「light pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(135ページ目) - Weblio英語例文検索

However, by lighting the fabric with a parallel light from its front surface side, and observing the fabric from upper slant direction, since the reflected amounts of light from the S-twist yarn group and the Z-twist yarn group are different, it is possible to observe a striped pattern on the surface of the fabric 11 even by using the same colored yarns.例文帳に追加

しかし、織物にその正面側から平行光を当てて、織物を斜め上方から観察した場合には、Ｓ撚糸群１４ＳとＺ撚糸群１５Ｚの光の光源側への光の反射量が異なるため、観察者の視点に入るＳ撚糸群１４ＳとＺ撚糸群１５Ｚの光量に差が生じて、同じ色彩の糸を用いても織物１１の表面に縞模様を観察することができる。 - 特許庁

The manufacturing method for the alignment film of the present invention includes a first stage of forming a pattern substrate 30 having a plurality of columnar bodies 31 slanting at a specified angle and a second stage of obtaining the alignment film made of a light-transmissive inorganic dielectric material by transferring shapes of the columnar bodies 31 to a film 41 made of a light-transmissive inorganic dielectric material by using a nanoimprint method.例文帳に追加

本発明の配向膜の製造方法は、所定角度で傾斜してなる複数の柱状物３１を具備した型基板３０を作成する第１工程と、前記柱状物３１の形状を透光性の無機誘電体材料からなる膜４１にナノインプリント法を用いて転写し、当該透光性の無機誘電体材料からなる配向膜を得る第２工程と、を備えることを特徴とする。 - 特許庁

The EL element comprises at least a first electrode layer, an insulating layer formed to cover an edge part of the first electrode layer, a liquid repellency part disposed on the upper surface of the insulating layer, a light emitting layer formed like a pattern on the first electrode layer, and a second electrode layer formed on the light emitting layer.例文帳に追加

上記目的を達成するために、本発明は、少なくとも第１電極層を有する基板と、前記第１電極層のエッジ部を覆うように形成された絶縁層と、前記絶縁層の上面に設けられた撥液性部と、前記第１電極層上にパターン状に形成された発光層と、前記発光層上に形成された第２電極層とを有することを特徴とするＥＬ素子を提供する。 - 特許庁

This optical head device 11 includes a diffraction element (HOE) 24 furnished with a diffractive pattern capable of providing such a light spot that the fluctuation of focus error mainly containing a component in the radial direction among reflection laser beams reflected by the optical disk is hardly to occur, on a light receiving face of a photodetector 28 for receiving the reflection laser beams reflected by a recording layer of the optical disk to output a corresponding signal.例文帳に追加

この発明の光ヘッド装置１１は、光ディスクの記録層で反射された反射レーザ光を受光して対応する信号を出力する光検出器２８の受光面に、光ディスクで反射された反射レーザ光のうちのラジアル方向の成分を主として含むフォーカスエラーの変動が生じにくい光スポットを提供可能な回折パターンが与えられた回折素子（ＨＯＥ）２４を含む。 - 特許庁

The hologram recording medium is subjected to recording or reproducing of information by irradiation with a coherent light beam and has a plurality of photosensitive sections which consist of photosensitive materials each internally storing the optical interference pattern for the light beam as a diffraction grating and are regularly paralleled, and non-photosensitive sections which exist between the photosensitive sections and compartmentalize the photosensitive sections from each other.例文帳に追加

ホログラム記録媒体は、可干渉性の光ビームの照射により情報の記録又は再生が行われるホログラム記録媒体であって、各々が光ビームの光学干渉パターンを回折格子として内部に保存する感光材料からなりかつ規則的に並列された複数の感光部と、感光部間に位置しかつ感光部を互いに区切る非感光部とからなるホログラム記録層を有する。 - 特許庁

Then the moire phenomenon can be prevented by forming a pattern 20 having an array and a shape capable of preventing the moire phenomenon on the upper part surface of the light guide part and the uniform and high luminance can be obtained even in low power consumption, while the thickness and the weight of the entire liquid crystal display device is minimized.例文帳に追加

また、導光部の上部面にモアレ現象を防止できる配列及び形状を有するパターン２０を形成することによって、モアレ現象を防止でき、全体的な液晶表示装置の厚さ及び重さを最小化しながらも、低消費電力でも均一で高い輝度を得ることができる。 - 特許庁

The photomask mounting a pellicle 4 comprises a substrate made of a planar glass; and a light-shielding film 13 and an oxide film 14 successively layered on one surface of the substrate, between a region that excludes the product pattern part 12a and an adhesion part 4a of the pellicle.例文帳に追加

本発明に係るフォトマスクは、ペリクル４を装着してなるフォトマスクであって、平板状のガラスからなる基材と、前記基材の一面において、製品パターン部１２ａを除いた領域と前記ペリクルの接着部４ａとの間に、遮光膜１３と酸化膜１４が順に積層されてなることを特徴とする。 - 特許庁

The illumination means 41 consists of a plurality of LEDs 41a disposed at a wiring board 30 along a circumference of a pattern drum 34 and a reflector 42 disposed at the wiring board 30 to reflect light of the LEDs 41a to illuminate the respective symbols incoming to a visible display part from a rear side.例文帳に追加

前記照明手段４１は、図柄ドラム３４の円周に沿って前記配線基板３０に配設される複数のＬＥＤ４１ａと、該配線基板３０に配設され、該ＬＥＤ４１ａの光を反射して可視表示部に到来した各図柄を後側から照明するリフレクタ４２とから構成する。 - 特許庁

To provide a monomer polymer and an organic composition containing the same for forming an organic anti-reflection film which absorbs a light-exposing origin between a layer to be etched and a photoresist film in order to prevent a pattern disintegration under the influence of a standing wave generated at the lower part of a photoresist film at the time of a photolithographic processing.例文帳に追加

本発明は、フォトリソグラフィ工程時にフォトレジスト膜の下部で発生した定在波の影響によるパターンの崩壊を防止するために、被エッチング層とフォトレジスト膜との間で露光源を吸収する有機反射防止膜形成用単量体、重合体及びこれを含む有機組成物が開示される。 - 特許庁

By enlarging the displacement of the fine displacement distance generated by the fine displacement generation part 46 by a displacement enlargement arm 44, the movable shade 38 is made stopped at an arbitrary position in the middle other than a complete advancing position or a complete retreating position to form an intermediate light distribution pattern corresponding to its stopped position.例文帳に追加

微細変位発生部４６により発生した微細変位距離の変位が変位拡大アーム４４により拡大されることによって可動シェード３８を完全進出位置及び完全退避位置以外の中間の任意の位置に停止させて、その停止位置に対応した中間配光パターンを形成する。 - 特許庁

A CPU 120 acquires a zoom amount received from a zoom lens position detection section 122, refers to a stripe element width table stored in a stripe element width table storage section 109 and conducts a width of stripe elements in a pattern image to be formed on a liquid crystal light valve 114 on the basis of the acquired zoom amount.例文帳に追加

ＣＰＵ１２０は、ズームレンズ位置検出部１２２より伝えられたズーム量を取得し、ストライプ要素幅テーブル格納部１０９に格納されたストライプ要素幅テーブルを参照して、取得したズーム量に基づき、液晶ライトバルブ１１４上に形成すべきパターン画像におけるストライプ要素の幅を導き出す。 - 特許庁

The organic EL semiconductor element provided with a first electrode and a second electrode and an organic layer which emits light by a re-combination of a load carrier arranged between the electrodes is prepared and at least one part of the organic layer is selectively destroyed by a thermal action to the organic layer and a pattern is formed on the semiconductor element.例文帳に追加

第１の電極、第２の電極、および、該２つの電極間に配置され電荷担体の再結合によって発光する有機層を備えた有機ＥＬ半導体素子を準備し、少なくとも有機層の一部を有機層への熱作用により選択的に破壊して半導体素子にパターンを形成する。 - 特許庁

The photoreceptor drum is scanned with light by a signal in accordance with an image pattern in each color conducted to a desired input image 4 by a toner image conducting part 31 so as to form a latent image by exposure devices 5BK, 5Y, 5M and 5C and the toner image on the photoreceptor drum is developed by a developing device.例文帳に追加

トナー画像導出部３１によって所望の入力画像４に対して導出した、各色における画像模様に従った信号による光が、露光装置５ＢＫ、５Ｙ、５Ｍ、５Ｃにより、感光ドラムに走査され潜像が形成され、現像装置によって感光ドラム上にトナー像が現像される。 - 特許庁

To provide a mask pattern imaging apparatus capable of continuously carrying out alignment between a substrate and a mask on a substrate plane and alignment of a mask mark and an image plane position on the basis of light diffraction by an alignment mark provided on the substrate and an alignment mark provided on the mask arranged to be separated from the substrate.例文帳に追加

基板上に設けたアライメントマークと上記基板から離間して配置したマスク上に設けたアライメントマークによる光回折に基き、基板平面における基板とマスク間の位置合わせと、上記マスクマークの像面位置合わせとを連続的に履行可能とする、マスクパターン画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

The examiner can use a monitor 102, and an electronic operation system comprising a mouse 107, a light pen 108, and another pointing device 109 to directly operate a recording sheet pattern displayed (or printed) on the monitor 102 or a digitizer pad for deciding a spot position, inputting commands for recording user response, etc.例文帳に追加

検者は、モニタ１０２、および、マウス１０７、ライトペン１０８、その他のポインティングデバイス１０９から成る電子化された操作系を用いて、モニタ１０２あるいはデジタイザパッド上に表示（あるいは印刷）された記録用紙パターンを直接、操作することによりスポット位置の決定、ユーザ応答の記録などのためのコマンド入力を行なう。 - 特許庁

In the patterning method, the pattern of a photomask is transferred to an underlying material by exposure processing thus forming a first guide where the surface energy of the underlying material is changed, and a second guide where the surface energy of the underlying material is changed is formed between the first guides by diffraction of exposure light resulting from exposure processing.例文帳に追加

実施の形態のパターン形成方法は、露光処理により、フォトマスクのパターンを下地材に転写して下地材の表面エネルギーを変化させた第１のガイドを形成すると共に、露光処理により生じる露光光の回折により、第１のガイド間に下地材の表面エネルギーを変化させた第２のガイドを形成する。 - 特許庁

The computer 2 normalizes each reflection light intensity distribution, hue distribution and color component distribution by the color image data at a dynamic range D, using information of R(red), G(green) and B(blue) components of each pixel, of which the received color data have at a proper pattern extracting section 2a.例文帳に追加

電子計算機２では、固有パターン抽出部２ａにおいて、受けたカラー画像データが有する各画素のＲ（赤）、Ｇ（緑）及びＢ（青）成分の情報を用い、当該カラー画像データによる表示画像中の反射光強度分布、色相分布、色成分分布をそれぞれダイナミックレンジＤで正規化する。 - 特許庁

The diffraction grating pattern 5 is provided with: a first cell 10 in which a blazed grating 11 of diffracting incident light Li in the specified direction is formed on substrate surface; and a second cell 20 in which a blazed grating 21 having the grating line direction different from that of the blazed grating 11 of the first cell 10 by about 180° is formed.例文帳に追加

回折格子パターン５は、基材表面に、入射光Ｌｉを特定方向に回折するブレーズド格子１１が形成された第１セル１０と、第１セル１０のブレーズド格子１１とは、格子線方向が略１８０度異なるブレーズド格子２１が形成された第２セル２０とを備えている。 - 特許庁

To provide a polymer which has excellent transparency, excellent dry etching resistance and excellent solubility in organic solvents, to provide a chemical amplification type resist composition suitable for far infrared light excimer laser lithography, electron beam lithography and the like, and to provide a method for forming a pattern with the chemical amplification type resist composition.例文帳に追加

優れた透明性と高いドライエッチング耐性とを有し、有機溶媒に対する溶解性にも優れた重合体、遠紫外光エキシマレーザーリソグラフィーや電子線リソグラフィー等に好適な化学増幅型レジスト組成物、および、この化学増幅型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

A photosensitive composition containing a compound for generating an acid by irradiation with a beam of active light or a radiation, a specific basic compound having a polar group, a specific basic compound having no polar groups, and a specific surfactant, and a pattern forming method using the same are provided.例文帳に追加

活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、極性基を有する特定の塩基性化合物、極性基を有さない特定の塩基性化合物、及び、特定の界面活性剤を含有することを特徴とする感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition for exposure with far UV adaptable to exposure in the far UV region using ArF or KrF as a light source in production of a semiconductor device, ensuring improved dimensional uniformity of a resist pattern and excellent also in various properties as a resist, such as resolving power, focal depth and development defects.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、ＡｒＦやＫｒＦを光源とする遠紫外線領域の露光に対応し得、レジストパターンの寸法均一性が改善され、さらに解像力、焦点深度、現像欠陥などのレジスト諸特性にも優れた遠紫外線露光用ポジ型感光性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method for correcting a defect of a photomask capable of acquiring an excellent cross-sectional shape at the edge part of a pattern of an absorption layer or a light blocking layer after dark defect correction, a method for manufacturing a photomask using it, and a photomask defect correction device for performing the method.例文帳に追加

本発明は、黒欠陥修正後、吸収層または遮光層のパターンの端部にて良好な断面形状が得られるフォトマスクの欠陥修正方法、およびそれを用いたフォトマスクの製造方法、それを実施するためのフォトマスクの欠陥修正装置を提供することを主目的とする。 - 特許庁

A mask blank has a thin film for forming a pattern on a light transmitting substrate, wherein the thin film comprises an upper layer made of a material containing Cr and oxygen and a lower layer made of a material that contains Ta or its compound and can be etched by a dry etching process that uses a fluorine-based gas.例文帳に追加

透光性基板上にパターンを形成するための薄膜を有するマスクブランクにおいて、薄膜は、Ｃｒと酸素を含む材料で形成されている上層と、Ｔａまたはその化合物を含み、且つ、弗素系ガスを用いたドライエッチング処理によりエッチング加工が可能な材料で形成されている下層とからなる。 - 特許庁

Consequently, the high-quality display device which is reduced in the fluctuation of finished dimension can be obtained, because the intensity of light emitting signals can be increased at the time of performing etching time successively performed after the formation of the resist pattern and substrates can be processed based on the optimum etching time by precisely determining ending points.例文帳に追加

レジストパターン形成に引き続いて行われるエッチング時の発光信号強度を高くすることが可能となり、的確な終点判断により基板ごとに最適なエッチング時間による加工を行うことができるため、仕上がり寸法のばらつきの少ない良質な表示装置を得ることが可能である。 - 特許庁

To provide a positive photoresist for near-field exposure having good light efficiency and capable of reducing pattern edge roughness even in the case of a small thickness of an image forming photoresist layer and to provide a photolithography method characterized in including a step for exposing an image forming photoresist layer formed using the photoresist by near-field exposure.例文帳に追加

像形成用フォトレジスト層の層厚が小さくても光効率が良く、パターンエッジラフネスが低減できる近接場露光用のポジ型フォトレジストおよびこれを用いて形成した像形成用フォトレジスト層を近接場露光により露光する工程を含むことを特徴とする、光リソグラフィ方法を提供する。 - 特許庁

In the respective pixels 10 of the spatial light modulator PPM, a movable mirror 11 which forms a projection beam modulator element and a mirror actuator 13 are fitted on one side of a substrate 16, and a pixel control circuit device 15 for setting the modulation element according to a desired pattern is fitted on the other side.例文帳に追加

この光空間変調器ＰＰＭの各画素１０は、投影ビーム変調素子を形成する可動ミラー１１およびミラーのアクチュエータ１３が基板１６の片側に取付けてあり、その反対側に変調素子を所望のパターンに従ってセットするための画素制御回路装置１５が取付けてある。 - 特許庁

The panel for display device includes a substrate, a side wall member formed on the substrate and having a plurality of openings, a plurality of color filters formed in the openings and exhibiting a color by incident light, and at least one inspection pattern for inspecting misalignment of the color filters.例文帳に追加

表示装置用表示板は、基板と、前記基板上に形成されていて、複数の開口部を有する隔壁部材と、前記開口部に形成されていて、入射する光によって色を表示する複数のカラーフィルターと、前記カラーフィルターの誤整列を検査するための少なくとも一つの検査パターンと、を含む。 - 特許庁

To provide a halftone phase shift mask blank having a halftone phase shift film which can control the retardation and transmittance as a phase shift mask for exposure light and the transmittance at an inspection wavelength, which has excellent chemical resistance and excellent patterning property by etching, and to provide a phase shift mask and a method for transferring a pattern.例文帳に追加

露光光での位相シフトマスクとしての位相差，透過率や検査波長での透過率を制御でき、耐薬品性に優れ、さらにエッチングによるパターニング性に優れたハーフトーン型位相シフト膜を有するハーフトーン型位相シフトマスク用ブランクス及び位相シフトマスク並びにパターン転写方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To more strictly perform the evaluation of a defective factor even for an object to be inspected wherein a cyclic light and shade pattern appears in a photographed image, in the optical member inspection method in an image inspection device for inspecting the quality of an optical member such as a lens or the like.例文帳に追加

レンズ等の光学部材の品質を検査するための画像検査装置における光学部材検査方法において、撮影した画像に周期的な濃淡模様が現れるような被検物に対しても不良要因の評価をより厳密に行うことが可能な光学部材検査方法を提供することである。 - 特許庁

One principal surface of a base material is irradiated with laser light in a state where a metal film made of low-fusion-point metal is brought into contact with the defective part of the pattern (wiring), and an alloy layer is formed and firmly fixed on a contact boundary surface between a metal film of a transfer member and a metal film forming the wiring.例文帳に追加

基材の一方の主表面上に低融点金属からなる金属膜を、パターン（配線）の欠陥部に密着させた状態でレーザ光を照射して、転写部材の金属膜と、配線を形成する金属膜との密着境界面でそれらの合金層を形成して固着させる。 - 特許庁

To provide a resist pattern forming method which improves performance in microfabrication of a semiconductor element using a high energy beam, X-ray, electron beam or EUV light and satisfies high sensitivity, high resolution, good line width roughness and process margin at the same time, and a developer used for the method.例文帳に追加

本発明は、高エネルギー線、Ｘ線、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なラインウィズスラフネス、プロセスマージンを同時に満足するレジストパターン形成方法及びそれに用いる現像液を提供する。 - 特許庁

To provide a thin film transistor that improves driving characteristics and reliability, a method for manufacturing the thin film transistor, and a display device including the thin film transistor by forming a semiconductor layer located over a metal pattern such as a gate electrode or a light shielding member by using polycrystalline silicon that does not include incomplete crystal growth region.例文帳に追加

不完全結晶成長領域を含まない多結晶シリコンでゲート電極または遮光部材のような金属パターン上に位置する半導体層を形成することにより、駆動特性及び信頼性を向上させる薄膜トランジスタ、その製造方法、及びこれを含む表示装置を提供する。 - 特許庁

The photomask 20 is used for forming the fixed spacer 5 for controlling the liquid crystal cell gap by using the positive photoresist on the color filter substrate 11 or on the pixel electrode substrate in the liquid crystal display device, and has a gray tone portion 9 including a total transmission slit on the periphery of a light-shielding portion 8 as a photomask pattern of the fixed spacer.例文帳に追加

液晶表示装置におけるカラーフィルタ基板１１、または画素電極基板に、ポジ型フォトレジストを用いて液晶セルギャップ制御用の固定スペーサ５を形成するためのフォトマスク２０であって、固定スペーサのフォトマスクパターンとして、遮光部８の周囲に全透過スリットを含むグレートーン部９を有する。 - 特許庁

In a state where a surface 20a to be processed is irradiated with irradiation light 22 from an illumination lamp 32 while conveying an etched substrate 20 to be processed, a line sensor 33 captures image data of the surface 20a to be processed, and an etching pattern formed on the surface 20a to be processed is specified based on the image data.例文帳に追加

エッチング処理が施された被処理基板２０を搬送させながら、被処理面２０ａに照明ランプ３２による照射光２２を照射させた状態で、ラインセンサー３３により、被処理面２０ａの画像データを撮影し、該画像データに基づいて、被処理面２０ａに形成されたエッチングパターンを特定する。 - 特許庁

To provide a method of forming a multilayer coating film, which can form the coating layer showing a uniform texture excellent in metal feeling in a highlight (near a regular reflection light), and changing the texture of the whole coating film significantly by an observation angle expressing a pattern design in a shade (oblique direction).例文帳に追加

本発明の目的は、ハイライト（正反射光近傍）において金属感に優れた均一な質感を示し、シェード（斜め方向）において模様意匠を発現する観察角度によって塗膜全体の質感が大きく変化する塗膜を形成可能な複層塗膜形成方法を提供することである。 - 特許庁

To acquire an image information detecting device capable of detecting a pattern image with high accuracy by taking a condition of spherical aberration of an illumination optical system into account, thereby increasing a quantity of illumination light in the central portion of an illumination area and its vicinity and hence improving the S/N ratio of a detection signal.例文帳に追加

照明光学系の球面収差の状態を考慮することにより照明領域中心部及びその近傍の照明光量を大きくすることができ、検出信号のＳ／Ｎ比を向上させ位置検出用のパターン像を高精度に検出することができる画像情報検出装置を得ること。 - 特許庁

To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition having excellent sensitivity while maintaining storage stability in a level suitable for practical use, and in particular, to provide a positive resist composition for electron beams, X-rays or EUV light, and a resist film formed of the composition and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

保存安定性について実用レベルを損なうことなく、優れた感度を有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、特には電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光用ポジ型レジスト組成物、該組成物を用いてなるレジスト膜及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In the color image forming apparatus, the toner image of each color pattern for determination is configured such that the toner images of a plurality of thin-width patterns, whose dimensions in a sub-scanning direction are smaller than a diameter of a spot of light radiated from an optical sensor, are arranged along the sub-scanning direction at intervals smaller than the diameter of the spot.例文帳に追加

カラー画像形成装置において、各色の判定用パターンのトナー画像は光センサから照射された光のスポットの径よりも副走査方向の寸法が小さい複数の細幅パターンのトナー画像を、上記スポットの径よりも小さい間隔で副走査方向に沿って並べた構成を有する。 - 特許庁

To provide an active light sensitive or radiation sensitive resin composition and a method of forming a pattern using the resin composition improved in line edge roughness, BLOB defects and generation of scum, and having good conformability to an immersion liquid in immersion exposure.例文帳に追加

ラインエッジラフネス、ＢＬＯＢ欠陥、並びにスカムの発生が改良され、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるレジストパターンを形成することが可能な感活性光線性または感放射線性樹脂樹脂組成物、及び該樹脂組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

Microstructures with different sizes and regularly aligned patterns are fabricated in a large area and parallel mode by transferring a controlled template, wherein the direction of fluidization is determined by the polarization of light, and the pattern and size of the polymer array template having the directional photo-fluidization phenomenon are precisely controlled.例文帳に追加

光の偏光によって流体化方向が決定され、方向性光流体化現象を有する高分子アレイ型枠の模様と大きさを精密に制御し、制御された型枠を転写することによって規則的に配列された模様と大きさが多様な微細構造体を大面積及び平行的方法で製作する。 - 特許庁

To provide a negative resist composition which satisfies such properties as high sensitivity, high resolution, a good pattern shape and a good margin for light exposure in microfabrication particularly when KrF excimer laser, X-radiation, an electron beam or an ion beam is used.例文帳に追加

半導体素子の微細加工における性能向上技術における課題を解決することであり、特にＫｒＦエキシマレーザー、Ｘ線、電子線又はイオンビームの使用に対して高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好な露光量マージンの特性を同時に満足するネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a hardcoating film excellent in surface hardness, restraining an interference pattern from being generated, and restraining glittering of a screen, reflection of an outdoor daylight, and uneven coloring of a reflected light, without impairing image clearness when applied to an antireflection film, in a thermoplastic film laminated with a hardcoating layer, and the antireflection film.例文帳に追加

ハードコート層を積層した熱可塑性フィルムにおいて表面硬度に優れ、かつ干渉模様の発生が抑制され、反射防止フィルムに適用した時に画像鮮明性を損なうことなく、画面のぎらつきや外光の映り込み、反射光の着色ムラが抑制されたハードコートフィルムおよび反射防止フィルムを提供すること。 - 特許庁

To provide an illumination lamp for vehicle to form a variable light distribution pattern for high beam in which, when running on a flat straight road, the front visibility of its own driver is enhanced without giving glare to a preceding vehicle driver or the like, and in other running situations, it does not give botheration to the own driver.例文帳に追加

ハイビーム用の可変配光パターンを形成する車両用照明灯具において、平坦な直線路を走行する際には、前走車ドライバ等にグレアを与えてしまうことなく自車ドライバの前方視認性を高める一方、それ以外の走行状況下においては自車ドライバに煩わしさを与えてしまわないようにする。 - 特許庁

The immersion lithography apparatus is constituted so that the pattern of an original plate is projected on a substrate through a projection optical system and a liquid so as to expose the substrate, and includes a substrate reference plate arranged on a substrate stage to hold the substrate, and a drive portion to drive a field stop which restricts a measuring light irradiated to the substrate reference plate.例文帳に追加

液浸露光装置は、原版のパターンを投影光学系および液体を介して基板に投影して該基板を露光するように構成され、基板を保持する基板ステージに配置された基板基準プレートと、前記基板基準プレートに照射される計測光を制限する視野絞りを駆動する駆動部とを備える。 - 特許庁

A test pattern for detecting a density variation amount (reflected light variation amount) of an image in one rotation cycle of the electric motor for rotating or moving an image carrier is formed while changing a motor control constant, and the density variation amounts of the respective test patterns are compared, whereby the appropriate motor control constant is set.例文帳に追加

像担持体を回転或いは移動させる為の電動モータ１回転周期の画像の濃度変動量（反射光変動量）を検出するためのテストパターンを、モータ制御定数を変化させながら形成し、各テストパターンの濃度変動量を比較することで、適切なモータの制御定数を設定する。 - 特許庁