「light pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(137ページ目) - Weblio英語例文検索

The liquid crystal display device 100 has: a backlight unit 10; the liquid crystal display panel 20a having an arrangement pattern 22a of pixels (dots) arranged in a matrix shape having rows and columns; and the light diffusion layer 30a disposed on the viewer side of the liquid crystal display panel and having the stripe structure extending in the vertical direction.例文帳に追加

本発明の液晶表示装置１００は、バックライトユニット１０と、行および列を有するマトリクス状に配列された絵素（ドット）の配列パターン２２ａを有する液晶表示パネル２０ａと、液晶表示パネルの観察者側に配置され、垂直方向に延びるストライプ構造を有する光拡散層３０ａとを有する。 - 特許庁

Namely, since the part corresponding to the corner of the connector 10c of the second layer coil 4b of the opening provided in the photomask to the lead-out wire 10b is planely roundish, the detour of a light (ultraviolet rays) in the part is suppressed, and a photosensitive resist can be accurately exposed in a desired pattern shape.例文帳に追加

即ち、フォトマスクに設けられた開口部の前記２層目コイル４ｂと引出し線１０ｂとの接続部１０ｃ角部に対応する部位は平面的に丸みを帯びているため、その部分での光（紫外線）の回り込みが抑制されて感光性レジストを所望のパターン形状にて正確に感光させることができる。 - 特許庁

For detecting a spacer 7 as a granular matter, this lighting system radiates light beams 5 toward a desired detection position in at least two directions which are not orthogonal to any linear part of a wiring pattern in the view from the upper side and make an angle of 3° or less with the upper face of a glass substrate 6.例文帳に追加

この照明装置は、粒状体としてのスペーサ７を検出するために、所望の検出位置に対して、上方から見て配線パターンのいずれの直線部分に対しても略垂直でない少なくとも２方向であって、ガラス基板６の上面となす角度が３°以下となるような照射方向で、光５を照射する。 - 特許庁

A semiconductor fabrication apparatus comprises an exposure unit 30, provided within a chamber 10 for exposing a design pattern on a resist film applied on a wafer 20; and a liquid recycle unit 40 for supplying a liquid 23 for use in immersion lithography that raises the numerical aperture of exposure light during exposure to the wafer 20, while recycling the liquid 23.例文帳に追加

半導体製造装置は、チャンバ１０内に設けられ、ウェハ２０上に塗布されたレジスト膜に設計パターンを露光する露光部３０と、露光時にウェハ２０の上に露光光の開口数値を上げる液浸リソグラフィ用の液体２３を再利用しながら供給する液体リサイクル部４０とから構成されている。 - 特許庁

The sub CPU 33a of the lamp control board 33 judges the pulsation period of the pulsating voltage applied to an LED 41 from the frequency of input of sense signals per predetermined unit time and sets a light emission pattern which can be decided on in accordance with the judged pulsation period in a frequency recognition process.例文帳に追加

ランプ制御基板３３のサブＣＰＵ３３ａは、周波数識別処理において、予め定めた単位時間当たりの検知信号の入力回数からＬＥＤ４１に印加される脈流電圧の脈流周期を判定し、判定した脈流周期に応じて決定することができる発光パターンを設定する。 - 特許庁

A laser 23 is irradiated on a substrate 1 where a pattern or a film is formed, and variations among chips of reflected light levels fluctuating by fluctuation of process conditions is obtained in a chip group within a wafer, and this fluctuation is monitored within the wafer or among wafers, and thus control over the process conditions in a semiconductor manufacturing can be achieved.例文帳に追加

パターンあるいは成膜が形成された基板１上にレーザ２３を照射し、プロセス条件の変動により変動する反射光レベルのチップ間でのばらつきをウエハ内のチップ群内で求め、この変動をウエハ内あるいはウエハ間で監視することで半導体製造上のプロセス条件の管理を達成できる。 - 特許庁

The method for forming the graft pattern includes: bringing a radical-polymerizable unsaturated compound into contact with a surface of a base material capable of generating radicals by exposure; and exposing imagewise with laser light having a wavelength of 360-700 nm to form a graft polymer directly bonded to the base material patternwise on the surface of the base material.例文帳に追加

露光によりラジカルを発生しうる基材表面上に、ラジカル重合可能な不飽和化合物を接触させ、３６０ｎｍ〜７００ｎｍの波長のレーザにより像様露光して、該基材表面上に基材と直接結合したグラフトポリマーをパターン状に生成させることを特徴とするグラフトパターン形成方法である。 - 特許庁

For example, a forming pattern of a projection 50 is projected in the horizontal direction along a light-receiving pixels bound from a clock wiring 46 disposed on a channel stop 42 separating perpendicular CCD shift resistors of an imaging part of a frame transferring-type CCD image sensor, and is symmetrized in the upper-lower and right-left directions relative to a center 52 of the imaging part.例文帳に追加

例えば、フレーム転送型ＣＣＤイメージセンサの撮像部の垂直ＣＣＤシフトレジスタ間を分離するチャネルストップ４２上に配置されるクロック配線４６から受光画素境界にて水平方向に延在される突起部５０の形成パターンを撮像部の中心５２に対して上下左右対称とする。 - 特許庁

Furthermore, the image displayed by the device is directly taken by switching the transmission pattern of a pinhole to fit to the display device by a device obtained by adding a transmitted light control means to switch the transmission or non-transmission of each pinhole to a pinhole plate where the pinholes are arranged side by side, and taking the image of a subject therethrough.例文帳に追加

さらにこの装置で表示する画像は、ピンホールの並んだピンホール板に、各ピンホールの透過・不透過を切り替える透過光制御手段を加え、これを通して被写体の像を撮影する装置によって、ピンホールの透過パターンを表示装置に合わせて切り替えることで直接撮影することができる。 - 特許庁

A two-dimensional layout determining apparatus 10 determines a pattern 11 having a plurality of apertures of the same size (Wx×Wy), and a three-dimensional structure determining apparatus 20 determines a three-dimensional groove structure with a depth d and an undercut length Uc to shift the phase of transmitted light by 180° for the apertures of even numbers.例文帳に追加

二次元レイアウト決定装置１０により、同一サイズ（Ｗｘ×Ｗｙ）の複数の開口窓を有するパターン１１を決定し、三次元構造決定装置２０により、偶数番目の開口窓について、透過光の位相を１８０°シフトするため、深さｄ、アンダーカット量Ｕｃをもった三次元溝構造を決定する。 - 特許庁

An optical modulation part 60 is arranged on a holding surface 33b for holding the recording medium in the medium holding part 33a, which causes differences in a reflectance of the ultraviolet rays irradiated by the irradiation device and transmitted through the recording medium and reflects the rays to the recording medium as reflection light having a predetermined modulation pattern.例文帳に追加

媒体保持部３３ａの記録媒体を保持する側の保持面３３ｂには、照射装置から照射され、記録媒体を透過してきた紫外線の反射率に差異を生じさせ、所定の変調パターンを有する反射光としてこれを記録媒体に反射する光変調部６０が設けられている。 - 特許庁

To provide a surface-treated product having a photocatalytic function not developing an interference color of light even if a primer film and a photocatalyst film are formed on the surface of a substrate and capable of keeping the design effect of the substrate without damaging the picture, pattern, hue, character or the like applied to the surface of the substrate itself.例文帳に追加

基体の表面に下地皮膜と光触媒皮膜を形成しても、光の干渉色の発現がなく、基体そのものの表面に付されている絵柄、模様、色調、文字等を損ねることなく、基体の意匠性を維持することができる光触媒機能を有した表面処理製品を提供する。 - 特許庁

The biodegradable matting film material contains a biodegradable resin as a main component, and has a thickness of 10-50 μm, a transmittance of a visible light ray having a wavelength range of 400-700 nm of 10% or more, a surface state of a matting pattern and a tensile elastic modulus of 1.2 GPa or more.例文帳に追加

本発明の生分解性樹脂艶消しフィルム材料は、生分解性樹脂を主成分とする厚み１０〜５０μｍのフィルムであって、４００〜７００ｎｍの波長範囲の可視光線の透過率が１０％以上で、表面状態が艶消し模様であり、引張弾性率が１．２ＧＰａ以上である事を特徴とする - 特許庁

The coupling efficiency is determined by calculating the intensity of the laser beam emitted from the semiconductor device and an intensity passing through the light-receiving section coupled with the semiconductor laser device in a dot shape, respectively, by using an equipment such as a far field pattern measuring device or the like which can measure the characteristics of the semiconductor laser device with relatively ease.例文帳に追加

遠視野像測定装置などの比較的容易に半導体レーザ素子の特性が測定できる装置を用い、半導体レーザ素子から出されるレーザ光の光強度および、半導体レーザ素子と結合させる受光部における受光部を通過する光強度のそれぞれをドット状に算出し、結合効率を求める。 - 特許庁

To provide a phase shifting mask capable of relatively easily suppressing size variation and dislocation of a pattern in projection exposure with an error in production nearly equal to that in the case of a conventional bored phase shifting mask by making the intensity of transmitted light from bored regions and that from unbored regions nearly equal to each other in a bored phase shifting mask.例文帳に追加

掘り込み型の位相シフトマスクにおいて、掘り込み部からの透過光と非掘り込み部からの透過光の強度を略一致させて、投影露光時のパターンのサイズ変動や位置ずれを、比較的容易に、かつ従来の掘り込み型位相シフトマスクと同程度の製造誤差で抑えることができる位相シフトマスクを提供する。 - 特許庁

To provide a display which enables an arbitrary pattern to be displayed in at least a part of an entirely black display screen by light non-emitting display elements even when a display power source is turned off and is superior in decoration and design and has an effect as an interior accessory and whose power consumption is reduced.例文帳に追加

本発明は、ディスプレイ電源をオフの状態にした場合でも画面全体が黒の表示画面内の少なくとも一部で非発光の表示素子による任意のパターン表示が可能となる、装飾性・意匠性に優れ、インテリアとしての効果を有する、消費電力も少ないディスプレイを提供することを目的とする。 - 特許庁

Switch patterns 13a confronting the respective key operation parts 14b are provided on the printed wiring board 13 so that they are brought into a conducting state by pressingly operating the respective key operation parts 14b while through holes 13b are provided around each switch pattern 13a allowing light to pass therethrough.例文帳に追加

プリント配線基板１３には、各キー操作部１４ｂが押圧操作されることによって、それぞれが導電状態になるように、各キー操作部１４ｂに対向してスイッチパターン１３ａがそれぞれ設けられるとともに、各スイッチパターン１３ａの周囲に、光を透過させる貫通孔１３ｂがそれぞれ設けられている。 - 特許庁

LED driving means 15 provides navigation from a current position to a destination by driving a predetermined number of LEDs 13 while associating the LEDs 13 with a light emission pattern comprises a combination of temporal change of the kinds and intensity of colors that the respective LEDs 13 emits according to navigation information generated by navigation information generation means 12.例文帳に追加

ＬＥＤ駆動手段１５は、ナビゲート情報生成手段１２で生成したナビゲート情報に応じて、所定数のＬＥＤ１３をそれぞれの発光する色の種類と発光の強さの時間的な変化の組み合わせからなる発光パターンと対応付けて駆動することで現在位置から目的地までのナビゲートを行う。 - 特許庁

To provide a positioning structure by which positioning and fine adjustment of original glass on which an original pattern has been formed and transfer glass are accurately and reliably performed with one member at low cost with respect to the positioning structure of an exposing device in which a plulality of original patterns are superposed on a transfer glass to transfer them on it with light.例文帳に追加

複数の原パターンを被転写ガラスに重ね合わせ、該複数の原パターンを光を使い被転写ガラスに転写する露光装置の位置決め構造において、原パターン記載の原ガラスと被転写ガラスとの位置決めと微調整を１個の部材で精度良く安価で確実に行う位置決め構造を提供する。 - 特許庁

To provide a highly precise mask structure, capable of obtaining a deposition pattern having high dimensional precision and in which a mask is fixed to a mask frame in a state with the tension being applied to the mask, while preventing deformation of the mask frame, and to provide a depositing method using the mask structure and a method of manufacturing an organic light-emitting element.例文帳に追加

本発明の目的は、高寸法精度の蒸着パターンを得ることができ、マスクフレームの変形を防止しつつマスクを張力が加えられた状態でマスクフレームに固定した高精度なマスク構造体およびそれを用いた蒸着方法、並びに有機発光素子の製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a photomechanical process for a planographic printing plate capable of giving an image with high resolution, adaptable to a direct pattern forming method with a laser, capable of giving an image particularly even in a light room, producing no waste liquid and very excellent in ink/water responsiveness and printing durability.例文帳に追加

平版印刷版の製版技術において、高解像性を有する画像を得ることができ、かつレーザによる直接描画方法に対応し、また特に明室下でも画像を得ることができ、廃液が発生することがなく、インキ／水応答性、耐刷性に非常に優れた平版印刷版の製版方法を提供すること。 - 特許庁

A signal processor 12 normalizes a strength distribution of measured three-kinds of image signals, calculates a change polarity and a change amount of light intensity signals of different polarized lights of a flaw to a normal part, compares the calculated change polarity and change amount respectively with a preliminarily set pattern, thereby discriminating types of flaws.例文帳に追加

信号処理部１２は測定した３種類の画像信号の強度分布を正規化し、正常部に対する疵部の異なる偏光の光強度信号の変化極性と変化量とを算出し、算出した変化極性と変化量とをそれぞれあらかじめ定めたパタ−ンと比較して疵種を判定する。 - 特許庁

In the method for manufacturing a stamper for optical recording media in which a photoresist film formed on a glass master disk by coating is exposed with modulated laser light and developed to form a prescribed rugged pattern and a stamper is manufactured by electroforming, the surface of the glass master disk is subjected two or more times to HMDS coating for carrying out silylation before coating with a resist.例文帳に追加

ガラス原盤上に塗布されたフォトレジスト膜に、変調されたレーザ光により露光後現像して所定の凹凸パターンを形成した後、電鋳によりスタンパを製造する光記録媒体用スタンパの製造方法において、レジスト塗布前にガラス原盤表面のシリル化を行うＨＭＤＳ塗布を複数回行う。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition for a color filter having such high photocurability that it is thoroughly cured with small light exposure in curing, and improved in accuracy of a pattern shape after development because an unexposed part is thoroughly dissolved in an aqueous alkali solution, and also to provide a color filter using the photosensitive resin composition.例文帳に追加

光硬化性が高く硬化時に少ない露光量で充分に硬化できるとともに、未露光部分がアルカリ水溶液に充分に溶解可能であり、現像後のパターン形状の精度を向上させることができるカラーフィルタ用感光性樹脂組成物及びそれを用いてなるカラーフィルタを提供する。 - 特許庁

To provide a temperature correcting method and a variable resistance type infrared sensor with this correcting means capable of preventing the deterioration of image quality caused by the appearance of FPN(fixed pattern noise) fluctuations on a screen and preventing the fluctuation of sensitivity for the infrared light without requiring a means for keeping the temperature of a sensor substrate invariably constant.例文帳に追加

センサ基板温度を常に一定に保つ手段を必要とせずに、ＦＰＮ変動分が画面に現れることによる画質の劣化を防ぎ、なおかつ赤外光に対する感度の変動を防ぐことができる、温度補正方法とこの補正手段を具備した抵抗変化型赤外線センサの実現。 - 特許庁

An image of a test chart consisting of a dot pattern is formed on the CCD 29 to monitor a change in an output of the CCD 29 due to a fog or the like in the case of forming the reflected optical image from the original onto a light receiving face of the CCD 29, and the resolution of the image is evaluated by obtaining an output state of each dot.例文帳に追加

結像レンズ２８により、原稿からの反射光像をＣＣＤ２９の受光面に結像させる時に、ボケ等による出力変化を監視するために、網点パターンからなるテストチャートをＣＣＤ２９に結像させ、その網点部分での出力状態を求めれ解像度評価を行う。 - 特許庁

The headlight device control ECU 40 reduces the illuminance of the light distribution pattern for high beam by controlling the lighting fixture 20H for high beam when the present area of a forward road detected by the navigation system 144 includes an undectable area deviated from the detection area of the vehicle detector 150.例文帳に追加

前照灯装置制御ＥＣＵ４０は、ナビゲーションシステム１４４によって検出された前方の道路の存在領域が車両検出装置１５０の検出範囲から外れる検出不能領域を含むときは、ハイビーム用灯具２０Ｈを制御してハイビーム用配光パターンの照度を低減せしめる。 - 特許庁

The flexible printed circuit board mounted with a light-emitting diode includes: a lower insulator, an upper insulator, a conductive pattern intervened between the lower and upper insulators, and a white color film attached on the upper insulator.例文帳に追加

本発明によって、発光ダイオードを実装するためのフレキシブルプリント回路基板において、下部絶縁体と、上部絶縁体と、前記下部絶縁体と前記上部絶縁体との間に介された導電パターンと、前記上部絶縁体上に付着された白色フィルムと、を含むフレキシブルプリント回路基板が提供される。 - 特許庁

After a resist film 11 consisting of a chemically amplifying resist material containing a base polymer containing at least one ester of acrylate and methacrylate and an acid generating agent which generates acid by irradiation of light is formed, the resist film 11 is selectively irradiated with extreme UV rays 13 for pattern exposure.例文帳に追加

アクリル酸エステル及びメタクリル酸エステルのうちの少なくとも１つのエステルを含むベースポリマーと、光が照射されると酸を発生する酸発生剤とを有する化学増幅型レジスト材料からなるレジスト膜１１を形成した後、該レジスト膜１１に極紫外線１３を選択的に照射してパターン露光を行なう。 - 特許庁

At the time, a first area A and a second area B are set in a mutual action part of the light and the electric signal S, polarization reversal areas R_A, R_B are formed in respective areas and an arrangement pattern of the signal electrode 21 is determined so that the directions of modulation in respective areas are reversed.例文帳に追加

このとき、光と電気信号Ｓの相互作用部に第１領域Ａおよび第２領域Ｂを設定して、各々の領域に分極反転領域Ｒ_Ａ，Ｒ_Ｂを形成すると共に、各々の領域における変調の向きが逆になるように信号電極２１の配置パターンを決める。 - 特許庁

In the resist pattern forming method for forming a resist film on a support body and selectively exposing the resist film a plurality of times through a photomask, the width of an exposure portion of the resist film in each selective exposure is larger than the width of a light transmitting portion of the photomask.例文帳に追加

本発明は、支持体上にレジスト膜を形成し、該レジスト膜に対しフォトマスクを介して選択的露光を複数回行うレジストパターン形成方法であって、前記選択的露光毎のレジスト膜の露光部幅は、前記フォトマスクの透光部幅よりも大きいことを特徴とするレジストパターン形成方法である。 - 特許庁

In a voltage adjustment stage, lengths, and light and shade of tailings 3 and 4 extending from ends of the displayed adjustment patterns 1 and 2 are inspected and the tailings of the pluralities of adjacent adjustment patterns 3 and 4 of the two sets of black and white adjustment pattern groups A and B are compared to adjust the driving voltage of the image display panel.例文帳に追加

また、電圧調整工程は、表示された調整パターン１、２の端部から延出する尾引３、４の長さおよび濃淡を検査し、黒白２組の調整パターン群Ａ、Ｂにおいて隣位する複数の調整パターン３、４の尾引を比較することにより画像表示パネルの駆動電圧を調節する。 - 特許庁

In a semiconductor thin film forming method comprising a light irradiating process, a first process of projecting the image of a pattern formed on an optical mask onto the semiconductor thin film for exposing the thin film so as to modify the prescribed region of the semiconductor thin film and a second process of continuously forming insulating films on the semiconductor thin film are provided.例文帳に追加

光の照射工程を有する半導体薄膜の形成方法において、光が光マスク上に形成したパターンを半導体薄膜上に投影露光して、半導体薄膜上の所定の領域を改質する工程と、上記半導体薄膜上に絶縁膜を連続的に形成する工程とを含ませる。 - 特許庁

To provide a drawing method and a computer program that will not cause defects in resolution on the surface of an object to be drawn for a direct drawing device which forms a desired drawing pattern on the surface of the object to be drawn by irradiating the surface of the object to be drawn with a light throuogh a plurality of spatial optical modulating devices.例文帳に追加

複数の空間光変調素子によって描画対象物の面上に光を照射することで描画対象物の面上に所望の描画パターンを形成する直接描画装置において、描画対象物の面上に解像不良が生じない描画方法およびコンピュータプログラムを実現する。 - 特許庁

This defect-inspecting semiconductor substrate comprises a base film 1 laid on a semiconductor substrate 13, the base film 1 is intended to raise the film surface contrast of a film forming region 22 to a no-film forming region 23 on a pattern 12 with respect to inspecting light, as compared with the contrast of the semiconductor substrate 13 surface to the film surface of the forming region 22.例文帳に追加

欠陥検査用半導体基板は、半導体基板１３に下地膜１を設けたもので、下地膜１は、パターン１２の膜形成部２２の膜面と非膜形成部２３との検査光に対するコントラストが、半導体基板１３表面と膜形成部２２の膜面とのコントラストより大きくするようなものである。 - 特許庁

Thereafter, after the photoresist residue 14 adhered to the bottom of the opening 12 of the photoresist pattern1 1a is removed by a light ashing process, a through hole is bored through the insulating film 7b by a dry etching process using an etching gas, etc. containing C_5F_8, O_2 and Ar gas with the photoresist pattern 11a used as an etching mask.例文帳に追加

その後、フォトレジストパターン１１ａの開口部１２の底に付着したフォトレジスト残渣１４を軽いアッシング処理により除去した後、フォトレジストパターン１１ａをエッチングマスクとして、Ｃ_５Ｆ_８、Ｏ_２およびＡｒガスを有するエッチングガス等を用いたドライエッチング処理により絶縁膜７ｂにスルーホールを穿孔する。 - 特許庁

The circuit board for a light-emitting element comprises an extraction terminal group 6 wherein extraction terminals 61 to the outside are accumulated on one side of the board, and a contact pattern 2 for electrically connecting the extraction terminals 61 at a part of the extraction terminal group 6 and the common electrode 10 between the common electrode 10 where common current flows and the extraction terminal group.例文帳に追加

特に外部への取出端子６１が当該基板の一辺に集積された取出端子群６と、共通した電流が流れる共通電極１０と取出端子群との間に、取出端子群６の一部の取出端子６１と共通電極１０とを電気的に接続するコンタクトパターン２と、を備えている。 - 特許庁

The canopy with illumination are characterized in that at least one of three plates forming a roof width is a translucent plate with a necessary pattern; and a support frame is provided at none of two tip corners and a plate surface, an internal skeleton is not reflected with illumination light from the inside when viewed from outside the three plates, and a decoration edge is installed as an edge.例文帳に追加

屋根巾を形成する３枚の板のうち少なくとも一枚は、必要模様を施した半透明板を用い、先端の２つの角及び板面には支え枠がなく、且つ中からの照明光で内部骨格が３枚の板の外部から見たとき映らないようにし、縁は装飾縁を設置した照明付き庇。 - 特許庁

Either tow kinds of driving voltages Va and Vb having different amplitudes or a GND is applied to pattern electrodes 30 to 38 of the electrode 22A through an amplitude modulator 106 and a selection switch 108, a desired phase difference is given to light beams and as a result, astigmatism caused by an optical system is compensated.例文帳に追加

透明電極２２Ａに対して、振幅変調器１０６、選択スイッチ１０８等を介して振幅の異なる２種の駆動電圧Ｖａ、ＶｂあるいはＧＮＤの何れかが各パターン電極３０乃至３８に印加され、光ビームに所望の位相差を与える結果、光学系に起因する非点収差が補正される。 - 特許庁

A distance between the condenser lens 22 and the substrate 60 can be adjusted so that a spot diameter of the laser light LB on the substrate 60 comes into a constant range based on a size of the speckle pattern SP generated from the substrate 60 and measured by the measuring part 10.例文帳に追加

測定部１０によって測定された太陽電池基板６０から発生するスペックルパターンＳＰの大きさに基づいて、太陽電池基板６０上におけるレーザ光ＬＢのスポット径が一定範囲に入るよう、集光レンズ２２と太陽電池基板６０の間の距離が調整可能となっている。 - 特許庁

Disclosed is the negative type resist composition containing (A) an alkali-soluble resin, (B) a cross-linking agent cross-linking the alkali-soluble resin through reaction of an acid, (C) a compound advancing cross-linking reaction by irradiation with an active light beam or radiation, and (D) a compound having a cation polymerizable group; and the pattern forming method.例文帳に追加

（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ可溶性樹脂を架橋する架橋剤、（Ｃ）活性光線又は放射線の照射により架橋反応を進行させる化合物、（Ｄ）カチオン重合性基を有する化合物、を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物およびパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a thermally shrinkable polyester film, which is transparent and is enough in the design properties of a luster of reflecting light with a specific wavelength, which is thus excellent in visibility of a pattern printed thereon, which has an iridescent metallic luster, which can be attached on a container such as a PET bottle, and which has a thermally shrinkable property.例文帳に追加

高透明かつ特定の波長の光を反射する光沢性の意匠性に富むことにより、フィルムに施される絵柄印刷の視認性に優れ、かつ玉虫色の金属光沢性を付与するとともに、ＰＥＴボトルなどの容器に貼り付け可能な熱収縮性を有する熱収縮性ポリエステル系フィルムを提供する。 - 特許庁

Consequently, the PDP (plasma display panel) is driven with the analog video signal, so an address period decreases and the discharge sustaining period relatively increases to greatly improve luminance; and a conventional digital gray scale is realized to eliminate contour noise generated owing to a discontinuous light emission pattern.例文帳に追加

これによって、ＰＤＰはアナログ映像信号によって駆動されるのでアドレス期間が減って相対的に放電維持期間が増えることによって輝度が著しく向上されることと共に従来のデジタルグレースケール具現によって発光パターンの不連続によって発生されるコンチューアノイズが発生しなくなる。 - 特許庁

The shade mechanism 29 is provided with a first movable shade 33 which moves between a shield position to form a cut-off line and a shield relaxation position and a second movable shade 37 which moves between an additional shield position which increases shielding volume more than the light distribution pattern which the first movable shade 33 forms at the shield position and a retreating position.例文帳に追加

シェード機構２９は、カットオフラインを形成する遮蔽位置と遮蔽緩和位置との間を移動する第１可動シェード３３と、第１可動シェード３３が遮蔽位置において形成する配光パターンよりも遮蔽量を増加させる付加遮蔽位置と退避位置との間を移動する第２可動シェード３７と、を備える。 - 特許庁

To provide a positive resist composition having sensitivity to a g-line, an i-line, a KrF excimer laser and an electron beam and usable in a mix and match step of exposure using at least two exposure light sources selected from a g-line, an i-line, a KrF excimer laser and an electron beam, and to provide a resist pattern forming method.例文帳に追加

ｇ線、ｉ線、ＫｒＦエキシマレーザーおよび電子線に対する感度を有し、ｇ線、ｉ線、ＫｒＦエキシマレーザーおよび電子線から選ばれる少なくとも２種の露光光源を用いて露光するミックスアンドマッチ工程に使用できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁