「light pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(137ページ目) - Weblio英語例文検索

The headlight device control ECU 40 reduces the illuminance of the light distribution pattern for high beam by controlling the lighting fixture 20H for high beam when the present area of a forward road detected by the navigation system 144 includes an undectable area deviated from the detection area of the vehicle detector 150.例文帳に追加

前照灯装置制御ＥＣＵ４０は、ナビゲーションシステム１４４によって検出された前方の道路の存在領域が車両検出装置１５０の検出範囲から外れる検出不能領域を含むときは、ハイビーム用灯具２０Ｈを制御してハイビーム用配光パターンの照度を低減せしめる。 - 特許庁

Then, the front-side surface 14a of the lens 14 is formed with a first free curved surface along a surface shape of a vehicle body 2, and thereafter its rear-side surface 14b is formed with a second free curved surface according to the first free curved surface, whereby the horizontally-long light distribution pattern is accurately formed.例文帳に追加

その際、レンズ１４の前方側表面１４ａを車体２の表面形状に沿った第１の自由曲面で構成した上で、その後方側表面１４ｂをこの第１の自由曲面に応じた第２の自由曲面で構成することにより、横長配光パターンを精度良く形成可能とする。 - 特許庁

In the fine pattern correction method, laser light α, irradiated on a given position deviated from the center 32a of an objective lens 32, refracted with the objective lens 32, and directed toward a focus F is irradiated aslant from upward on a side wall face of the correction part 30 consisting of correction paste 21 coated on a rib chip defect 85.例文帳に追加

この微細パターン修正方法では、対物レンズ３２の中心３２ａから外れた所定の位置にレーザ光αを照射し、対物レンズ３２で屈折して焦点Ｆに向かうレーザ光αを、リブ欠け欠陥８５に塗布した修正ペースト２１からなる修正部３０の側壁面に斜め上方から照射する。 - 特許庁

The pattern forming method includes steps of (a) forming a film by using a chemically amplified resist composition; (b) exposing the film to light; (c) developing the film by using a developing solution containing an organic solvent; and (d) rinsing the film by using a rinsing liquid containing an organic solvent and having a specific gravity larger than that of the developing solution.例文帳に追加

（ア）化学増幅型レジスト組成物を用いて膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程、及び（エ）有機溶剤を含み、かつ比重が前記現像液より大きいリンス液を用いてリンスを行う工程を含むパターン形成方法。 - 特許庁

The liquid crystal display device 100 has: a backlight unit 10; the liquid crystal display panel 20a having an arrangement pattern 22a of pixels (dots) arranged in a matrix shape having rows and columns; and the light diffusion layer 30a disposed on the viewer side of the liquid crystal display panel and having the stripe structure extending in the vertical direction.例文帳に追加

本発明の液晶表示装置１００は、バックライトユニット１０と、行および列を有するマトリクス状に配列された絵素（ドット）の配列パターン２２ａを有する液晶表示パネル２０ａと、液晶表示パネルの観察者側に配置され、垂直方向に延びるストライプ構造を有する光拡散層３０ａとを有する。 - 特許庁

For detecting a spacer 7 as a granular matter, this lighting system radiates light beams 5 toward a desired detection position in at least two directions which are not orthogonal to any linear part of a wiring pattern in the view from the upper side and make an angle of 3° or less with the upper face of a glass substrate 6.例文帳に追加

この照明装置は、粒状体としてのスペーサ７を検出するために、所望の検出位置に対して、上方から見て配線パターンのいずれの直線部分に対しても略垂直でない少なくとも２方向であって、ガラス基板６の上面となす角度が３°以下となるような照射方向で、光５を照射する。 - 特許庁

A semiconductor fabrication apparatus comprises an exposure unit 30, provided within a chamber 10 for exposing a design pattern on a resist film applied on a wafer 20; and a liquid recycle unit 40 for supplying a liquid 23 for use in immersion lithography that raises the numerical aperture of exposure light during exposure to the wafer 20, while recycling the liquid 23.例文帳に追加

半導体製造装置は、チャンバ１０内に設けられ、ウェハ２０上に塗布されたレジスト膜に設計パターンを露光する露光部３０と、露光時にウェハ２０の上に露光光の開口数値を上げる液浸リソグラフィ用の液体２３を再利用しながら供給する液体リサイクル部４０とから構成されている。 - 特許庁

The sub CPU 33a of the lamp control board 33 judges the pulsation period of the pulsating voltage applied to an LED 41 from the frequency of input of sense signals per predetermined unit time and sets a light emission pattern which can be decided on in accordance with the judged pulsation period in a frequency recognition process.例文帳に追加

ランプ制御基板３３のサブＣＰＵ３３ａは、周波数識別処理において、予め定めた単位時間当たりの検知信号の入力回数からＬＥＤ４１に印加される脈流電圧の脈流周期を判定し、判定した脈流周期に応じて決定することができる発光パターンを設定する。 - 特許庁

A laser 23 is irradiated on a substrate 1 where a pattern or a film is formed, and variations among chips of reflected light levels fluctuating by fluctuation of process conditions is obtained in a chip group within a wafer, and this fluctuation is monitored within the wafer or among wafers, and thus control over the process conditions in a semiconductor manufacturing can be achieved.例文帳に追加

パターンあるいは成膜が形成された基板１上にレーザ２３を照射し、プロセス条件の変動により変動する反射光レベルのチップ間でのばらつきをウエハ内のチップ群内で求め、この変動をウエハ内あるいはウエハ間で監視することで半導体製造上のプロセス条件の管理を達成できる。 - 特許庁

To configure an optical element for correcting an influence from the surface shape of a reticle pattern surface which is a factor incurring the distortion or random distortion remaining in a projection optical system, and to configure a pellicle which reduces deterioration even when a light source of a short wavelength such as ArF or F_2 is used.例文帳に追加

ディストーションの発生要因であるレチクルパターン面の面形状の影響あるいは、投影光学系に残存するランダムなディストーションを補正する光学素子を構成可能にするとともに、ＡｒＦ、Ｆ_２といった短波長の光源を使用した場合でも劣化の少ないペリクルを構成することを可能とする。 - 特許庁

A polarization azimuth angle compensation layer 36 prevents light leakage by making polarization planes of incident beams of respective bearings and respective polar angles be parallel to the absorption axis of an emission side polarizing plate 37 and heightens an extinction ratio even when the diffraction phenomenon is caused by the microlens array 40 and a TFT wiring pattern 46.例文帳に追加

偏光方位角補償層３６は、マイクロレンズアレイ４０及びＴＦＴ配線パターン４６とによって回折現象が生じても、各方位及び各極角の入射光線の偏光面を出射側偏光板３７の吸収軸と平行にすることで光漏れを防ぎ、消光比を高める。 - 特許庁

The method for forming the graft pattern includes: bringing a radical-polymerizable unsaturated compound into contact with a surface of a base material capable of generating radicals by exposure; and exposing imagewise with laser light having a wavelength of 360-700 nm to form a graft polymer directly bonded to the base material patternwise on the surface of the base material.例文帳に追加

露光によりラジカルを発生しうる基材表面上に、ラジカル重合可能な不飽和化合物を接触させ、３６０ｎｍ〜７００ｎｍの波長のレーザにより像様露光して、該基材表面上に基材と直接結合したグラフトポリマーをパターン状に生成させることを特徴とするグラフトパターン形成方法である。 - 特許庁

For example, a forming pattern of a projection 50 is projected in the horizontal direction along a light-receiving pixels bound from a clock wiring 46 disposed on a channel stop 42 separating perpendicular CCD shift resistors of an imaging part of a frame transferring-type CCD image sensor, and is symmetrized in the upper-lower and right-left directions relative to a center 52 of the imaging part.例文帳に追加

例えば、フレーム転送型ＣＣＤイメージセンサの撮像部の垂直ＣＣＤシフトレジスタ間を分離するチャネルストップ４２上に配置されるクロック配線４６から受光画素境界にて水平方向に延在される突起部５０の形成パターンを撮像部の中心５２に対して上下左右対称とする。 - 特許庁

Furthermore, the image displayed by the device is directly taken by switching the transmission pattern of a pinhole to fit to the display device by a device obtained by adding a transmitted light control means to switch the transmission or non-transmission of each pinhole to a pinhole plate where the pinholes are arranged side by side, and taking the image of a subject therethrough.例文帳に追加

さらにこの装置で表示する画像は、ピンホールの並んだピンホール板に、各ピンホールの透過・不透過を切り替える透過光制御手段を加え、これを通して被写体の像を撮影する装置によって、ピンホールの透過パターンを表示装置に合わせて切り替えることで直接撮影することができる。 - 特許庁

When using the photosensitive dry film resist, by light-shielding only the holes to be filled by a film mask or a straight drawing device and executing full exposure, the dry film resist of a hole part to be filled is removed in development processing, and only the holes desired to be filled are selectively exposed with high accuracy equivalent to a pattern forming technology.例文帳に追加

感光性ドライフィルムレジストを使用する場合には、フィルムマスクまたは直描装置にて埋める穴部のみを遮光し全面露光することで、現像処理にて埋める穴部のドライフィルムレジストが除去され、パターン形成技術と同等の高精度で埋めたい穴のみを選択的に露出させることができる。 - 特許庁

In a process in which an exposure mask film, comprising a mask film with a mask pattern drawn thereon and a light diffusion film selectively laminated and adhered thereunder, is used to manufacture a printed wiring board, and a solder resist is exposed with ultraviolet rays via the exposure mask film, the ultraviolet rays are selectively diffused to form the solder resist.例文帳に追加

マスクパターンが描画されたマスクフィルムと、その下方に選択的に積層接着された光拡散フィルムとからなる露光用マスクフィルムを用いてプリント配線板を製造し、露光用マスクフィルムを介しソルダレジストを紫外線で露光する工程において、紫外光を選択的に拡散させてソルダレジストを形成する。 - 特許庁

The light guide plate 1 is formed by printing a white-ink dot pattern on a surface on the board 2 side of a base material including a thermosetting urethane resin by ink jetting, and a projecting portion 1a including resin or rubber is formed in a portion facing the electrical contact 7 and the dome 4 in the base material by coating.例文帳に追加

導光板１は、熱硬化性ウレタン樹脂からなる基材における基板２側の面にインクジェットによって白インクのドットパターンを印刷することで形成され、基材における、電気接点７及びドーム４と対向する部分には、樹脂またはゴムからなる突起部１ａが塗布により形成されている。 - 特許庁

This display device has a constitution wherein a background pattern 13 on a background plate 12 for forming a virtual image K is formed as a two-dimensional image of a solid irradiated with light from the oblique upside, and the virtual image K is viewed to be on the back of a gradation 21, numerals 22 and characters 23 which are a display design on a dial plate 2 in the viewing direction.例文帳に追加

虚像Ｋを作成するための背景板１２の背景パタン１３を、斜め上方から光を照射された立体の二次元画像として形成するとともに、虚像Ｋが、視認方向において、文字盤２の表示意匠である目盛２１、数字２２および文字２３の背後にあるように視認される構成とした。 - 特許庁

The mechanism 2 for forming an indentation on the surface Q of a sample by pressing an indentation chip 2c disposed to elevate/lower freely comprises a light source 21 which forms an illumination pattern P, for recognizing the position where the forward end of the lowered indentation chip 2c touches the surface Q of the sample, on the surface Q of the sample.例文帳に追加

昇降自在に配設される圧子２ｃを押圧させて試料表面Ｑに圧痕を形成させる圧痕形成機構２を構成し、下降させた圧子２ｃの先端が試料表面Ｑに接触する位置を認識するための照光パターンＰを、試料表面Ｑに形成させる光源２１を備える。 - 特許庁

To provide a drawing method and a computer program that will not cause defects in resolution on the surface of an object to be drawn for a direct drawing device which forms a desired drawing pattern on the surface of the object to be drawn by irradiating the surface of the object to be drawn with a light throuogh a plurality of spatial optical modulating devices.例文帳に追加

複数の空間光変調素子によって描画対象物の面上に光を照射することで描画対象物の面上に所望の描画パターンを形成する直接描画装置において、描画対象物の面上に解像不良が生じない描画方法およびコンピュータプログラムを実現する。 - 特許庁

This defect-inspecting semiconductor substrate comprises a base film 1 laid on a semiconductor substrate 13, the base film 1 is intended to raise the film surface contrast of a film forming region 22 to a no-film forming region 23 on a pattern 12 with respect to inspecting light, as compared with the contrast of the semiconductor substrate 13 surface to the film surface of the forming region 22.例文帳に追加

欠陥検査用半導体基板は、半導体基板１３に下地膜１を設けたもので、下地膜１は、パターン１２の膜形成部２２の膜面と非膜形成部２３との検査光に対するコントラストが、半導体基板１３表面と膜形成部２２の膜面とのコントラストより大きくするようなものである。 - 特許庁

Thereafter, after the photoresist residue 14 adhered to the bottom of the opening 12 of the photoresist pattern1 1a is removed by a light ashing process, a through hole is bored through the insulating film 7b by a dry etching process using an etching gas, etc. containing C_5F_8, O_2 and Ar gas with the photoresist pattern 11a used as an etching mask.例文帳に追加

その後、フォトレジストパターン１１ａの開口部１２の底に付着したフォトレジスト残渣１４を軽いアッシング処理により除去した後、フォトレジストパターン１１ａをエッチングマスクとして、Ｃ_５Ｆ_８、Ｏ_２およびＡｒガスを有するエッチングガス等を用いたドライエッチング処理により絶縁膜７ｂにスルーホールを穿孔する。 - 特許庁

The device production system SYS has an exposure body portion EX which exposes a substrate P to light to transfer a pattern to the substrate P; conveying units H1 and H2 for conveying the substrate P from the exposure body portion EX to a stage portion ST; and a conveying unit H3 for conveying the substrate P from the stage portion ST to a substrate housing apparatus F.例文帳に追加

デバイス製造システムＳＹＳは、パターンを基板Ｐに露光する露光本体部ＥＸと、露光本体部ＥＸからステージ部ＳＴまで基板Ｐを搬送する搬送装置Ｈ１，Ｈ２と、ステージ部ＳＴから基板収納装置Ｆまで基板Ｐを搬送する搬送装置Ｈ３とを有している。 - 特許庁

The portion of the wiring pattern 18 which passes the front part of the land portion 12 is formed in the surrounding region 24 excluding the land portion 12 side of the opening part 26, and the LEDs 30 are mounted on the circuit board 20 so as to protrude the light emitting portion 32 from the outline of the circuit board 20 or so as to be arranged on the opening part 26.例文帳に追加

配線パターン１８のランド部１２の前方を通過する部分は、開口部２６のランド部１２側を除く周辺領域２４に形成され、ＬＥＤ３０は、発光部３２が回路基板２０の外形から突出するかまたは開口部２０上に配置されるように、回路基板２０上に実装されている。 - 特許庁

To provide a photosensitive siloxane composition which is superior in stability when left uncontrolled after exposure, will not cause pattern dripping during thermal hardening, has properties of a high resolution, high heat resistance, and high transparency after thermal hardening, and which is used for forming a planarizing film for a TFT substrate, an interlayer insulation film, and a core or a cladding material of a light waveguide.例文帳に追加

露光後放置安定性に優れ、熱硬化中にパターンだれが生じることなく、熱硬化後に高解像度、高耐熱性、高透明性の特性を有する、ＴＦＴ基板用平坦化膜、層間絶縁膜、光導波路のコアやクラッド材の形成に用いられる感光性シロキサン組成物。 - 特許庁

Even when the marking line 1a described on the workpiece is assimilated to the workpiece depending on the hue, pattern, or the like of the workpiece or the marking line 1a is extremely hard to see due to the reflection of light, the marking line 1a is luminous on the workpiece and easily visible to permit accurate cutting work.例文帳に追加

被加工材の色合い、模様等によって被加工材に描かれた墨線（１ａ）が被加工材に同化したり、光の反射により墨線（１ａ）が非常に見難くなる場合であっても、墨線（１ａ）が被加工材上で発光して視認しやすくなり、正確な切断作業を行うことができる。 - 特許庁

The organic light-emitting diode display device forms a first electrode using a display base having a pixel separation pattern including a pixel separation part and an insulating part extended from the pixel separation part and disposed along the periphery of a pixel part, thereby preventing corrosion of the first electrode, and reducing man hours.例文帳に追加

本発明の有機発光ダイオード表示装置は、画素分離部及び画素分離部から延長され、画素部の周辺に沿って配置された絶縁部を含む画素分離パターンを備える表示基板により第１電極を形成して、第１電極の腐食を防止し、工程数を短縮することができる。 - 特許庁

It is preferable that a light projector 10 projecting a group of slit lights combined in a lattice type and a stereo type image sensing devices 12R, 12L measuring three- dimensional coordinates of each cross point of a lattice pattern formed by the projection of the group of the slit lights are contained in the measuring apparatus 5, and the three-dimensional coordinates are measured by a stereo image sensing method.例文帳に追加

好ましくは計測装置５に、格子状に組み合わせたスリット光の群を投光する投光器10と、スリット光の群の投影により形成された格子模様の各交点の三次元座標を計測するステレオ式撮像装置12R、12Fを含め、ステレオ画像法により三次元座標を計測する。 - 特許庁

To provide a reticle with which an exposure region of the light emitting from an illumination optical system of an exposure apparatus can be aligned to a specified position of an inspection pattern so as to inspect the performance of the exposure apparatus with high reproducibility, to provide a method for inspecting an exposure apparatus by using the reticle, and to provide a method for manufacturing a reticle.例文帳に追加

露光装置の性能検査を再現性よく行うために、露光装置の照明光学系から照射される光の露光領域を検査用パターンの特定の位置に合わせることが可能なレチクル、そのレチクルを用いた露光装置の検査方法及びレチクル製造方法を提供する。 - 特許庁

The black layer 46 is subjected to dry etching to integrally form a peripheral light-shielding film 45 covering the peripheral region S of a pixel forming region A of the solid-state imaging element 10, and an aperture pattern to leave a black matrix 41 as boundaries among red, green and blue pixels 40R, 40G and 40B, respectively, on the pixel forming region A.例文帳に追加

黒色層４６をドライエッチングして、固体撮像素子１０の画素形成領域Ａの周縁領域Ｓを覆う周縁遮光膜４５と、画素形成領域Ａ上に赤色・緑色・青色画素４０Ｒ，４０Ｇ，４０Ｂ間の境界となるブラックマトリックス４１を残すように開口パターンとを一体形成する。 - 特許庁

At the time, light emitted by a blue or red LED mounted on an LED board 562b passes through a display panel 562d and then a plurality of slits provided on the slit sheet 562cb of the slit elevating and lowering device 562c and a pattern plotted on a blue or red sheet is viewed as a moving image.例文帳に追加

このとき、ＬＥＤ基板５６２ｂに実装された青色又は赤色のＬＥＤが発する光が表示パネル５６２ｄ、続いてスリット昇降装置５６２ｃのスリットシート５６２ｃｂに設けられている複数のスリットを通って、青色又は赤色シートに描かれている模様が動画となって見える。 - 特許庁

To provide an optical three-dimensional shaping apparatus capable of manufacturing a three-dimensional shaped product excellent in dimensional precision, appearance and strength by irradiating a shaping surface, which comprises a photosetting resin composition, with light enhanced in energy intensity and having a uniform optical intensity distribution in a predetermined shape pattern through a sheet drawing mask.例文帳に追加

エネルギー強度が高く、光強度の分布が均一な光を面状描画マスクを介して所定の形状パターンで光硬化性樹脂組成物よりなる造形面に照射して、寸法精度、外観、強度などに優れる立体造形物を速い造形速度で製造できる光学的立体造形装置の提供。 - 特許庁

At the time, a first area A and a second area B are set in a mutual action part of the light and the electric signal S, polarization reversal areas R_A, R_B are formed in respective areas and an arrangement pattern of the signal electrode 21 is determined so that the directions of modulation in respective areas are reversed.例文帳に追加

このとき、光と電気信号Ｓの相互作用部に第１領域Ａおよび第２領域Ｂを設定して、各々の領域に分極反転領域Ｒ_Ａ，Ｒ_Ｂを形成すると共に、各々の領域における変調の向きが逆になるように信号電極２１の配置パターンを決める。 - 特許庁

In the resist pattern forming method for forming a resist film on a support body and selectively exposing the resist film a plurality of times through a photomask, the width of an exposure portion of the resist film in each selective exposure is larger than the width of a light transmitting portion of the photomask.例文帳に追加

本発明は、支持体上にレジスト膜を形成し、該レジスト膜に対しフォトマスクを介して選択的露光を複数回行うレジストパターン形成方法であって、前記選択的露光毎のレジスト膜の露光部幅は、前記フォトマスクの透光部幅よりも大きいことを特徴とするレジストパターン形成方法である。 - 特許庁

In a voltage adjustment stage, lengths, and light and shade of tailings 3 and 4 extending from ends of the displayed adjustment patterns 1 and 2 are inspected and the tailings of the pluralities of adjacent adjustment patterns 3 and 4 of the two sets of black and white adjustment pattern groups A and B are compared to adjust the driving voltage of the image display panel.例文帳に追加

また、電圧調整工程は、表示された調整パターン１、２の端部から延出する尾引３、４の長さおよび濃淡を検査し、黒白２組の調整パターン群Ａ、Ｂにおいて隣位する複数の調整パターン３、４の尾引を比較することにより画像表示パネルの駆動電圧を調節する。 - 特許庁

In a semiconductor thin film forming method comprising a light irradiating process, a first process of projecting the image of a pattern formed on an optical mask onto the semiconductor thin film for exposing the thin film so as to modify the prescribed region of the semiconductor thin film and a second process of continuously forming insulating films on the semiconductor thin film are provided.例文帳に追加

光の照射工程を有する半導体薄膜の形成方法において、光が光マスク上に形成したパターンを半導体薄膜上に投影露光して、半導体薄膜上の所定の領域を改質する工程と、上記半導体薄膜上に絶縁膜を連続的に形成する工程とを含ませる。 - 特許庁

The circuit board for a light-emitting element comprises an extraction terminal group 6 wherein extraction terminals 61 to the outside are accumulated on one side of the board, and a contact pattern 2 for electrically connecting the extraction terminals 61 at a part of the extraction terminal group 6 and the common electrode 10 between the common electrode 10 where common current flows and the extraction terminal group.例文帳に追加

特に外部への取出端子６１が当該基板の一辺に集積された取出端子群６と、共通した電流が流れる共通電極１０と取出端子群との間に、取出端子群６の一部の取出端子６１と共通電極１０とを電気的に接続するコンタクトパターン２と、を備えている。 - 特許庁

The canopy with illumination are characterized in that at least one of three plates forming a roof width is a translucent plate with a necessary pattern; and a support frame is provided at none of two tip corners and a plate surface, an internal skeleton is not reflected with illumination light from the inside when viewed from outside the three plates, and a decoration edge is installed as an edge.例文帳に追加

屋根巾を形成する３枚の板のうち少なくとも一枚は、必要模様を施した半透明板を用い、先端の２つの角及び板面には支え枠がなく、且つ中からの照明光で内部骨格が３枚の板の外部から見たとき映らないようにし、縁は装飾縁を設置した照明付き庇。 - 特許庁

Either tow kinds of driving voltages Va and Vb having different amplitudes or a GND is applied to pattern electrodes 30 to 38 of the electrode 22A through an amplitude modulator 106 and a selection switch 108, a desired phase difference is given to light beams and as a result, astigmatism caused by an optical system is compensated.例文帳に追加

透明電極２２Ａに対して、振幅変調器１０６、選択スイッチ１０８等を介して振幅の異なる２種の駆動電圧Ｖａ、ＶｂあるいはＧＮＤの何れかが各パターン電極３０乃至３８に印加され、光ビームに所望の位相差を与える結果、光学系に起因する非点収差が補正される。 - 特許庁

A distance between the condenser lens 22 and the substrate 60 can be adjusted so that a spot diameter of the laser light LB on the substrate 60 comes into a constant range based on a size of the speckle pattern SP generated from the substrate 60 and measured by the measuring part 10.例文帳に追加

測定部１０によって測定された太陽電池基板６０から発生するスペックルパターンＳＰの大きさに基づいて、太陽電池基板６０上におけるレーザ光ＬＢのスポット径が一定範囲に入るよう、集光レンズ２２と太陽電池基板６０の間の距離が調整可能となっている。 - 特許庁

Disclosed is the negative type resist composition containing (A) an alkali-soluble resin, (B) a cross-linking agent cross-linking the alkali-soluble resin through reaction of an acid, (C) a compound advancing cross-linking reaction by irradiation with an active light beam or radiation, and (D) a compound having a cation polymerizable group; and the pattern forming method.例文帳に追加

（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ可溶性樹脂を架橋する架橋剤、（Ｃ）活性光線又は放射線の照射により架橋反応を進行させる化合物、（Ｄ）カチオン重合性基を有する化合物、を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物およびパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a thermally shrinkable polyester film, which is transparent and is enough in the design properties of a luster of reflecting light with a specific wavelength, which is thus excellent in visibility of a pattern printed thereon, which has an iridescent metallic luster, which can be attached on a container such as a PET bottle, and which has a thermally shrinkable property.例文帳に追加

高透明かつ特定の波長の光を反射する光沢性の意匠性に富むことにより、フィルムに施される絵柄印刷の視認性に優れ、かつ玉虫色の金属光沢性を付与するとともに、ＰＥＴボトルなどの容器に貼り付け可能な熱収縮性を有する熱収縮性ポリエステル系フィルムを提供する。 - 特許庁

Consequently, the PDP (plasma display panel) is driven with the analog video signal, so an address period decreases and the discharge sustaining period relatively increases to greatly improve luminance; and a conventional digital gray scale is realized to eliminate contour noise generated owing to a discontinuous light emission pattern.例文帳に追加

これによって、ＰＤＰはアナログ映像信号によって駆動されるのでアドレス期間が減って相対的に放電維持期間が増えることによって輝度が著しく向上されることと共に従来のデジタルグレースケール具現によって発光パターンの不連続によって発生されるコンチューアノイズが発生しなくなる。 - 特許庁

The shade mechanism 29 is provided with a first movable shade 33 which moves between a shield position to form a cut-off line and a shield relaxation position and a second movable shade 37 which moves between an additional shield position which increases shielding volume more than the light distribution pattern which the first movable shade 33 forms at the shield position and a retreating position.例文帳に追加

シェード機構２９は、カットオフラインを形成する遮蔽位置と遮蔽緩和位置との間を移動する第１可動シェード３３と、第１可動シェード３３が遮蔽位置において形成する配光パターンよりも遮蔽量を増加させる付加遮蔽位置と退避位置との間を移動する第２可動シェード３７と、を備える。 - 特許庁

To provide a positive resist composition having sensitivity to a g-line, an i-line, a KrF excimer laser and an electron beam and usable in a mix and match step of exposure using at least two exposure light sources selected from a g-line, an i-line, a KrF excimer laser and an electron beam, and to provide a resist pattern forming method.例文帳に追加

ｇ線、ｉ線、ＫｒＦエキシマレーザーおよび電子線に対する感度を有し、ｇ線、ｉ線、ＫｒＦエキシマレーザーおよび電子線から選ばれる少なくとも２種の露光光源を用いて露光するミックスアンドマッチ工程に使用できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁