「light pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(140ページ目) - Weblio英語例文検索

An opening formed in a photoresist layer is filled with a non- photosensitive organic film, then the non-photosensitive organic film formed on the photoresist layer is etched back until the photoresist layer is exposed, and all the surface of the photoresist layer is exposed to light and developed, by which the photoresist layer is removed, and a non-photosensitive organic film having a required pattern can be obtained.例文帳に追加

フォトレジスト層に形成された開口部を非感光性有機膜で埋め込み、フォトレジスト層上の非感光性有機膜をフォトレジスト層が露出するまで全面エッチバックし、フォトレジスト層全面を露光及び現像してフォトレジスト層を除去することで、所望するパターンの非感光性有機膜を得ることにより上記の課題を解決する。 - 特許庁

After forming a resist film 101 comprising a chemical amplifying type resist material, a pattern exposure is conducted by selectively irradiating an exposing light 104 to a resist film 102 with a solution 103 supplied on the resist film 102 with its per fluoro polyether added by water and temporarily retained in a solution retaining part as circulating.例文帳に追加

化学増幅型レジスト材料よりなるレジスト膜１０１を形成した後、パーフルオロポリエーテルに水が添加されており且つ循環しながら溶液貯留部に一時的に貯留されている溶液１０３をレジスト膜１０２の上に供給した状態で、露光光１０４をレジスト膜１０２に選択的に照射してパターン露光を行なう。 - 特許庁

To improve freedom in designing a waveguide width by butt-joint-joining a modulator region and a laser region, reduce reflectivity on an emission end surface of laser light by providing a bent waveguide structure in the modulator region, and accurately align angles by making a mounting marker into a linear pattern.例文帳に追加

変調器領域とレーザ領域とをバットジョイント接合させることにより、導波路幅の設計の自由度が高められ、変調器領域に曲がり導波路構造が設けられることにより、レーザ光の出射端面での反射率が低減され、及び、実装用マーカを直線状パターンにすることにより、精度の良い角度合わせをする。 - 特許庁

In semiconductor wafer including an insulated substrate having light transparency and a plurality of chip forming regions formed of silicon semiconductor layer formed on the insulated substrate and defined by scribe line regions, a non-transparent pattern layer is provided in the scribe line region wherein a plurality of non-transparent figures separated via gaps with each other are arranged.例文帳に追加

透光性を有する絶縁基板と、絶縁基板上に形成されたシリコン半導体層とで形成され、スクライブライン領域により区画された複数のチップ形成領域を有する半導体ウェハにおいて、スクライブライン領域に、互いに隙間を介して離間する複数の不透明図形を配置した不透明パターン層を設ける。 - 特許庁

To solve the problem of a performance enhancing technique in the microfabrication of a semiconductor device using active light or radiation, particularly electron beams or X-rays and to provide a resist composition which simultaneously satisfies sensitivity, resolution, a rectangular pattern shape and good edge roughness when electron beams or X-rays are used.例文帳に追加

活性光線又は放射線、特に電子線又はＸ線を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、電子線又はＸ線の使用に対して感度と、解像性、矩形なパターン形状、良好なエッジラフネスの特性とを同時に満足するレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive resist composition having satisfactory transmittance when F_2 excimer laser light (157nm) is used and ensuring improved line edge roughness, few development defects and improved heat resistance of a resist pattern formed on a substrate.例文帳に追加

１６０ｎｍ以下、特にＦ_２エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には１５７ｎｍの光源使用時に十分な透過性を示し、且つラインエッジラフネス、現像欠陥及び基板上に形成されたレジストパターンの耐熱性が改善されたポジ型レジスト組成物を提供することである。 - 特許庁

To provide a functional support having highly sensitive photoreactivity in visible light region, to provide a graft polymer layer laminate provided with a graft pattern layer which is formed by using the functional support, has high sensitivity and has suppressed decrease in film thickness over time even after heating storage, to provide a metal ion-containing material obtained by using the graft polymer layer laminate, and to provide a metal film laminate.例文帳に追加

可視光領域で高感度な光反応性を持つ機能性支持体、及び、それを用いて形成された、高感度で、加熱保存後も経時的な膜厚の減少が抑制されたグラフトパターン層を備えるグラフトポリマー層積層体、それを用いて得られる金属イオン含有材料、金属膜積層体を提供する。 - 特許庁

In a decorative material having minute indentations formed on the surface of a base, the indentations are formed of a set of minute projections 1 arranged with prescribed pitches and having light diffusion properties, and shape parameters of the projections 1, such as a rate of flatness, are changed continuously in the horizontal direction so that they correspond to a surface pattern to be expressed.例文帳に追加

基材表面に微小な凹凸形状が形成された化粧材であって、該凹凸形状を、所定のピッチをもって配列してなる光拡散性を有する微小な凸部の集合によって形成し、前記凸部の偏平率等の形状パラメータを水平方向において、表現すべき表面パターンに対応させて連続的に変化させる。 - 特許庁

When the photosensor 55 is irradiated with light of more than specified brightness, the shutter 9 is opened and closed at a prescribed pattern for a prescribed time to light the electric bulb 13.例文帳に追加

合成樹脂製の外殻３と、吸盤５と、外殻３の前面に固定した半球突部７と、この半球突部７に設けた目玉模様７ａと、この目玉模様７ａを覆い隠した閉じ位置と目玉模様７ａを露出させた開き位置との間を移動する瞼様のシャッター９と、目玉模様７ａの後ろに配置した小型電球１３と、光センサー５５と、シャッター駆動機構１１を備え、光センサー５５に一定の明るさ以上の光が照射したとき、一定時間、所定のパターンでシャッター９を開閉させ且つ電球１３を点灯させる。 - 特許庁

HEAD CAP, LIQUID JET DEVICE HAVING THE SAME, METHODS FOR MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE, ORGANIC EL DEVICE, ELECTRON EMITTING DEVICE, PDP DEVICE, CATAPHORESIS DISPLAY DEVICE, COLOR FILTER, AND ORGANIC EL, AND METHODS FOR FORMING SPACER, METALLIC WIRING PATTERN, LENS, RESIST AND LIGHT DIFFUSION BODY例文帳に追加

ヘッドキャップおよびこれを備えた液滴吐出装置、並びに液晶表示装置の製造方法、有機ＥＬ装置の製造方法、電子放出装置の製造方法、ＰＤＰ装置の製造方法、電気泳動表示装置の製造方法、カラーフィルタの製造方法、有機ＥＬの製造方法、スペーサ形成方法、金属配線形成方法、レンズ形成方法、レジスト形成方法および光拡散体形成方法 - 特許庁

The phase shift mask is provided with a shielded region having a line pattern formed therein and first and second transparent regions disposed on both sides of the shielded region on a substrate transparent to irradiated light, wherein a phase shifter is formed below the first transparent region and a side wall of the phase shifter has a curved portion convex to the outside.例文帳に追加

照射光に対して透明な基板上に、ラインパターンが形成された遮蔽領域と、前記遮蔽領域の両側にそれぞれ配置された第一の透明領域および第二の透明領域とを有し、前記第一の透明領域の下方には位相シフタが形成されており、前記位相シフタの側壁が、外側に凸の湾曲部を有している位相シフトマスクを提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing a polarized light diffractive cholesteric liquid crystal film contains the first step to form a cholesteric liquid crystal film on an alignment supporting substrate, the second step to transfer a diffraction pattern of a diffraction element substrate to the surface of the cholesteric liquid crystal film and to form a region exhibiting diffractiveness on a part of the film and the third step to release the alignment supporting substrate from the cholesteric liquid crystal film.例文帳に追加

配向支持基板上にコレステリック液晶フィルムを形成する第１工程、コレステリック液晶フィルム面に回折素子基板の回折パターンを転写し、フィルムの一部に回折能を示す領域を形成する第２工程、及びコレステリック液晶フィルムから配向支持基板を剥離する第３工程、を含む偏光回折性コレステリック液晶フィルムの製造方法である。 - 特許庁

A value difference between the input value of an aligner used for subjecting a photoresist layer on a wafer W to light exposure and a measured value obtained through an overlay measuring unit 20 which measures the exposed and developed photoresist pattern is obtained, a correction value for correcting the input value so as to reduce the value difference is calculated, and the correction value is managed as exposure process data by the generation hour.例文帳に追加

ウェーハＷ上のフォトレジストを露光するための露光装置の入力値と、露光処理され現像されたフォトレジストパターンをオーバーレイ測定機２０を通じて得た測定値との間の誤差値を得て、誤差値を減少させるように入力値を補正するための補正値を算出し、補正値を次の補正値の算出のための露光工程データとして生成時間単位に管理する。 - 特許庁

The hold type image display device using a backlight 11 as the light source includes a means 8 which controls a turning-on/off pattern and period of the backlight at a frame rate different from a frame rate of image signal processing by a LSI and data write to a display device 7 without changing this frame rate when displaying the video image signal telecine-converted by the 3:2 pull-down system.例文帳に追加

バックライト１１を光源とするホールド型の映像表示装置において、３：２プルダウン方式によりテレシネ変換されたビデオ映像信号の表示時に、ＬＳＩによる映像信号処理と表示装置７へのデータ書込みのフレームレートを変更することなしに、バックライトの点滅パターンと周期をフレームレートと異なるフレームレートで制御する手段８を具備する。 - 特許庁

The projector is equipped with an image forming part constituted of a plurality of pixels forming an image pattern corresponding to image information in order to project the image information onto a screen, and an illumination means having light emitting members (LED) respectively arranged at different positions at an equal distance from an optical axis passing through the center of the image forming part on a plane perpendicular to the optical axis.例文帳に追加

スクリーン上に画像情報を投影するため前記画像情報に対応した画像パターンを形成する複数の画素から構成される画像形成部と、前記画像形成部の中心を通る光軸に対して垂直な平面上であって、前記光軸から等距離でかつ異なった場所にそれぞれ発光部材（ＬＥＤ）を配置した照明手段とを備える。 - 特許庁

The method is characterized by including: a step in which a porous body having three-dimensionally continuous cavities is exposed to a three-dimensional wiring pattern having at least two different two-dimensional patterns in the incident direction of light; and a step in which cavities of the exposed part of the porous body after exposed or unexposed part are selectively filled with a conductive material or its precursor.例文帳に追加

三次元的に連続な空孔を有する多孔質体に対し、異なる二次元パターンを光の入射方向において少なくとも２つ有する三次元配線パターンを露光する工程と、前記露光後の多孔質体の露光部または未露光部の空孔内に、導電物質またはその前駆体を選択的に充填する工程とを具備することを特徴とする。 - 特許庁

In the transfer step, ferroelectric films 24b respectively formed by parts of the ferroelectric layer 124c are transferred by irradiating the second substrate 40 with the laser beam LB of a light intensity distribution PI which is set to transfer only a part corresponding to a predetermined pattern of the ferroelectric films 24b in the ferroelectric layer 124c from the other surface side thereof.例文帳に追加

転写工程では、強誘電体層１２４ｃのうち強誘電体膜２４ｂの所定パターンに対応する部分のみを転写するように設定した光強度分布ＰＩのレーザ光ＬＢを第２の基板４０の上記他表面側から照射することにより、それぞれ強誘電体層１２４ｃの一部からなる強誘電体膜２４ｂを転写する。 - 特許庁

To provide a positive radiation-sensitive composition that has good radiation sensitivity, and from which high light transmittance, voltage retention, and good developability and pattern forming property capable of reacting on changes in cured film formation condition are provided to an interlayer dielectric film obtained, the interlayer dielectric film formed from the composition and a method for forming the interlayer dielectric film.例文帳に追加

優れた放射線感度を有し、得られる層間絶縁膜が高い光線透過率及び電圧保持率を備えつつ、硬化膜形成条件の変化にも対応できる優れた現像性及びパターン形成性を備えるポジ型感放射線性組成物、その組成物から形成された層間絶縁膜、並びにその層間絶縁膜の形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

A process of forming at least one of a hole transport layer, a light emitting layer and an electron transport layer includes a process of forming a film material layer of the layer and a process of arranging a mask having a predetermined pattern formed thereon at an interval between the mask and the film material layer, and imparting activation energy to the film material layer through the mask while introducing active gas to between the mask and film material layer.例文帳に追加

正孔輸送層、発光層および電子輸送層のうち少なくとも１つの層を形成する工程は、層の膜材料層を形成する工程と、膜材料層と間隔を隔てて所定のパターンが形成されたマスクを配置して、マスクと膜材料層との間に活性ガスを導入しながら、マスクを介して膜材料層に活性化エネルギーを付与する工程と、を有する。 - 特許庁

The method for manufacturing diffraction lenses comprises a step for forming a stack having at least two phase shift layers which are separated from each other by an etching stop layer on the first face of each of transparent substrates 34, 144 capable of transmitting light of selected wavelengths between infrared rays and ultraviolet rays and a step for forming a pattern on the stack in order to form a layer of a diffracting optical element 50.例文帳に追加

赤外線から紫外線の間で選択された波長の光を透過する透明な基板３４、１４４の第１の面上に、エッチング停止層で分離された少なくとも２つの位相シフト層を有するスタックを形成するステップと、回折光学素子５０の層を形成するために、前記スタックにパターン形成するステップとを含んでなる、回折レンズの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image display device wherein pattern recognition is possible both at light and dark places, static electrification is satisfactorily imparted to particles and a satisfactory image having satisfactory contrast can be stably obtained, as a static display device wherein the particles are encapsulated between substrates at least one of which is transparent and which are opposed to each other and the particles are made to move to display the image.例文帳に追加

少なくとも一方が透明な対向する基板間に、粒子を封入し、粒子を移動させ画像を表示する静電表示装置において、明所においても暗所においてもパターン認識が可能であり、粒子への帯電性の付与が充分に行なわれ、コントラストが十分で良好な画像が安定して得られる画像表示装置を提供する。 - 特許庁

At this time, the relation between exposure conditions and the surface shape of the unevenness forming layer 119 or light reflecting layer is previously simulated according to a simulation result of the relation between exposure conditions including the mask pattern of the exposure mask 102 and a proximity gap G and a distribution of the quantity of exposure to the photosensitive resin 101, and exposure conditions are determined according to the simulation result.例文帳に追加

その際、露光マスク１０２のマスクパターン、およびプロキシミティギャップＧを含めた露光条件と、感光性樹脂１０１に対する露光量分布との関係のシミュレーション結果に基づいて、露光条件と凹凸形成層１１９あるいは光反射層１１２の表面形状との関係を予めシミュレーションしておき、そのシミュレーション結果に基づいて、露光条件を決定する。 - 特許庁

The positive type resist composition contains (A) resin containing a specified cyclic structure in the principal chain, having ≤5% content of a monomer corresponding to repeating structural units constituting the resin based on the total pattern area by GPC and having velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid and (B) a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定の環構造を主鎖に有し、樹脂を構成する繰り返し構造単位に対応する単量体の含有量がＧＰＣの全パターン面積の５％以下である酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂と、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物とを含有するポジ型レジスト組成物が提供される。 - 特許庁

A frame cover body which is a hollow body with no bottom having the slanting opening 12 and having the hologram reflection surface formed on the circumferential wall inner surface facing the opening 12 is mounted on a pedestal 16 with legs 16f holding the illuminating lamp 20 or 22 through an inner hole, and the hologram pattern light reflected by the radiation of the illuminating lamp is viewed from the opening 12.例文帳に追加

又は内孔を介して照明灯２０又は２２が保持される脚１６ｆ付きの台座１６に、斜めの開口部１２を有する底無しの中空体で少なくもその開口部１２と対向した周壁内面にホログラム反射面が構成されたフレームカバー本体が装着され、照明灯の照射により反射したホログラム模様光が開口部１２より観賞されるようにする。 - 特許庁

To provide an X-ray diffraction analyzing technique capable of simply acquiring the X-ray diffraction pattern equipped with the local structural data of a sample having a non-uniform crystal structure in a laboratory or on the spot by reducing the damping of intensity in a light path until the X-ray beam emitted from an X-ray tube arrives at a sample to the utmost.例文帳に追加

Ｘ線管から出射されたＸ線ビームが試料に到達するまでの光路における強度の減衰を極力小さくすることにより、不均一な結晶構造を有する試料の局所構造情報を備えるＸ線回折図形を、実験室や現場で短時間且つ簡単に取得することを可能とするＸ線回折分析技術を提供する。 - 特許庁

Therefore, when first and second resist layers having sensitivity to the first and second lights are formed on an object, an image of a composite pattern composed of a part where the first and second patterns are overlapped is formed on the first and second resist layers by irradiating the reticles R1 and R2 respectively with the first and second lights simultaneously as an illumination light.例文帳に追加

従って、物体上に第１の光、第２の光にそれぞれ感度を有する第１、第２のレジスト層が形成されている場合には、第１の光と第２の光とを同時にレチクルＲ１、Ｒ２にそれぞれ照明光として照射することにより、第１パターンと第２パターンとの重なり部から成る合成パターンの像が第１、第２のレジスト層に形成される。 - 特許庁

In a liquid crystal lens array element in which liquid crystal is held between a first transparent substrate provided with a lens array face 8 comprising a plurality of lens shapes and a second transparent substrate, a transparent electrode is formed on each lens array face b and the shape of the transparent electrode is designed to be a correction pattern for correcting light passing through a lens array having lens shapes.例文帳に追加

複数のレンズ形状よりなるレンズアレイ面８を備えた第１の透明基板と、第２の透明基板との間に、液晶を挟持した液晶レンズアレイ素子において、個々のレンズアレイ面ｂ上には、透明電極がそれぞれ設けられ、透明電極の形状は、レンズ形状のレンズアレイを透過する光を補正する補正用パターンであることを特徴とする。 - 特許庁

To provide an automatic focus detecting method capable of always detecting a high-precision focus even on an object image to be processed which has a step and is composed of a complicated pattern in a device which performs image processing such as size measurement by using a combination of a microscope and an imaging device which picks up a light image of an object formed by the microscope.例文帳に追加

顕微鏡とこれにより形成され被写体の光像を撮像する撮像装置とを組み合わせ、寸法測定等の画像処理を行う装置において、段差があり、複雑なパタ−ンで構成される被写体像でも、常に、処理対象となる被写体像に対して高精度の焦点を検出することができる自動焦点検出方法を提供する。 - 特許庁

Under the set conditions of irregular illumination, a pattern is transferred via a projection optical system PL onto a substrate W where a resist film, an antireflection film or the like are formed with the formation conditions set with reflectivity on the substrate for slant incident light incident onto the substrate W from a direction inclined from the optical axis AX of the projection optical system PL taken into consideration.例文帳に追加

そして、この設定された変形照明条件の下で、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸに対して傾斜した方向から基板Ｗ上に入射する斜入射光に対するその基板上での反射率を考慮して形成条件が設定されたレジスト膜、反射防止膜などが形成された基板Ｗ上に、投影光学系ＰＬを介してパターンが転写される。 - 特許庁

The resist pattern forming method includes steps of applying a chemically amplified resist composition on a base 1 to form a resist film 2 and selectively exposing the resist film 2 through a photo mask 5 a plurality of times, wherein a total of transmissivity of a light-shielding part of the photo mask 5 used for each of selective exposures is 0 to less than 12%.例文帳に追加

支持体１上に、化学増幅型レジスト組成物を塗布してレジスト膜２を形成し、当該レジスト膜２に対して、フォトマスク５を介して選択的露光を複数回行うレジストパターン形成方法であって、前記選択的露光毎に用いられるフォトマスク５の遮光部の透過率の総和を０〜１２％未満とすることを特徴とするレジストパターン形成方法。 - 特許庁

Consequently, the factor of slippage can be reduced since the factor of the slippage exists only between the upper reflector 19 and the lower reflector 20 compared with a conventional vehicle headlight having factors of slippage between upper and lower reflectors and between upper and lower lens holders, and a possibility of the slippage in a passing light distribution pattern P can be reduced.例文帳に追加

この結果、この発明は、ずれの要因が上側リフレクタ１９と下側リフレクタ２０との間だけであって、ずれの要因が上下の反射鏡の間および上下のレンズホルダの間にある従来の車両用前照灯と比較して、ずれの要因を軽減することができ、これにより、すれ違い用配光パターンＰにおいてずれが生じる虞を軽減することができる。 - 特許庁

The luminance uniformizing sheet is obtained by printing a pattern which is adjusted in such a manner that incident light having an ununiform luminance distribution is uniformized to be emitted on at least one side of a translucent base material with ultraviolet curing type white ink containing an acyl phosphine oxide based photopolymerization initiator, and in which a transmission b* value defined in JIS-Z8729 is -1 to 8.例文帳に追加

透光性基材の少なくとも片面に、不均一な輝度分布を有する入射光を均斉化して出射できるよう調整されたパターンが、アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤を含む紫外線硬化型白色インキにより印刷された、ＪＩＳ−Ｚ８７２９で規定される透過ｂ＊値が−１〜８であることを特徴とする輝度均斉化シートである。 - 特許庁

A photo-sensitive paste containing inorganic particulates and photo-sensitive organic component is applied onto a base board so that a coating film is formed, which is exposed to light and developed, and a bulkhead pattern is accomplished, and this method of manufacturing a plasma display is characterized by that the allowable width of photo-exposure in the exposing process is over 10%.例文帳に追加

無機微粒子と感光性有機成分を含む感光性ペーストを基板上に塗布して塗布膜を形成し、該塗布膜を露光し、現像する工程を経て隔壁パターンを形成するプラズマディスプレイの製造方法であって、該露光工程における露光量許容幅が１０％以上であることを特徴とするプラズマディスプレイの製造方法によって達成される。 - 特許庁

To provide the composition of an antireflection film material for a photoresist which enables the formation of an antireflection film having high absorbance with respect to light of wavelengths used for exposure and the reduction in the adverse effect of standing waves caused by the reflection from a substrate, to improve the limit resolving power of the photo resist and to obtain a good resist profile and also to provide a resist pattern forming method using the composition.例文帳に追加

露光に用いられる波長の光に対して吸光度が高い反射防止膜が形成され、基板からの反射により発生する定在波の悪影響を低減することができ、その結果、フォトレジストの限界解像力が向上し、良好なレジストプロファイルが得られるフォトレジスト用反射防止膜材料組成物及びそれを用いたレジストパターン形成法を提供すること。 - 特許庁

The method includes: a step where an anodically oxidized coating is formed to light metal or an alloy thereof; a step where it is dipped into an aqueous solution containing at least one or more water soluble compounds selected from the group consisting of a water soluble zirconium compound, a water soluble vanadium compound and a water soluble titanium compound; and further; a step where a design pattern is printed or transferred thereto.例文帳に追加

軽金属又はそれらの合金に対して陽極酸化皮膜を形成する工程と、その後に、それぞれ水溶性のジルコニウム化合物、バナジウム化合物、チタン化合物の郡から選ばれた少なくとも１つ以上の水溶性化合物を含有する水溶液に浸漬する工程の後に、さらに、意匠模様を印刷又は転写する工程を含むことを特徴とする - 特許庁

It is possible to obtain an epi-illumination function for generating an epi-illumination image indicating a reflected state in the tape 10 and a transmission light illumination function for generating a transmission illumination image indicating transparency distribution in the tape 10 only with one lighting system 4, thus simultaneously acquiring the epi-illumination and transmission illumination images related to one pattern to be inspected.例文帳に追加

テープ１０における反射状態を表す落射照明イメージを生成するための落射光照明の機能と、テープ１０における透明度の分布を表す透過照明イメージを生成するための透過光照明の機能とが、１つの照明装置４だけで得られるので、１つの被検査パターンに関する落射照明イメージ及び透過照明イメージが同時に取得できる。 - 特許庁

The form comprises a plate-like portion having a protrusion and recess pattern at least on one side surface and a composite molded product of a sandwiching structure having a porous core layer made of light weight charging particles and curable resin between upper and lower dense skin layers made of fiber reinforced resin as a material for molding the form.例文帳に追加

少なくとも片表面に凹凸模様を有し、且つ上下の繊維強化樹脂からなる緻密なスキン層の間に軽量充填粒子と硬化樹脂とからなる多孔質コア層を有するサンドイッチ構造体の複合成形品で構成されている、板状部を有する型枠であって、該型枠は、セメント系ボードを製造する型枠および該型枠を成形するための型枠として有用な物である。 - 特許庁

This three-dimensional measurement device 1 is provided with: an irradiation means 3 for irradiating a predetermined light component pattern from the oblique upside to a surface of a printed circuit board K; an imaging means 4 for imaging an irradiated part on the circuit board K; and a control device 7 having an image processing means for executing various kinds of calculation based on image data imaged by the imaging means 4.例文帳に追加

三次元計測装置１は、プリント基板Ｋの表面に対し斜め上方から所定の光成分パターンを照射するための照射手段３と、プリント基板Ｋ上の照射された部分を撮像するための撮像手段４と、撮像手段４により撮像された撮像データに基づき種々の演算を実行するための画像処理手段を有する制御装置７とを具備する。 - 特許庁

In the second process, the resist layer 6 is leveled to generate a difference in exposure amount needed for insolubilization between the resist layer 6 on the pedestal formation region 1a and the resist layer 6 on the pedestal non-formation region 1b, and in the third process, exposure conditions of the exposure light are so set that the resist pattern is formed in the pedestal formation region 1a in the fourth process.例文帳に追加

そして、第２工程でレジスト層６を均すことにより、台座形成領域１ａ上のレジスト層６と台座非形成領域１ｂ上のレジスト層６との間に、不溶化するのに必要な露光量の差を生じさせ、第４工程にて台座形成領域１ａにレジストパターンが形成されるように、第３工程にて露光光の露光条件を設定する。 - 特許庁

The method for producing the molding includes the process in which a photo-after-curable resin composition is applied on a surface with a transfer pattern formed in at least one mold from among a set of molds, the process in which the resin composition is irradiated with light, and the process in which the molds are engaged with each other before the resin composition is cured after the irradiation.例文帳に追加

１組の成型用金型のうち、少なくとも一方の成型用金型における転写パターンが形成された面に光後硬化性樹脂組成物を塗布する工程と、前記光後硬化性樹脂組成物に光を照射する工程と、光照射後、光後硬化性樹脂組成物の硬化前に成型用金型を嵌合する工程とを有する成型体の製造方法。 - 特許庁

This positive type photosensitive composition containing a polymer compound having a structure expressed by a specific general formula at its terminal, a photoacid-forming agent for forming an acid by the irradiation of an active beam of light or a radiation, the polymer compound used for the positive type photosensitive composition, the method for producing the polymer composition and the method for forming the pattern by using the positive type photosensitive composition are provided.例文帳に追加

末端に特定の一般式で表される構造を有する高分子化合物及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する光酸発生剤を含有するポジ型感光性組成物、該ポジ型感光性組成物に使用される高分子化合物、該高分子化合物の製造方法及びそのポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法。 - 特許庁

The aligner for transferring a mask pattern to an wafer coated with resist comprises means for setting a light exposure based on the intensity of X-rays passed through a filter and the intensity of X-rays not passed through a filter wherein the filter is made of such a material as not causing chemical reaction in the exposure wavelength region of X-rays.例文帳に追加

本発明の露光装置は、レジストを塗布したウエハーにマスクパターンを転写する露光装置において、フィルターを透過したＸ線の強度とフィルターを介さないＸ線の強度に基づいて露光量を設定する手段を備え、該フィルターは、前記Ｘ線の露光波長領域において、化学反応を起こさない材料で構成されていることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a water developable photosensitive paste for the production of electronic circuit components capable of satisfactorily curing a photosensitive resin component even when the internal light transmittance is low because the content of an inorganic powder is high and the particle diameter of the inorganic powder is small, capable of forming a good pattern even in an over- developed state and easily forming a micropattern.例文帳に追加

無機粉末の含有割合が高く、また無機粉末の粒径が小さく、そのため、内部での光の透過率が低くても、感光性樹脂成分を十分に硬化させることができ、また、過現像状態となっても、良好なパターンを形成することができ、したがって、微細なパターンの形成が容易な電子回路部品製造用水現像性感光性ペーストを提供する。 - 特許庁

Further, an optical waveguide comprising a substrate plate 1 and a cladding layer 2 formed on the substrate plate 1, and formed with a core part 3 having a prescribed pattern and transmitting light signals, in the cladding layer 2 is provided with that at least one of the cladding layer 2 and core part 3 is formed by a resin composition containing the tetrakis-oxetane ether compound having the fluorene structure.例文帳に追加

さらに、基板１と、その基板１上に形成されたクラッド層２とを備え、上記クラッド層２中に所定パターンで、光信号を伝搬するコア部３が形成されてなる光導波路であって、上記クラッド層２およびコア部３の少なくとも一方が、上記フルオレン構造を有するテトラキスオキセタンエーテル化合物を含有する樹脂組成物によって形成されている。 - 特許庁

In the multiprojection display 100 for displaying a large screen image on a translucent screen SCR_1 using projection images from a plurality of projector units PJ_A, PJ_B, PJ_C, PJ_D, the multiprojection display is characterized by providing an auxiliary illuminator L for irradiating a projection plane with illuminating light that becomes a pattern approximately opposite to "black floating patterns" in such a multiprojection display.例文帳に追加

複数のプロジェクタユニットＰＪ_Ａ，ＰＪ_Ｂ，ＰＪ_Ｃ，ＰＪ_Ｄからの投写画像により透過型スクリーンＳＣＲ_１上に大画面画像を表示するマルチプロジェクションディスプレイ１００であって、 このマルチプロジェクションディスプレイにおける「黒浮き模様」と略反対のパターンになるような照明光を投写面に照射するための補助照明装置Ｌを備えたことを特徴とするマルチプロジェクションディスプレイ。 - 特許庁