「light pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(135ページ目) - Weblio英語例文検索

Since the irradiation of the observation object with the deep ultraviolet light is stopped when the line width of the pattern provided at the prescribed position of the observation object attains the limiting value, the observation object is prevented from being damaged equal to or above the limiting value.例文帳に追加

本発明によれば、観察対象の所定の位置に設けられたパターンの線幅が所定の制限値に達した場合に、観察対象への深紫外光の照射を停止するので、観察対象が制限値以上に損傷を受けることを防止することができる。 - 特許庁

However, by lighting the fabric with a parallel light from its front surface side, and observing the fabric from upper slant direction, since the reflected amounts of light from the S-twist yarn group and the Z-twist yarn group are different, it is possible to observe a striped pattern on the surface of the fabric 11 even by using the same colored yarns.例文帳に追加

しかし、織物にその正面側から平行光を当てて、織物を斜め上方から観察した場合には、Ｓ撚糸群１４ＳとＺ撚糸群１５Ｚの光の光源側への光の反射量が異なるため、観察者の視点に入るＳ撚糸群１４ＳとＺ撚糸群１５Ｚの光量に差が生じて、同じ色彩の糸を用いても織物１１の表面に縞模様を観察することができる。 - 特許庁

This optical head device 11 includes a diffraction element (HOE) 24 furnished with a diffractive pattern capable of providing such a light spot that the fluctuation of focus error mainly containing a component in the radial direction among reflection laser beams reflected by the optical disk is hardly to occur, on a light receiving face of a photodetector 28 for receiving the reflection laser beams reflected by a recording layer of the optical disk to output a corresponding signal.例文帳に追加

この発明の光ヘッド装置１１は、光ディスクの記録層で反射された反射レーザ光を受光して対応する信号を出力する光検出器２８の受光面に、光ディスクで反射された反射レーザ光のうちのラジアル方向の成分を主として含むフォーカスエラーの変動が生じにくい光スポットを提供可能な回折パターンが与えられた回折素子（ＨＯＥ）２４を含む。 - 特許庁

The manufacturing method for the alignment film of the present invention includes a first stage of forming a pattern substrate 30 having a plurality of columnar bodies 31 slanting at a specified angle and a second stage of obtaining the alignment film made of a light-transmissive inorganic dielectric material by transferring shapes of the columnar bodies 31 to a film 41 made of a light-transmissive inorganic dielectric material by using a nanoimprint method.例文帳に追加

本発明の配向膜の製造方法は、所定角度で傾斜してなる複数の柱状物３１を具備した型基板３０を作成する第１工程と、前記柱状物３１の形状を透光性の無機誘電体材料からなる膜４１にナノインプリント法を用いて転写し、当該透光性の無機誘電体材料からなる配向膜を得る第２工程と、を備えることを特徴とする。 - 特許庁

There is provided a light emitting device provided with a mount substrate, an electrode 2a provided on the mount substrate, an LED chip 3 provided on a part of the electrode 2a, and a planar shape having a pattern corresponding to a far field image and a near field image of light emitted from the LED chip 3 as at least a part of an outline.例文帳に追加

マウント基板と、マウント基板上に設けられた電極２ａと、電極２ａの一部の上に設けられたＬＥＤチップ３と、電極２ａ上に少なくとも設けられた蛍光体層とを具備し、電極２ａが、ＬＥＤチップ３から発せられる光の遠視野像や近視野像に対応するパターンを輪郭の少なくとも一部として有する平面形状を備えることを特徴とする発光装置。 - 特許庁

The EL element comprises at least a first electrode layer, an insulating layer formed to cover an edge part of the first electrode layer, a liquid repellency part disposed on the upper surface of the insulating layer, a light emitting layer formed like a pattern on the first electrode layer, and a second electrode layer formed on the light emitting layer.例文帳に追加

上記目的を達成するために、本発明は、少なくとも第１電極層を有する基板と、前記第１電極層のエッジ部を覆うように形成された絶縁層と、前記絶縁層の上面に設けられた撥液性部と、前記第１電極層上にパターン状に形成された発光層と、前記発光層上に形成された第２電極層とを有することを特徴とするＥＬ素子を提供する。 - 特許庁

The hologram recording medium is subjected to recording or reproducing of information by irradiation with a coherent light beam and has a plurality of photosensitive sections which consist of photosensitive materials each internally storing the optical interference pattern for the light beam as a diffraction grating and are regularly paralleled, and non-photosensitive sections which exist between the photosensitive sections and compartmentalize the photosensitive sections from each other.例文帳に追加

ホログラム記録媒体は、可干渉性の光ビームの照射により情報の記録又は再生が行われるホログラム記録媒体であって、各々が光ビームの光学干渉パターンを回折格子として内部に保存する感光材料からなりかつ規則的に並列された複数の感光部と、感光部間に位置しかつ感光部を互いに区切る非感光部とからなるホログラム記録層を有する。 - 特許庁

The cathode 25 arranged opposite on the other surface side of the semiconductor substrate 10 in the anodizing step is so pattern-designed as to constitute a mask arranged between a light source 30 composed of a tungsten lamp designed to form a light intensity distribution corresponding to the desired lens shape on the other surface of the semiconductor substrate 10 and the other surface of the semiconductor substrate 10.例文帳に追加

陽極酸化工程において半導体基板１０の上記他表面側に対向配置される陰極２５が、半導体基板１０の上記他表面に所望のレンズ形状に応じた光強度分布を形成するように設計されてタングステンランプからなる光源３０と半導体基板１０の上記他表面との間に配置されるマスクを構成するようにパターン設計されている。 - 特許庁

A colored striped pattern line creating means 1 creates a colored multiple line by bringing a plurality of colored lines of colors of light with greatly different wavelengths in contact with each other and merging them, and outputs the colored multiple line on the present position indicator image display part 2 as an indicator image of the present position.例文帳に追加

色付き縞模様線作成手段１は光の色の波長が大きく異なる複数個の波長の光の色の複数の色付き線を接触合体させて色付き多層線を作成し、その色付き多層線を現在位置の指示子画像として現在位置指示子画像表示部２に出力する。 - 特許庁

A wiring part 15 of the positive electrode pattern 3 is comprised of a transparent wiring layer 22 made of the same transparent conductive material as the transparent electrode part 13 and a metallic film 23 made of low resistance metal material same as the metal lattice 21 having light shielding function, formed on the transparent wiring layer 22.例文帳に追加

また、陽極パターン３の配線部１５が、透明陽極部１３と同一の透明導電材料によって形成された透明配線層２２と、その透明配線層２２上に金属格子２１と同一の低抵抗金属材料によって形成された遮光性を有する金属薄膜２３とを備えて構成されている。 - 特許庁

A carriage 4 mounting a recording head 3 is provided with a photosensor 5 for emitting and receiving infrared light and, for a dedicated recording medium recorded with a scale pattern, a second timing generating section 8 generates a timing signal for determining the driving timing of the recording head 3 based on the detection signal from the photosensor.例文帳に追加

記録ヘッド３を搭載するキャリッジ４に赤外線の発光および受光を行うフォトセンサ５を設け、スケールパターンの記録された専用の記録媒体に対しては、第２のタイミング生成部８によりフォトセンサの検出信号に基づいて記録ヘッド３の駆動タイミングを規定するタイミング信号を生成する。 - 特許庁

In the manufacture method of unidirectional diffusion plate, the unidirectional diffusion plate is manufactured by utilizing a speckle pattern formed when the surface relief type diffusion plate having groove depth of ≥2 μm and ≤20 μm on the surface is irradiated with the light of linear coherence.例文帳に追加

表面の溝の深さが２μｍ以上２０μｍ以下であるような、表面レリーフ型の拡散板で、直線状の可干渉性のある光を拡散板に照射して、そのときに生じるスペックルパターンを用いて作成することを特徴とする一方向性拡散板の作成方法および表面レリーフ型拡散板である。 - 特許庁

After a hole 10 in a desired shape is formed inside a substrate 1, the substrate is immersed in an electroless plating liquid 11 and irradiated with condensed laser light 12 along a desired pattern to precipitate and fix a metal in the irradiated region to form a metal electrode.例文帳に追加

基板１内部に所望形状の空孔１０を形成した後、この基板を無電解メッキ液１１中に浸し、所望のパターンに応じてレーザ光１２を集光照射することによって該照射領域に金属を析出、固定し、金属電極を形成することを特徴とする電極形成方法。 - 特許庁

Laser light from a laser oscillator for continuously radiating optical pulses having the spatial and temporal large energy density at the pulse emitting time not more than 1 picosecond is radiated to a workpiece of a multilayer structure having the different wave length absorptance in a specified pattern and with specified energy density, and the workpiece is machined.例文帳に追加

１ピコ秒以下のパルス放射時間で空間的時間的なエネルギー密度の大きい光パルスを連続放射するレーザ発振器からのレーザ光を、前記レーザ光の波長吸収率が異なる多層構造の被加工物に、所定パターン、所定エネルギー密度にて照射し、前記被加工物を加工するように構成する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition for exposure with far UV adaptable to exposure in the far UV region using ArF or KrF as a light source in production of a semiconductor device, ensuring improved dimensional uniformity of a resist pattern and excellent also in various properties as a resist, such as resolving power, focal depth and development defects.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、ＡｒＦやＫｒＦを光源とする遠紫外線領域の露光に対応し得、レジストパターンの寸法均一性が改善され、さらに解像力、焦点深度、現像欠陥などのレジスト諸特性にも優れた遠紫外線露光用ポジ型感光性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist for near-field exposure having good light efficiency and capable of reducing pattern edge roughness even in the case of a small thickness of an image forming photoresist layer and to provide a photolithography method characterized in including a step for exposing an image forming photoresist layer formed using the photoresist by near-field exposure.例文帳に追加

像形成用フォトレジスト層の層厚が小さくても光効率が良く、パターンエッジラフネスが低減できる近接場露光用のポジ型フォトレジストおよびこれを用いて形成した像形成用フォトレジスト層を近接場露光により露光する工程を含むことを特徴とする、光リソグラフィ方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for correcting a defect of a photomask capable of acquiring an excellent cross-sectional shape at the edge part of a pattern of an absorption layer or a light blocking layer after dark defect correction, a method for manufacturing a photomask using it, and a photomask defect correction device for performing the method.例文帳に追加

本発明は、黒欠陥修正後、吸収層または遮光層のパターンの端部にて良好な断面形状が得られるフォトマスクの欠陥修正方法、およびそれを用いたフォトマスクの製造方法、それを実施するためのフォトマスクの欠陥修正装置を提供することを主目的とする。 - 特許庁

A mask blank has a thin film for forming a pattern on a light transmitting substrate, wherein the thin film comprises an upper layer made of a material containing Cr and oxygen and a lower layer made of a material that contains Ta or its compound and can be etched by a dry etching process that uses a fluorine-based gas.例文帳に追加

透光性基板上にパターンを形成するための薄膜を有するマスクブランクにおいて、薄膜は、Ｃｒと酸素を含む材料で形成されている上層と、Ｔａまたはその化合物を含み、且つ、弗素系ガスを用いたドライエッチング処理によりエッチング加工が可能な材料で形成されている下層とからなる。 - 特許庁

In the respective pixels 10 of the spatial light modulator PPM, a movable mirror 11 which forms a projection beam modulator element and a mirror actuator 13 are fitted on one side of a substrate 16, and a pixel control circuit device 15 for setting the modulation element according to a desired pattern is fitted on the other side.例文帳に追加

この光空間変調器ＰＰＭの各画素１０は、投影ビーム変調素子を形成する可動ミラー１１およびミラーのアクチュエータ１３が基板１６の片側に取付けてあり、その反対側に変調素子を所望のパターンに従ってセットするための画素制御回路装置１５が取付けてある。 - 特許庁

Consequently, the high-quality display device which is reduced in the fluctuation of finished dimension can be obtained, because the intensity of light emitting signals can be increased at the time of performing etching time successively performed after the formation of the resist pattern and substrates can be processed based on the optimum etching time by precisely determining ending points.例文帳に追加

レジストパターン形成に引き続いて行われるエッチング時の発光信号強度を高くすることが可能となり、的確な終点判断により基板ごとに最適なエッチング時間による加工を行うことができるため、仕上がり寸法のばらつきの少ない良質な表示装置を得ることが可能である。 - 特許庁

The panel for display device includes a substrate, a side wall member formed on the substrate and having a plurality of openings, a plurality of color filters formed in the openings and exhibiting a color by incident light, and at least one inspection pattern for inspecting misalignment of the color filters.例文帳に追加

表示装置用表示板は、基板と、前記基板上に形成されていて、複数の開口部を有する隔壁部材と、前記開口部に形成されていて、入射する光によって色を表示する複数のカラーフィルターと、前記カラーフィルターの誤整列を検査するための少なくとも一つの検査パターンと、を含む。 - 特許庁

To provide a resist pattern forming method which improves performance in microfabrication of a semiconductor element using a high energy beam, X-ray, electron beam or EUV light and satisfies high sensitivity, high resolution, good line width roughness and process margin at the same time, and a developer used for the method.例文帳に追加

本発明は、高エネルギー線、Ｘ線、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なラインウィズスラフネス、プロセスマージンを同時に満足するレジストパターン形成方法及びそれに用いる現像液を提供する。 - 特許庁

In the imprint method for imprinting a pattern formed on a mold onto a resin, a wavelength of light incident on an imaging device is controlled in accordance with a gap between the mold and the substrate when an alignment mark provided on the mold is imaged by the imaging device.例文帳に追加

本発明の第１の側面は、モールドに形成されたパターンを基板上の樹脂にインプリントするインプリント方法であって、該モールドに設けられているアライメントマークを撮像素子で撮像する場合に、該モールドと該基板との間のギャップに応じて、該撮像素子に入射する光の波長を制御する、インプリント方法である。 - 特許庁

To provide an active light sensitive or radiation sensitive resin composition and a method of forming a pattern using the resin composition improved in line edge roughness, BLOB defects and generation of scum, and having good conformability to an immersion liquid in immersion exposure.例文帳に追加

ラインエッジラフネス、ＢＬＯＢ欠陥、並びにスカムの発生が改良され、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるレジストパターンを形成することが可能な感活性光線性または感放射線性樹脂樹脂組成物、及び該樹脂組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

Microstructures with different sizes and regularly aligned patterns are fabricated in a large area and parallel mode by transferring a controlled template, wherein the direction of fluidization is determined by the polarization of light, and the pattern and size of the polymer array template having the directional photo-fluidization phenomenon are precisely controlled.例文帳に追加

光の偏光によって流体化方向が決定され、方向性光流体化現象を有する高分子アレイ型枠の模様と大きさを精密に制御し、制御された型枠を転写することによって規則的に配列された模様と大きさが多様な微細構造体を大面積及び平行的方法で製作する。 - 特許庁

The resist pattern 18 comprises a photosensitive resin mainly composed of a highly light-shielding, aqueous alkali-soluble resin to which a naphthol structure in which at least one hydroxyl group is bound to a naphthalene nucleus is incorporated or an aqueous alkali-soluble resin derivative is used as a polymeric resin matrix.例文帳に追加

レジストパターン１８は、ナフタレン核に少なくとも一つの水酸基が結合したナフトール構造を組み込んだ高遮光性の水性アルカリ可溶性樹脂または上記水性アルカリ可溶性樹脂の誘導体を高分子樹脂マトリックスとする水性アルカリ可溶性樹を主成分とする感光性樹脂組成物からなる。 - 特許庁

To provide a negative resist composition which satisfies such properties as high sensitivity, high resolution, a good pattern shape and a good margin for light exposure in microfabrication particularly when KrF excimer laser, X-radiation, an electron beam or an ion beam is used.例文帳に追加

半導体素子の微細加工における性能向上技術における課題を解決することであり、特にＫｒＦエキシマレーザー、Ｘ線、電子線又はイオンビームの使用に対して高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好な露光量マージンの特性を同時に満足するネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To ensure high sensitivity to a short wavelength light source, to suppress the occurrence of development defects and to obtain a superior pattern profile by using a compd. having a specified structure besides an acid decomposable resin and a photo-acid generating agent.例文帳に追加

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術の課題を解決することで、短波長光源に対して高い感度を有し、更に現像欠陥の発生が軽減され、優れたパターンプロファイルが得られる遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

The flexible printed circuit board mounted with a light-emitting diode includes: a lower insulator, an upper insulator, a conductive pattern intervened between the lower and upper insulators, and a white color film attached on the upper insulator.例文帳に追加

本発明によって、発光ダイオードを実装するためのフレキシブルプリント回路基板において、下部絶縁体と、上部絶縁体と、前記下部絶縁体と前記上部絶縁体との間に介された導電パターンと、前記上部絶縁体上に付着された白色フィルムと、を含むフレキシブルプリント回路基板が提供される。 - 特許庁

After a resist film 11 consisting of a chemically amplifying resist material containing a base polymer containing at least one ester of acrylate and methacrylate and an acid generating agent which generates acid by irradiation of light is formed, the resist film 11 is selectively irradiated with extreme UV rays 13 for pattern exposure.例文帳に追加

アクリル酸エステル及びメタクリル酸エステルのうちの少なくとも１つのエステルを含むベースポリマーと、光が照射されると酸を発生する酸発生剤とを有する化学増幅型レジスト材料からなるレジスト膜１１を形成した後、該レジスト膜１１に極紫外線１３を選択的に照射してパターン露光を行なう。 - 特許庁

To provide a polymer which has excellent transparency, excellent dry etching resistance and excellent solubility in organic solvents, to provide a chemical amplification type resist composition suitable for far infrared light excimer laser lithography, electron beam lithography and the like, and to provide a method for forming a pattern with the chemical amplification type resist composition.例文帳に追加

優れた透明性と高いドライエッチング耐性とを有し、有機溶媒に対する溶解性にも優れた重合体、遠紫外光エキシマレーザーリソグラフィーや電子線リソグラフィー等に好適な化学増幅型レジスト組成物、および、この化学増幅型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The headlight device control ECU 40 reduces the illuminance of the light distribution pattern for high beam by controlling the lighting fixture 20H for high beam when the present area of a forward road detected by the navigation system 144 includes an undectable area deviated from the detection area of the vehicle detector 150.例文帳に追加

前照灯装置制御ＥＣＵ４０は、ナビゲーションシステム１４４によって検出された前方の道路の存在領域が車両検出装置１５０の検出範囲から外れる検出不能領域を含むときは、ハイビーム用灯具２０Ｈを制御してハイビーム用配光パターンの照度を低減せしめる。 - 特許庁

A photosensitive composition containing a compound for generating an acid by irradiation with a beam of active light or a radiation, a specific basic compound having a polar group, a specific basic compound having no polar groups, and a specific surfactant, and a pattern forming method using the same are provided.例文帳に追加

活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、極性基を有する特定の塩基性化合物、極性基を有さない特定の塩基性化合物、及び、特定の界面活性剤を含有することを特徴とする感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

The super resolution optical recording medium has at least a recording layer and a super resolution layer on a substrate, and a recording mark being super resolution limit or below and a space are formed by adjusting the intensity or light emitting pattern of laser beams used for recording so that a recording mark 26 is a recessed part with respect to a unrecorded part 29.例文帳に追加

超解像光記録媒体は、基板上に少なくとも記録層と超解像層とを有してなり、記録マーク２６が未記録部２９に対して凹部となるように、記録に供するレーザの強度または発光パターンを調整して、解像限界以下の記録マーク及びスペースを形成する。 - 特許庁

To provide a low-reflective photomask which essentially consists of aluminum, has high light-shielding property and excellent pattern processability, exhibits a low reflectance at an exposure wavelength, is relatively gradual in reflectance variation in a wavelength range from 200 to 400 nm, and is suitable for lithographic techniques aiming to a half pitch of 45 nm and beyond (smaller) on a wafer, and to provide a photomask blank.例文帳に追加

アルミニウムを主成分として、遮光性が高くてパターン加工性に優れ、露光波長で低反射率を示し、かつ、２００〜４００ｎｍの波長域での反射率変動が比較的緩やかであり、ウェハ上のハーフピッチ４５ｎｍ以降のリソグラフィ技術に適した低反射型のフォトマスクおよびフォトマスクブランクスを提供する。 - 特許庁

In a communication system wherein a first communication device 10 and a second communication device 20 perform communication through an optical transmission line 30 with feeble light as a medium, the first communication device 10 divides transmission data by frame of a fixed length and transmits them to the optical transmission line together with a frame pattern provided on a fixed position of each frame.例文帳に追加

微弱強度の光を媒体として第一通信装置１０と第二通信装置２０とが光伝送路３０を介して通信を行う通信システムにおいて、第一通信装置１０は、固定長のフレームごとに送信データを分割し、各フレームの固定位置に設けられたフレームパタンとともに光伝送路へ送信する。 - 特許庁

In the displaying device, a soldering land 2 for back light is disposed on one side of the flexible printed board 1, and a pattern 3 for connecting to a LCD and a land 4 for mounting a chip LED are disposed on another side, and either the LED or the LCD is mounted, thereby realizes the determined display.例文帳に追加

本発明の表示装置では、フレキシブルプリント基板１の一面にはバックライト用半田付けランド２が設けられ、他面にはＬＣＤとの接続用パターン３とチップＬＥＤを実装するためのランド４が設けられ、表示部材たるＬＥＤまたはＬＣＤのいずれかを実装して所定の表示を実現するものである。 - 特許庁

In a disk 102 recording digital content, an identification mark 106 containing covert security information in a predefined pattern is provided on a top planar surface 110, a covert light source is illuminated for emitting a specified photonic spectrum and an image sensor is used for certifying the identification mark 106 as genuine.例文帳に追加

ディジタルコンテンツが記録されたディスク１０２において、平坦な上側表面１１０に所定のパターンで隠しセキュリティ情報を含む識別マーク１０６を設け、特定の波長の光を発光させるために隠し光源を発光させ、イメージセンサーを用いて識別マーク１０６の真正性を認証する。 - 特許庁

The immersion lithography apparatus is constituted so that the pattern of an original plate is projected on a substrate through a projection optical system and a liquid so as to expose the substrate, and includes a substrate reference plate arranged on a substrate stage to hold the substrate, and a drive portion to drive a field stop which restricts a measuring light irradiated to the substrate reference plate.例文帳に追加

液浸露光装置は、原版のパターンを投影光学系および液体を介して基板に投影して該基板を露光するように構成され、基板を保持する基板ステージに配置された基板基準プレートと、前記基板基準プレートに照射される計測光を制限する視野絞りを駆動する駆動部とを備える。 - 特許庁

A test pattern for detecting a density variation amount (reflected light variation amount) of an image in one rotation cycle of the electric motor for rotating or moving an image carrier is formed while changing a motor control constant, and the density variation amounts of the respective test patterns are compared, whereby the appropriate motor control constant is set.例文帳に追加

像担持体を回転或いは移動させる為の電動モータ１回転周期の画像の濃度変動量（反射光変動量）を検出するためのテストパターンを、モータ制御定数を変化させながら形成し、各テストパターンの濃度変動量を比較することで、適切なモータの制御定数を設定する。 - 特許庁

To provide a hardcoating film excellent in surface hardness, restraining an interference pattern from being generated, and restraining glittering of a screen, reflection of an outdoor daylight, and uneven coloring of a reflected light, without impairing image clearness when applied to an antireflection film, in a thermoplastic film laminated with a hardcoating layer, and the antireflection film.例文帳に追加

ハードコート層を積層した熱可塑性フィルムにおいて表面硬度に優れ、かつ干渉模様の発生が抑制され、反射防止フィルムに適用した時に画像鮮明性を損なうことなく、画面のぎらつきや外光の映り込み、反射光の着色ムラが抑制されたハードコートフィルムおよび反射防止フィルムを提供すること。 - 特許庁

To provide an illumination lamp for vehicle to form a variable light distribution pattern for high beam in which, when running on a flat straight road, the front visibility of its own driver is enhanced without giving glare to a preceding vehicle driver or the like, and in other running situations, it does not give botheration to the own driver.例文帳に追加

ハイビーム用の可変配光パターンを形成する車両用照明灯具において、平坦な直線路を走行する際には、前走車ドライバ等にグレアを与えてしまうことなく自車ドライバの前方視認性を高める一方、それ以外の走行状況下においては自車ドライバに煩わしさを与えてしまわないようにする。 - 特許庁

This layer 13 is exposed to light with the specified pattern and developed, and the part corresponding to the part where barrier ribs are to be formed is removed, and thereby grooves for barrier rib formation 13a and cell forming parts 13b are formed, and the surface of the cell forming parts 13b and the inside of the grooves 13a are covered with die releasing films.例文帳に追加

次に感光性材料層１３を所定のパターンで露光した後に現像して隔壁形成予定部に対応する部分を除去することにより、隔壁形成用溝１３ａ及びセル形成部１３ｂを形成し、セル形成部１３ｂの表面及び隔壁形成用溝１３ａの内部を離型膜にて被覆する。 - 特許庁

In the optical disk with an information recording layer in which information is recorded by a pit-form pattern, this information recording layer comprises three or more layers (layer L0, layer L1, layer L2...), and a reflection film used for layers except for a layer farthest from a light incident side is made of Al (aluminum), Ag (silver) and oxygen (O).例文帳に追加

ピット状のパターンにより情報が記録された情報記録層を有する光ディスクにおいて、この情報記録層が３層以上（Ｌ０層、Ｌ１層、Ｌ２層・・・）からなり、光入射側から最も遠い層を除いた層に用いる反射膜がＡｌ（アルミニウム）とＡｇ（銀）とＯ（酸素）とから構成されることを特徴とする。 - 特許庁

In this pattern defect inspection device, the quantity change in the ultraviolet laser beam is detected during inspection, to thereby determine the existence of an influence on the inspection, and service life prediction and abnormality of the light source are detected, and the inside of an optical system is cleaned, to thereby ensure prolongation of service life and long-term reliability of optical parts.例文帳に追加

検査中に紫外レーザ光の光量変動を検出して検査への影響の有無を判定し、かつ光源の寿命予測と異常を検知するとともに、光学系の内部を清浄化して光学部品の寿命延長と長期信頼性を確保するようにしたパターン欠陥検査装置である。 - 特許庁