成方法 - 特許庁

To provide an antireflection film which has a high antireflection effect, with which a photoresist pattern having no large footing in the lower part can be formed without causing to intermix with a photoresist, and which can be used for lithographic processes using irradiation light such as an ArF excimer laser and a F2 excimer laser, and to provide a composition for forming the antireflection film.例文帳に追加

反射光防止効果が高く、フォトレジストとのインターミキシングを起こさず、下部に大きなすそ引き形状を有さないフォトレジストパターンを形成することができ、ＡｒＦエキシマレーザー及びＦ２エキシマレーザー等の照射光を用いたリソグラフィープロセスにおいて使用できる反射防止膜、及び該反射防止膜を形成するための反射防止膜形成組成物を提供すること。 - 特許庁

The light-extraction pattern area 4 includes: a first area 41 including a first positive slope section when it is represented graphically with locating a distance from the entrance surface 132 on the abscissa and locating a coverage on the ordinate; and a second area 42 including a second positive slope section whose slope is more gradual than the first slope in a manner connecting to the graph representing the first area 41.例文帳に追加

光取出しパターン領域４は、入射面１３２からの距離を横軸に、被覆率を縦軸にとってグラフに表現したときに、正の第１の傾きの区間を有する第１領域４１と、第１領域４１のグラフと接続するようにして上記第１の傾きより緩やかな正の第２の傾きの区間を有する第２領域４２とを含む。 - 特許庁

This decorated plastic molding is obtained by the steps of forming a specular layer with metallic luster on the surface, forming a transparent coating film layer on the specular layer, forming a mat-finished print layer capable of transmitting light in a predetermined pattern on the transparent coating film layer, thereby realizing to produce patterns having three-dimensional visual effects by virtue of mat printed parts and specular non-printed parts.例文帳に追加

加飾プラスチック成形品において、表面に金属状光沢を有した鏡面層を形成し、この鏡面層上に透明塗膜層を形成し、この透明塗膜層上に所定のパターンで光線透過可能なマット仕上げの印刷層を形成し、マット状の印刷部分と鏡面状の非印刷部分により、立体的な視覚効果を有する模様を現出する構成とする。 - 特許庁

The pattern forming method comprises a step of bonding a compound, to a substrate, having both a polymerization initiating moiety capable of undergoing photocleavage to initiate radical polymerization and a substrate bonding moiety, and a step of contacting a radical-polymerizable unsaturated compound with the substrate and exposing light thereto patternwise, so as to form a region where a graft polymer is generated and a region where a graft polymer is not generated.例文帳に追加

光開裂によりラジカル重合を開始しうる重合開始部位と基材結合部位とを有する化合物を基材に結合させる工程と、該基材上にラジカル重合可能な不飽和化合物を接触させて、パターン状に露光して、グラフトポリマー生成領域と非生成領域とを形成する工程と、をこの順に行うことを特徴とするパターン形成方法である。 - 特許庁

The printed wiring board 10 is characterized in that a light-transparent base film 11 is provided with: a wiring pattern 12 including the connection terminal 122 electrically connected to the another terminal through solder in a stacked state and a wiring portion 121 connecting with the connection terminal 122; and a cover film 13 having a cut portion 131 formed to expose a connection portion of the connection terminal 122.例文帳に追加

プリント配線基板１０は、光透過性を有するベースフィルム１１に、他の端子と重ね合わせて半田を介在させて導通接続する接続端子１２２と接続端子１２２に繋がる配線部１２１とを備えた配線パターン１２が設けられていると共に、接続端子１２２の接続部分を露出させる切欠部１３１が形成されたカバーフィルム１３が設けられている。 - 特許庁

A metal dispersion liquid containing metal nano fine particles having about 0.5 nm to 200 nm particle size is applied onto the entire surface of a substrate and dried, locally irradiated with a laser beam emitting light at 300 nm to 550 nm wavelength to couple the metal fine particles to draw a wiring pattern, and cleaned to remove the metal dispersion liquid in an unnecessary part to form desired wiring on the substrate.例文帳に追加

粒径が０．５ｎｍ〜２００ｎｍ程度の金属ナノ微粒子を含む金属分散液を、基板全面に塗布乾燥し、３００ｎｍ〜５５０ｎｍの波長の光を発生するレーザビームを局所的にあて金属微粒子を結合させることによって配線パターンをえがき洗浄して不要部分の金属分散液を除去し所望の配線を基板上に形成する。 - 特許庁

To provide the composition of an antireflection film material for a photoresist which enables the formation of an antireflection film having high absorbance with respect to light of wavelengths used for exposure and the reduction in the adverse effect of standing waves caused by the reflection from a substrate, to improve the limit resolving power of the photo resist and to obtain a good resist profile and also to provide a resist pattern forming method using the composition.例文帳に追加

露光に用いられる波長の光に対して吸光度が高い反射防止膜が形成され、基板からの反射により発生する定在波の悪影響を低減することができ、その結果、フォトレジストの限界解像力が向上し、良好なレジストプロファイルが得られるフォトレジスト用反射防止膜材料組成物及びそれを用いたレジストパターン形成法を提供すること。 - 特許庁

The method includes: a step where an anodically oxidized coating is formed to light metal or an alloy thereof; a step where it is dipped into an aqueous solution containing at least one or more water soluble compounds selected from the group consisting of a water soluble zirconium compound, a water soluble vanadium compound and a water soluble titanium compound; and further; a step where a design pattern is printed or transferred thereto.例文帳に追加

軽金属又はそれらの合金に対して陽極酸化皮膜を形成する工程と、その後に、それぞれ水溶性のジルコニウム化合物、バナジウム化合物、チタン化合物の郡から選ばれた少なくとも１つ以上の水溶性化合物を含有する水溶液に浸漬する工程の後に、さらに、意匠模様を印刷又は転写する工程を含むことを特徴とする - 特許庁

A shielding control means 75d controls applied voltage to each dot based on the determination result of the superimposition determining means 75c to control the transmitting state of light from the back of the monochromatic transparent liquid crystal panel 45 by each dot for controlling dots which are not superposed with the picture pattern 81 displayed on the color transparent liquid crystal panel 43 to be transparent and for controlling superposed dots to be opaque.例文帳に追加

遮光制御手段７５ｄは、重畳判定手段７５ｃの判定結果に基づき各ドットに対する印加電圧を制御することにより、モノクロ透明液晶パネル４５の背後からの光の透過状態をドットごとに制御するもので、カラー透明液晶パネル４３に表示される絵柄８１と重ならないドットを透明に制御し、重なるドットを不透明に制御する。 - 特許庁

To provide an optical device and a microscope whose resolution is excellent and whose sectioning effect is excellent, by which time required until obtaining an output image is shortened and the inside of an object to intensively scatter light is observed without adding a fluorescent pigment and is observed by excellent resolution without being affected by vibration or the like and also the lamination structure of an IC pattern formed on a semiconductor wafer is observed.例文帳に追加

高解像でセクショニング効果が高く、出力画像を得るまでの時間を短縮化でき、光を強く散乱する物体の内部を、蛍光色素を付加することなく観察可能で、振動等に強く高解像で観察可能であり、更に、半導体ウエハー上に形成されたＩＣパターンの積層構造をも観察可能な光学装置及び顕微鏡を提供する。 - 特許庁

Thus, the freshness evaluation device 4 can perform the objective freshness evaluation of the specimen 9 based on the contrast values C where the freshness is digitized, and can perform the freshness evaluation based on a predetermined arithmetic processing simply by imaging a stripe pattern image generated by near-infrared light L_1 radiated to the specimen 9, so that the freshness evaluation can be performed easily and rapidly comparing with the conventional art.例文帳に追加

かくして、この鮮度評価装置４では、鮮度を数値化したコントラスト値Ｃによって被検体９の客観的な鮮度評価を行えると共に、被検体９に照射した近赤外光Ｌ_１が生成する縞パターン画像を単に撮像するだけで所定の演算処理を基に鮮度評価を行うことができるので、従来に比べて容易かつ迅速に行い得る。 - 特許庁

The wiring circuit board 1 is obtained by preparing a support substrate 2 and a base insulating layer 3 respectively, bonding the reverse surface of the base insulating layer 3 having been subjected to activation processing to the support substrate 2 using laser light 9 after previously performing activation processing on the top surface of the base insulating layer 3, forming a conductor pattern 4 on the base insulating layer 3, and then removing the support substrate 2.例文帳に追加

支持基板２とベース絶縁層３とをそれぞれ用意し、ベース絶縁層３の表面を、予め活性化処理した後、活性化処理されたベース絶縁層３の下面を、レーザー光９を用いて支持基板２と接合し、ベース絶縁層３の上に導体パターン４を形成し、その後、支持基板２を除去することにより、配線回路基板１を得る。 - 特許庁

The color filter comprises: a substrate 1; resin parts 2 which are formed on the substrate 1 in a pattern shape; the colored layer 3 formed on an opening part divided by the resin parts 2; and light shielding parts 4 which are thicker than the width of the resin parts 2 and are formed on the resin parts 2 so as to cover edge parts of the colored layer 3.例文帳に追加

上記目的を達成するために、基材１と、前記基材１上にパターン状に形成された樹脂部２と、前記樹脂部２により区画された開口部上に形成された着色層３と、前記樹脂部２上に、前記樹脂部２の幅より太くかつ前記着色層３の端部を覆うように形成された遮光部４とを有することを特徴とするカラーフィルタを提供する。 - 特許庁

It is possible to obtain an epi-illumination function for generating an epi-illumination image indicating a reflected state in the tape 10 and a transmission light illumination function for generating a transmission illumination image indicating transparency distribution in the tape 10 only with one lighting system 4, thus simultaneously acquiring the epi-illumination and transmission illumination images related to one pattern to be inspected.例文帳に追加

テープ１０における反射状態を表す落射照明イメージを生成するための落射光照明の機能と、テープ１０における透明度の分布を表す透過照明イメージを生成するための透過光照明の機能とが、１つの照明装置４だけで得られるので、１つの被検査パターンに関する落射照明イメージ及び透過照明イメージが同時に取得できる。 - 特許庁

The phase shift mask is provided with a shielded region having a line pattern formed therein and first and second transparent regions disposed on both sides of the shielded region on a substrate transparent to irradiated light, wherein a phase shifter is formed below the first transparent region and a side wall of the phase shifter has a curved portion convex to the outside.例文帳に追加

照射光に対して透明な基板上に、ラインパターンが形成された遮蔽領域と、前記遮蔽領域の両側にそれぞれ配置された第一の透明領域および第二の透明領域とを有し、前記第一の透明領域の下方には位相シフタが形成されており、前記位相シフタの側壁が、外側に凸の湾曲部を有している位相シフトマスクを提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing a polarized light diffractive cholesteric liquid crystal film contains the first step to form a cholesteric liquid crystal film on an alignment supporting substrate, the second step to transfer a diffraction pattern of a diffraction element substrate to the surface of the cholesteric liquid crystal film and to form a region exhibiting diffractiveness on a part of the film and the third step to release the alignment supporting substrate from the cholesteric liquid crystal film.例文帳に追加

配向支持基板上にコレステリック液晶フィルムを形成する第１工程、コレステリック液晶フィルム面に回折素子基板の回折パターンを転写し、フィルムの一部に回折能を示す領域を形成する第２工程、及びコレステリック液晶フィルムから配向支持基板を剥離する第３工程、を含む偏光回折性コレステリック液晶フィルムの製造方法である。 - 特許庁

A value difference between the input value of an aligner used for subjecting a photoresist layer on a wafer W to light exposure and a measured value obtained through an overlay measuring unit 20 which measures the exposed and developed photoresist pattern is obtained, a correction value for correcting the input value so as to reduce the value difference is calculated, and the correction value is managed as exposure process data by the generation hour.例文帳に追加

ウェーハＷ上のフォトレジストを露光するための露光装置の入力値と、露光処理され現像されたフォトレジストパターンをオーバーレイ測定機２０を通じて得た測定値との間の誤差値を得て、誤差値を減少させるように入力値を補正するための補正値を算出し、補正値を次の補正値の算出のための露光工程データとして生成時間単位に管理する。 - 特許庁

The hold type image display device using a backlight 11 as the light source includes a means 8 which controls a turning-on/off pattern and period of the backlight at a frame rate different from a frame rate of image signal processing by a LSI and data write to a display device 7 without changing this frame rate when displaying the video image signal telecine-converted by the 3:2 pull-down system.例文帳に追加

バックライト１１を光源とするホールド型の映像表示装置において、３：２プルダウン方式によりテレシネ変換されたビデオ映像信号の表示時に、ＬＳＩによる映像信号処理と表示装置７へのデータ書込みのフレームレートを変更することなしに、バックライトの点滅パターンと周期をフレームレートと異なるフレームレートで制御する手段８を具備する。 - 特許庁

The projector is equipped with an image forming part constituted of a plurality of pixels forming an image pattern corresponding to image information in order to project the image information onto a screen, and an illumination means having light emitting members (LED) respectively arranged at different positions at an equal distance from an optical axis passing through the center of the image forming part on a plane perpendicular to the optical axis.例文帳に追加

スクリーン上に画像情報を投影するため前記画像情報に対応した画像パターンを形成する複数の画素から構成される画像形成部と、前記画像形成部の中心を通る光軸に対して垂直な平面上であって、前記光軸から等距離でかつ異なった場所にそれぞれ発光部材（ＬＥＤ）を配置した照明手段とを備える。 - 特許庁

Therefore, when first and second resist layers having sensitivity to the first and second lights are formed on an object, an image of a composite pattern composed of a part where the first and second patterns are overlapped is formed on the first and second resist layers by irradiating the reticles R1 and R2 respectively with the first and second lights simultaneously as an illumination light.例文帳に追加

従って、物体上に第１の光、第２の光にそれぞれ感度を有する第１、第２のレジスト層が形成されている場合には、第１の光と第２の光とを同時にレチクルＲ１、Ｒ２にそれぞれ照明光として照射することにより、第１パターンと第２パターンとの重なり部から成る合成パターンの像が第１、第２のレジスト層に形成される。 - 特許庁

In a liquid crystal lens array element in which liquid crystal is held between a first transparent substrate provided with a lens array face 8 comprising a plurality of lens shapes and a second transparent substrate, a transparent electrode is formed on each lens array face b and the shape of the transparent electrode is designed to be a correction pattern for correcting light passing through a lens array having lens shapes.例文帳に追加

複数のレンズ形状よりなるレンズアレイ面８を備えた第１の透明基板と、第２の透明基板との間に、液晶を挟持した液晶レンズアレイ素子において、個々のレンズアレイ面ｂ上には、透明電極がそれぞれ設けられ、透明電極の形状は、レンズ形状のレンズアレイを透過する光を補正する補正用パターンであることを特徴とする。 - 特許庁

To provide an automatic focus detecting method capable of always detecting a high-precision focus even on an object image to be processed which has a step and is composed of a complicated pattern in a device which performs image processing such as size measurement by using a combination of a microscope and an imaging device which picks up a light image of an object formed by the microscope.例文帳に追加

顕微鏡とこれにより形成され被写体の光像を撮像する撮像装置とを組み合わせ、寸法測定等の画像処理を行う装置において、段差があり、複雑なパタ−ンで構成される被写体像でも、常に、処理対象となる被写体像に対して高精度の焦点を検出することができる自動焦点検出方法を提供する。 - 特許庁

Under the set conditions of irregular illumination, a pattern is transferred via a projection optical system PL onto a substrate W where a resist film, an antireflection film or the like are formed with the formation conditions set with reflectivity on the substrate for slant incident light incident onto the substrate W from a direction inclined from the optical axis AX of the projection optical system PL taken into consideration.例文帳に追加

そして、この設定された変形照明条件の下で、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸに対して傾斜した方向から基板Ｗ上に入射する斜入射光に対するその基板上での反射率を考慮して形成条件が設定されたレジスト膜、反射防止膜などが形成された基板Ｗ上に、投影光学系ＰＬを介してパターンが転写される。 - 特許庁

The resist pattern forming method includes steps of applying a chemically amplified resist composition on a base 1 to form a resist film 2 and selectively exposing the resist film 2 through a photo mask 5 a plurality of times, wherein a total of transmissivity of a light-shielding part of the photo mask 5 used for each of selective exposures is 0 to less than 12%.例文帳に追加

支持体１上に、化学増幅型レジスト組成物を塗布してレジスト膜２を形成し、当該レジスト膜２に対して、フォトマスク５を介して選択的露光を複数回行うレジストパターン形成方法であって、前記選択的露光毎に用いられるフォトマスク５の遮光部の透過率の総和を０〜１２％未満とすることを特徴とするレジストパターン形成方法。 - 特許庁

Consequently, the factor of slippage can be reduced since the factor of the slippage exists only between the upper reflector 19 and the lower reflector 20 compared with a conventional vehicle headlight having factors of slippage between upper and lower reflectors and between upper and lower lens holders, and a possibility of the slippage in a passing light distribution pattern P can be reduced.例文帳に追加

この結果、この発明は、ずれの要因が上側リフレクタ１９と下側リフレクタ２０との間だけであって、ずれの要因が上下の反射鏡の間および上下のレンズホルダの間にある従来の車両用前照灯と比較して、ずれの要因を軽減することができ、これにより、すれ違い用配光パターンＰにおいてずれが生じる虞を軽減することができる。 - 特許庁

The luminance uniformizing sheet is obtained by printing a pattern which is adjusted in such a manner that incident light having an ununiform luminance distribution is uniformized to be emitted on at least one side of a translucent base material with ultraviolet curing type white ink containing an acyl phosphine oxide based photopolymerization initiator, and in which a transmission b* value defined in JIS-Z8729 is -1 to 8.例文帳に追加

透光性基材の少なくとも片面に、不均一な輝度分布を有する入射光を均斉化して出射できるよう調整されたパターンが、アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤を含む紫外線硬化型白色インキにより印刷された、ＪＩＳ−Ｚ８７２９で規定される透過ｂ＊値が−１〜８であることを特徴とする輝度均斉化シートである。 - 特許庁

A photo-sensitive paste containing inorganic particulates and photo-sensitive organic component is applied onto a base board so that a coating film is formed, which is exposed to light and developed, and a bulkhead pattern is accomplished, and this method of manufacturing a plasma display is characterized by that the allowable width of photo-exposure in the exposing process is over 10%.例文帳に追加

無機微粒子と感光性有機成分を含む感光性ペーストを基板上に塗布して塗布膜を形成し、該塗布膜を露光し、現像する工程を経て隔壁パターンを形成するプラズマディスプレイの製造方法であって、該露光工程における露光量許容幅が１０％以上であることを特徴とするプラズマディスプレイの製造方法によって達成される。 - 特許庁

To provide an X-ray diffraction analyzing technique capable of simply acquiring the X-ray diffraction pattern equipped with the local structural data of a sample having a non-uniform crystal structure in a laboratory or on the spot by reducing the damping of intensity in a light path until the X-ray beam emitted from an X-ray tube arrives at a sample to the utmost.例文帳に追加

Ｘ線管から出射されたＸ線ビームが試料に到達するまでの光路における強度の減衰を極力小さくすることにより、不均一な結晶構造を有する試料の局所構造情報を備えるＸ線回折図形を、実験室や現場で短時間且つ簡単に取得することを可能とするＸ線回折分析技術を提供する。 - 特許庁

In the transfer step, ferroelectric films 24b respectively formed by parts of the ferroelectric layer 124c are transferred by irradiating the second substrate 40 with the laser beam LB of a light intensity distribution PI which is set to transfer only a part corresponding to a predetermined pattern of the ferroelectric films 24b in the ferroelectric layer 124c from the other surface side thereof.例文帳に追加

転写工程では、強誘電体層１２４ｃのうち強誘電体膜２４ｂの所定パターンに対応する部分のみを転写するように設定した光強度分布ＰＩのレーザ光ＬＢを第２の基板４０の上記他表面側から照射することにより、それぞれ強誘電体層１２４ｃの一部からなる強誘電体膜２４ｂを転写する。 - 特許庁

To provide a positive radiation-sensitive composition that has good radiation sensitivity, and from which high light transmittance, voltage retention, and good developability and pattern forming property capable of reacting on changes in cured film formation condition are provided to an interlayer dielectric film obtained, the interlayer dielectric film formed from the composition and a method for forming the interlayer dielectric film.例文帳に追加

優れた放射線感度を有し、得られる層間絶縁膜が高い光線透過率及び電圧保持率を備えつつ、硬化膜形成条件の変化にも対応できる優れた現像性及びパターン形成性を備えるポジ型感放射線性組成物、その組成物から形成された層間絶縁膜、並びにその層間絶縁膜の形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

A process of forming at least one of a hole transport layer, a light emitting layer and an electron transport layer includes a process of forming a film material layer of the layer and a process of arranging a mask having a predetermined pattern formed thereon at an interval between the mask and the film material layer, and imparting activation energy to the film material layer through the mask while introducing active gas to between the mask and film material layer.例文帳に追加

正孔輸送層、発光層および電子輸送層のうち少なくとも１つの層を形成する工程は、層の膜材料層を形成する工程と、膜材料層と間隔を隔てて所定のパターンが形成されたマスクを配置して、マスクと膜材料層との間に活性ガスを導入しながら、マスクを介して膜材料層に活性化エネルギーを付与する工程と、を有する。 - 特許庁

The method is characterized by including: a step in which a porous body having three-dimensionally continuous cavities is exposed to a three-dimensional wiring pattern having at least two different two-dimensional patterns in the incident direction of light; and a step in which cavities of the exposed part of the porous body after exposed or unexposed part are selectively filled with a conductive material or its precursor.例文帳に追加

三次元的に連続な空孔を有する多孔質体に対し、異なる二次元パターンを光の入射方向において少なくとも２つ有する三次元配線パターンを露光する工程と、前記露光後の多孔質体の露光部または未露光部の空孔内に、導電物質またはその前駆体を選択的に充填する工程とを具備することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a new polymeric compound having excellent transparency in exposition at ≤300 nm wavelength, especially ≤160 nm wavelength, e.g. exposition by using F_2 laser as a light source, also excellent in etching resistance in dry etching and useful as a base resin of a resist material excellent in developing characteristics, a resist material, and a method for forming a pattern by using the same.例文帳に追加

波長３００ｎｍ以下、特に波長１６０ｎｍ以下での露光、例えばＦ_２レーザーを光源とする露光において、優れた透明性を有し、かつドライエッチングに対するエッチング耐性に優れ、かつ現像特性に優れたレジスト材料のベース樹脂として有用な新規高分子化合物並びにレジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The form comprises a plate-like portion having a protrusion and recess pattern at least on one side surface and a composite molded product of a sandwiching structure having a porous core layer made of light weight charging particles and curable resin between upper and lower dense skin layers made of fiber reinforced resin as a material for molding the form.例文帳に追加

少なくとも片表面に凹凸模様を有し、且つ上下の繊維強化樹脂からなる緻密なスキン層の間に軽量充填粒子と硬化樹脂とからなる多孔質コア層を有するサンドイッチ構造体の複合成形品で構成されている、板状部を有する型枠であって、該型枠は、セメント系ボードを製造する型枠および該型枠を成形するための型枠として有用な物である。 - 特許庁

The method for manufacturing diffraction lenses comprises a step for forming a stack having at least two phase shift layers which are separated from each other by an etching stop layer on the first face of each of transparent substrates 34, 144 capable of transmitting light of selected wavelengths between infrared rays and ultraviolet rays and a step for forming a pattern on the stack in order to form a layer of a diffracting optical element 50.例文帳に追加

赤外線から紫外線の間で選択された波長の光を透過する透明な基板３４、１４４の第１の面上に、エッチング停止層で分離された少なくとも２つの位相シフト層を有するスタックを形成するステップと、回折光学素子５０の層を形成するために、前記スタックにパターン形成するステップとを含んでなる、回折レンズの製造方法を提供する。 - 特許庁