「light pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(130ページ目) - Weblio英語例文検索

According to the synthetic data 824, irradiation of a light beam is carried out by setting irradiation intensity of a peripheral region 902 where a resist layer RG is relatively thick is sufficiently larger than that of a pattern region 901 where the resist layer RG is relatively thin (the irradiation intensity value FF (HEX)> the irradiation intensity value 55(HEX)).例文帳に追加

合成データ８２４によれば、レジスト層ＲＧが比較的厚い周縁領域９０２を、レジスト層ＲＧが比較的薄いパターン領域９０１よりも十分に大きな照射強度で光ビームの照射が行われる（照射強度値がＦＦ（ＨＥＸ）＞５５（ＨＥＸ））。 - 特許庁

When the individual authentication system is used outside under the sunlight, a cover which cuts off near infrared rays included in the sunlight and has a filtering function of transmitting visible light to allow the user to recognize his/her finger is placed, and the individual authentication system has effects of acquiring a pattern of finger veins.例文帳に追加

また、屋外の太陽光の元で使用する場合、太陽光に含まれる近赤外光をカットし、かつ使用者が自身の指を確認出来るよう可視光を透過させるフィルタ機能のあるカバーを設置し、指静脈パターンの取得が出来る効果がある。 - 特許庁

To provide a concealment card which is of a simple construction having a sharp fluorescent pattern which can be certainly distinguished by ultraviolet irradiation from the surface of a concealing layer but is not visible by a solar light or an indoor illumination, and a method for manufacturing this concealment card.例文帳に追加

簡単な構成を有する隠蔽カードであって、隠蔽層表面からの紫外線照射によって確実に識別でき、かつ太陽光や室内光によっては視認できない鮮明な蛍光絵柄を有する隠蔽カード、およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

Further, the image forming apparatus allows an LED to emit light with the determined LED emission pattern, to detect the horizontal deviation amount of the sheet and moves the sheet under conveyance in a direction perpendicular to the conveying direction of the sheet so as to eliminate the detected horizontal deviation amount.例文帳に追加

さらに、画像形成装置は、決定されたＬＥＤ発光パターンでＬＥＤを発光させ、シートの横ずれ量を検出し、検出した横ずれ量を解消すべく、搬送中のシートをシートの搬送方向に対して垂直方向に移動させる。 - 特許庁

The light path changing function layer 2 is formed by feeding the flowable PDSM on the flat surface of the glass substrate 1, pressing a stamper 4 provided with a pattern forming part 5 thereon to cure the PDSM and after that, peeling off the stamper.例文帳に追加

ガラス基板１の平坦面上に流動性のあるＰＤＭＳ原材料を流し、その上からパターン成形部５を設けたスタンパ４を圧接してＰＤＭＳを硬化させた後、スタンパを剥離して、ガラス基板の上面に光路変更機能層２を形成する。 - 特許庁

The liquid crystal display device includes gate lines 21 and data lines 60 defining pixel regions by a crossing structure, a pixel electrode 100 formed in the pixel region and having a diagonal side formed adjacent to a crossing portion of the gate line and the data line, and a light blocking pattern 23 preventing light leakage and formed parallel to the diagonal side of the pixel electrode.例文帳に追加

交差構造で画素領域を定義するゲートライン２１及びデータライン６０と、前記画素領域に形成され、前記ゲートライン及び前記データラインの交差部と隣接する一辺が傾斜して形成された画素電極１００と、前記画素電極の傾斜した一辺と並んで形成されて光漏れを遮蔽する光遮蔽パターン２３とを含む液晶表示装置及びその製造方法。 - 特許庁

This production method includes processes of: plate-making first and second photosensitive layers 52a, 52b laminated on both sides of a laminated body 50 having a base material film 32, first and second electroconductive layers 40, 45 laminated on both sides of the base material film, and a light shielding layer laminated on the electroconductive layer; and thereafter etching the light shielding layer and the electroconductive layer to pattern them.例文帳に追加

製造方法は、基材フィルム３２と、基材フィルムの両側に積層された第１および第２の導電層４０，４５と、導電層上に積層された遮光層と、を有する積層体５０の両側に積層された第１および第２の感光層５２ａ，５２ｂを製版する工程と、その後、遮光層および導電層をエッチングしてパターニングする工程と、を含む。 - 特許庁

A device includes a light source 14 for irradiating a sample 30 with light; a camera 32 for detecting fluorescence from the sample 30; and a means for determining degreasing uniformity and a degreasing condition of the sample 30 by using at least two indexes, namely, a first index acquired by subjecting a fluorescence intensity distribution to space pattern analysis and a second index acquired, by subjecting the fluorescence intensity distribution to statistical analysis.例文帳に追加

試料３０に光を照射する光源１４と、試料３０からの蛍光を検出するカメラ３２と、蛍光の強度分布を空間パターンの解析で得られる第１の指標と、蛍光の強度分布を統計解析して得られる第２の指標の少なくとも２つの指標を用いて、試料３０の脱脂の均一性及び脱脂の度合いを判定する手段を有する。 - 特許庁

The arithmetic processing unit 3 includes: a first parameter generating unit 43 configured to generate a first parameter indicative of a position of a light transmissive section pattern using positions of the light receiving devices as input, a second parameter generating unit 44 configured to generate second parameters using the first parameter as input, and an image generating unit configured to produce output images using image signals and the second parameters as input.例文帳に追加

演算処理部３は、受光素子の位置を入力として、光透過部パターンの位置を表す第１のパラメータを生成する第１のパラメータ生成部４３と、第１のパラメータを入力として、第２のパラメータを生成する第２のパラメータ生成部４４と、画像信号と第２のパラメータとを入力として、出力画像を生成する画像生成部とを有する。 - 特許庁

Each LED element 3 for composing an LED array panel 1 is arranged around an optical axis 72 at angles having a difference of 90 degrees, a light having an intensity distribution with a fixed pattern being outputted from each LED element 3 is overlapped for averaging, and the intensity distribution of illumination light outputted from the LED array panel 1 becomes nearly uniform over the irradiation surface.例文帳に追加

ＬＥＤアレイパネル１を構成する各々のＬＥＤ素子３を、その光軸７２の回りに９０度異なる角度で配置し、個々のＬＥＤ素子３から出力される一定のパターンの強度分布を持つ光を重ね合わせて平均化し、ＬＥＤアレイパネル１から出力される照明光としては照射面で強度分布がほぼ一様となるようにする。 - 特許庁

To provide a plasma display panel of a small pixel pitch and high resolution by inexpensively providing a translucent electromagnetic wave shielding film having excellent durability and high electromagnetic wave shielding property carrying a continues mesh pattern with reduced production of moire and having small light scattering and high light transmittance with high productivity in a large quantity with reduced loss of a shielding material, and using the translucent electromagnetic wave shielding film.例文帳に追加

モアレの発生が少なく、耐久性に優れ、高い電磁波シールド性を有し、光散乱が小さく高い光透過率を有する連続メッシュパターンを担持した透光性電磁波シールドフィルムを、シールド材料のロスが少ない高い生産性で、安価に大量に提供し、この透光性電磁波シールドフィルムを用いて、画素ピッチの小さな、高解像度のプラズマディスプレイパネルを提供する。 - 特許庁

To provide recorded matter including a pattern (printed part) excellent in glossy feeling and scuff resistance, a method of production, capable of producing such recorded matter in a good efficiency, an ultraviolet light-curing type inkjet composition capable of suitably being used for producing such recorded matter, and also powder used for producing such ultraviolet light-curing type inkjet composition.例文帳に追加

光沢感、耐擦性に優れたパターン（印刷部）を備えた記録物を提供すること、当該記録物を効率よく製造することができる製造方法を提供すること、当該記録物の製造に好適に用いることのできる紫外線硬化型インクジェット組成物を提供すること、また、当該紫外線硬化型インクジェット組成物の製造に用いられる粉末を提供すること。 - 特許庁

To provide a surface defect inspection device having the most simple and rational constitutions of an irradiation system and an imaging system, and capable of conducting highly reliable inspection, in the surface defect inspection device provided with the irradiation system comprising a plurality of light emitting elements arranged with a prescribed lay-out pattern, and an imaging camera for imaging an inspected face receiving irradiation light emitted from the irradiation system.例文帳に追加

所定のレイアウトパターンで配置された複数の発光素子からなる照射系と、その照射系から照明される照射光を受けた被検査面を撮像する撮像カメラとを備える表面欠陥検査装置において、照射系と撮像系との構成が最も合理的かつシンプルであり、信頼性の高い検査を行うことが可能なものを得る。 - 特許庁

To provide a high definition image forming device exhibiting a high reproducibility by correcting image data so as to make a light emission pulse width a prescribed pulse width for an isolated dot pattern that lowers the reproducibility of an image due to the decrease in the light emission pulse width, an isolated dot for which laser on time is 1/4 in an SST to split one picture element into four bits.例文帳に追加

１画素を４ビットに分割するＳＳＴにおいて、レーザＯＮ時間が１／４になるような孤立ドットでは、発光パルス幅が細くなり画像の再現性が悪化してしまう孤立ドットパターンの場合に、発光パルス幅が所定のパルス幅になるように画像データを補正することにより、再現性の高い高品位な画像形成形成装置を提供する。 - 特許庁

A mask 1 housed in a chamber 2 containing an organic substance environment is locally irradiated with far UV rays by the effect of a far UV lamp 5 and a shielding plate 6 to locally deposit the organic substance on the opposite face of the mask 1 to the face where the light shielding pattern 12 is formed so as to arbitrarily control the transmittance at the wavelength of the exposure light in the shot region.例文帳に追加

有機物雰囲気下にあるチャンバ２に収容されたマスク１に対し、遠紫外線ランプ５および遮光板６の作用により遠紫外線を局所的に照射して、マスク１の遮光パターン１２が形成された面とは反対側の面上に、有機物を局所的に堆積させて、露光波長に対する透過率をショット内で自由に制御する。 - 特許庁

A transmissive liquid crystal display apparatus 1 includes sub-pixels having light-transmissive areas and a display area 9 wherein the sub-pixels are arranged like a matrix, and light reflecting areas are formed in sub-pixels corresponding to a pattern which should be kept displayed in the display area 9 when setting the transmissive liquid crystal display apparatus 1 to a non-driven state.例文帳に追加

本発明の透過型液晶表示装置１は、光透過領域を有するサブ画素と、前記サブ画素がマトリクス状に配列された表示領域９と、を備えており、前記透過型液晶表示装置１を非駆動状態とした際に、前記表示領域９に表示させておきたい模様に対応する前記サブ画素に光反射領域を形成したことを特徴とする。 - 特許庁

A photoreceptor 11 charged by a charging mechanism 13 is irradiated with light while an irradiation region in a preliminarily determined repetition pattern is formed on the photoreceptor 11 by partially blocking the light exiting from an emitting means 14 by a mask 15 present between the photoreceptor 11 and the emitting means 14, so as to form an electrostatic latent image in the irradiated region.例文帳に追加

帯電機構１３によって帯電された感光体１１に対し、当該感光体１１と出射手段１４との間に介在するマスク１５によって、出射手段１４から出射される光の一部を遮光し、予め定める繰返しパターンの照射領域を感光体１１上に形成して光を照射し、その照射領域に静電潜像を形成する。 - 特許庁

The screen is equipped with a condensing lens group 15 constituted by arranging a plurality of condensing lenses to be planar between a selective reflection layer 12 and a diffusing plate 17 on a screen base plate 11, and equipped with an absorbing layer pattern 14 in the emitting area of external light having an optical axis different from the projector light on the condensing lens between the lens group 15 and the layer 12.例文帳に追加

スクリーン基板１１上の選択反射層１２と拡散板１７との間に複数の集光レンズが平面に配置されてなる集光レンズ群１５を備え、前記集光レンズ群１５と選択反射層１２との間で、かつ当該集光レンズのプロジェクター光と光軸が異なる外光の射出領域に吸収層パターン１４を備える。 - 特許庁

A resist pattern manufacturing method comprises a first process of applying a resist 11 on a substrate, a second process of exposing the resist 11 to light reaching the substrate so as to enable a plurality of regions of the resist 11 to be exposed to light varying in intensity corresponding to the plurality of regions, and a third process of baking the resist 11 after the exposure process is finished.例文帳に追加

レジストパターン製造方法において、基板にレジスト１１を塗布する工程と、前記基板まで到達する光で前記レジスト１１を露光する工程であって、前記レジスト１１は複数の領域を有し、それぞれの前記複数の領域が異なる強さで露光される前記露光工程と、前記露光工程後、前記レジスト１１をベークする工程とを有すること。 - 特許庁

The data pattern is recorded in the holographic medium by the interference fringes between the signal light and the reference light.例文帳に追加

記録しようとするデータパターン４９を含む信号光をホログラフィック媒体５０に照射する信号光パターニング手段（データマスク４８）と、その円筒状の反射面に入射された参照光を反射して前記ホログラフィック媒体に所定角度で入射させる円筒状の光学体１０２とを備え、前記信号光と前記参照光との干渉縞により前記データパターンを前記ホログラフィック媒体に記録する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition for exposure to far UV rays, the composition showing little dependence on heating temperature after exposure in a microphotofabrication process using far UV light, in particular, ArF excimer laser light, having decreased surface roughening by etching, having low dependence on pattern density, and having excellent side lobe margin.例文帳に追加

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上のための技術における課題を解決するポジ型フォトレジスト組成物を提供することにあり、露光後加熱温度依存性、エッチング表面荒れが低減され、さらには疎密依存性が小さく、サイドローブマージンに優れた遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor capable of preventing the occurrence of an image defect of an interference fringe pattern without performing treatment of surface-roughening or the like even when being used to an electrophotographic apparatus for image forming using coherent light such as semiconductor laser light and forming a satisfactory image and having high performance and satisfactory electric characteristics and to provide an image forming apparatus using the photoreceptor.例文帳に追加

半導体レーザー光等の可干渉光を用いて像形成を行う電子写真装置に用いた場合でも、粗面化等の処理をすることなく干渉縞模様の画像欠陥の発生を防止し、良好な画像を形成することが可能で、且つ、電気特性も良好である高性能な電子写真感光体、および該感光体を用いた画像形成装置を提供する。 - 特許庁

In the manufacturing method for the light regressive prismatic film, on the surface of which a large number of minute triangular pyramidal shapes are continuously arranged, laser light is shone to a manufacturing mold and the vertical angle of the triangular prism of the film reproduced by the mold so as to calculate the precise vertical angle through the measurement of a projected hexagonal pattern.例文帳に追加

微細な三角錐形状を連続的に多数フィルム表面に配列した光回帰性プリズムフィルムの製造方法において、製造のための金型と金型より複製されたフィルムの三角錐頂角にレーザー光を照射して、投影される六角形状パターンを計測することにより、正確な頂角を算出する事を特徴とした、プリズムフィルム製造方法。 - 特許庁

The method for arraying particulates A is carried out by combining a particulate spreading step to spread on the surface of an oxide substrate 1 the particulate-dispersed liquid obtained by dispersing the particulates A in a medium by using a surfactant, a light irradiating step to irradiate the substrate 1 with light by using the prescribed pattern and a medium removing step to remove the medium.例文帳に追加

この発明の微粒子Ａの配列方法は、界面活性剤を用いて微粒子Ａを媒体に分散させた分散液を酸化物基板１表面に展開する微粒子展開工程、酸化物基板１に所定のパターンにより光を照射する光照射工程、前記媒体を除去する媒体除去工程の各工程を組み合わせることを特徴としている。 - 特許庁

By obtaining light intensity distribution of an information recording region consisting of an information recording part and an information record background part on the information recording medium, i.e., the intensity difference between a regular reflection light intensity from the information recording part and that from the information record background part, the recorded information is acquired as an information pattern and the information authentication is reliably performed.例文帳に追加

そして、情報記録媒体上の情報記録部と情報記録背景部から構成される情報記録領域の光強度分布、すなわち、情報記録部からの正反射光強度と情報記録背景部からの正反射光強度の強度差を得ることで、情報パターンとしての記録情報を取得し、情報認証を確実に行えるようにした。 - 特許庁

In the manufacturing method of the organic electric field light- emitting element 23 wherein the layer having electron transporting layers which are the light emitting regions between ITO transparent picture element electrodes 2 and negative electrodes 22, at least the electron transporting layers 5 among the layers are formed in a prescribed pattern by dropping an organic EL material solution 5a of the constituting materials of the layers.例文帳に追加

ガラス基板１上のＩＴＯ透明画素電極２と陰極２２との間に、発光領域である電子輸送層を有する層が設けられた有機電界発光素子２３の製造方法において、前記層のうち少なくとも電子輸送層５をその構成材料の有機ＥＬ材料溶液５ａの滴下によって所定パターンに形成する、有機電界発光素子２３の製造方法。 - 特許庁

After a resist film 102 comprising a base polymer, an acid generating agent which generates an acid by irradiation with light, and a chemically amplifying resist material containing lactone is formed, the resist film 102 is selectively irradiated with exposure light 104 to carry out pattern exposure while water 103 circulating and temporarily reserved in a liquid reservoir is supplied onto the resist film 102.例文帳に追加

ベースポリマーと、光が照射されると酸を発生する酸発生剤と、ラクトンとを含有する化学増幅型レジスト材料よりなるレジスト膜１０２を形成した後、循環しながら溶液貯留部に一時的に貯留されている水１０３をレジスト膜１０２の上に供給した状態で、露光光１０４をレジスト膜１０２に選択的に照射してパターン露光を行なう。 - 特許庁

By such a structure, the deflecting condition of the ultraviolet irradiating the farm field 3 is maintained in the vicinity of the transmission through the covering film 4 to attain light distribution equal to a light deflection pattern in an airy region in the farm field 3, and thereby the pollinating insects 2 make accurate recognition of the direction so as to exactly fly toward farm crops 31 or nest boxes 32 placed in the farm field 3.例文帳に追加

これにより、圃場３に照射される紫外線の偏光状態を被覆フィルム４の透過前後で維持することができ、圃場３内において天空の偏光パターンと同等の配光状態を実現でき、受粉用昆虫２が方向認識を的確に行い、圃場３内にある農作物３１や巣箱３２に向かって正確に飛翔できる。 - 特許庁

In an IC mount region 60 of an element substrate 10, wide light shield patterns 63 which form parallel stripes and an insulating layer 64 for short-circuit prevention which covers the surface sides of those light shield patterns 63 are formed in an area overlapping with an IC 4 in a plane, and a narrow inspection pattern 69 is formed on the surface of the insulating layer 64 for short-circuit prevention.例文帳に追加

素子基板１０のＩＣ実装領域６０において、ＩＣ４と平面的に重なる領域には、ストライプ状に並列する幅広の遮光パターン６３と、これらの遮光パターン６３の表面側を覆う短絡防止用絶縁層６４とが形成され、短絡防止用絶縁層６４の表面には、幅の狭い検査パターン６９が形成されている。 - 特許庁

The phase shift interferometer comprises: an illumination optical system 200 for emitting P wave and S wave; a collimate lens 110; a reference half mirror 120; a pinhole plate 130 having a pinhole 131; and a phase shift interference pattern acquiring section 300 for making object light included in a luminous flux passing the pinhole 131 interfere with the reference light at four different phases, and for acquiring interference patterns of differential phases.例文帳に追加

Ｐ波とＳ波とを発射する照明光学系２００と、コリメートレンズ１１０と、参照ハーフミラー１２０と、ピンホール１３１を有するピンホールプレート１３０と、ピンホール１３１を通過する光束に含まれる物体光と参照光とを４つの異なる位相で干渉させて異なる位相の干渉縞を得る位相シフト干渉縞取得部３００と、を備える。 - 特許庁

The pattern forming method includes the steps of: forming a first film on a substrate to be treated; forming a second film consisting of a silicon film on the first film, which has an optical absorption factor to the EUV (Extreme Ultraviolet) light smaller than that of the first film; forming a resist film on the second film; selectively irradiating the EUV light to the resist film; and developing the resist film.例文帳に追加

被処理基板の上に第１の膜を形成する工程と、第１の膜の上に第１の膜よりもＥＵＶ（Extreme UltraViolet）光に対する光吸収係数が小さく、シリコン膜である第２の膜を形成する工程と、第２の膜の上にレジスト膜を形成する工程と、レジスト膜にＥＵＶ光を選択的に照射する工程と、レジスト膜を現像する工程とを備えている。 - 特許庁

The pattern forming method includes: forming a film of a block copolymer, including at least two kinds of polymers, on a substrate; heating the block copolymer film; irradiating the heated block copolymer film with UV light; and supplying a developing solution to the UV light-irradiated block copolymer film.例文帳に追加

少なくとも２種類のポリマーを含むブロック共重合体の膜を基板に形成するステップと、前記ブロック共重合体の膜を加熱するステップと、加熱された前記ブロック共重合体の膜に紫外光を照射するステップと、紫外光の照射を経た前記ブロック共重合体の膜に現像液を供給するステップとを含むパターン形成方法が提供される。 - 特許庁

To provide an electronic pen, when the pen is used for writing on recording paper with dot information by a prescribed pattern absorbing infrared light recorded thereon, which is structured so as not to prevent a reception of the infrared light to reflect the handwriting from the recording paper, and so as not to get a paper surface dirty even when the tip of the pen abuts on the paper surface of necessary.例文帳に追加

赤外光を吸収する所定のパターンによるドット情報を設けた記録用紙へ筆記を行った際に、その筆跡が記録用紙から反射される赤外光の受光を妨げることなく、また必要に応じて、筆記先端を紙面に当接させても紙面を汚すことがないようにすることができる構造の電子ペンを得ることを目的とする。 - 特許庁

The projection aligner comprises an optical system for illuminating a reticle, and an optical system for projecting the pattern of the reticle onto a wafer wherein the illumination optical system comprises an optical deflection element for converting a light incident to an optical integrator into a ring-like light and the optical deflection element has a variable position in the direction perpendicular to the optical axis in the optical path.例文帳に追加

レチクルを照明する照明光学系と、前記レチクルのパターンをウエハ上に投影する投影光学系とを有する投影露光装置において、前記照明光学系は、オプティカルインテグレータに入射する光を輪帯状の光に変換する光偏向素子を有し、該光偏向素子は光路内における光軸に垂直な方向の位置が可変であること。 - 特許庁

A catalyst that captures oxygen during the deoxygenation reaction of the GO target captures oxygen during the deoxygenation reaction of the GO target by exposing the GO target to light from a lithographic light source configured to pattern a thin film of graphene oxide having a wavelength between 200-400 nanometers by using the catalyst comprising one or more of nickel, copper, silicon, and magnesium.例文帳に追加

ＧＯ標的物の脱酸素反応中に酸素を捕捉する触媒が、ニッケル、銅、ケイ素およびマグネシウムの１種または複数である触媒を用いて、ＧＯ標的物を、２００ナノメートル〜４００ナノメートルの波長を有するグラフェン酸化物の薄膜をパターニングするように配置されたリソグラフィー光源からの光に暴露して、ＧＯ標的物の脱酸素反応中に酸素を捕捉する。 - 特許庁

In the detector for detecting the movement of gas which is generated in between a comparison chamber with infrared light passing through a sample incident thereon, and a reference chamber with infrared light which is not absorbed by the sample by a flow sensor, the comparison chamber, the reference chamber, and the flow sensor are formed three-dimensionally through etching and pattern formation.例文帳に追加

試料を透過した赤外光が入射される比較室と、前記試料の吸収を受けない赤外光が入射される基準室との間に生じるガスの移動をフローセンサで検出する検出器において、エッチングおよびパターン成形により、前記比較室と前記基準室と前記フローセンサが基板中に立体形成されたことを特徴とする検出器。 - 特許庁

This testing method comprises a step to irradiate light on surface of the display panel and photograph the above display panel for obtaining the first image, a step to irradiate light on surface of the above display panel with pattern impressed on the display panel for obtaining the second image, and a step to compare the first image with the second image for determining whether the display panel is defective.例文帳に追加

ディスプレーパネルの表面に光を照射し、前記ディスプレーパネルを撮影して第１画像を得る段階と；前記ディスプレーパネルにパターンを印加した状態で前記ディスプレーパネルに光を照射し、前記ディスプレーパネルを撮影して第２画像を得る段階と；前記第１画像と前記第２画像を比較し、前記ディスプレーパネルが不良であるか否かを判断する段階とを含む。 - 特許庁

In a maskless lithographic system having a space light modulator (SLM), the method of forming the gray scale comprises the processes of: forming a pattern by exposing the above-mentioned object with light; and forming the region of the gray scale level on the object, by modulating the exposure time of the object.例文帳に追加

空間光変調器（ＳＬＭ）を有するマスクレスリソグラフィシステムにおいて、対象上にグレースケールを形成する方法であって、当該方法は、前記対象を光で露光してパターンを形成すること、および前記対象の露光時間を変調して、対象上にグレースケールレベルの範囲を形成することを含む、ことを特徴とする、対象上にグレースケールを形成する方法。 - 特許庁

In the neighbouring region of the intersection L on the condenser lens front surface 18a, the reflected light from the reflection surface 14a of a reflector 14 is not incident to the peripheral edge of the condenser lens 18, so that there is no risk that an irregular color is generated in the light distribution pattern by the up facing deflecting bundle of beams radiated forward from the lens element 18s.例文帳に追加

その際、集光レンズ１８の前方側表面１８ａにおける上記交線Ｌの近傍領域においては、リフレクタ１４の反射面１４ａからの反射光は集光レンズ１８の周縁部には入射しないので、レンズ素子１８ｓから前方へ照射される上向き偏向光線束により配光パターンに色ムラが発生してしまうことはない。 - 特許庁

A color pattern layer devised to prevent reflected light on the interface between the relief hologram and the reflective thin film formed on the relief hologram from being strong, as well as, being diffracted to become return light is provided between the relief hologram and the reflective thin film and at a position facing the cholesteric liquid crystal; and thereby the visibility of the cholesteric liquid crystal is improved and the precision of authenticity determination is improved.例文帳に追加

レリーフホログラムとそのレリーフホログラム上に形成されている反射性薄膜との間であって、コレステリック液晶と相対する位置に、その界面での反射光が強く且つ回折して戻り光とならないよう工夫した着色パターン層を設けることにより、コレステリック液晶の視認性を改善するとともに、真正性判定の精度を向上させる。 - 特許庁

The mask for monitoring the focus used for monitoring the focus of the mask to be used when patterns are transferred onto a wafer by photolithography has a first pattern region which is enclosed by a light shielding film 13 and has plural monitor patterns formed of rhombic apertures 101 and a second pattern region which is enclosed by a translucent film 12 and has the plural monitor patterns formed of rhombic apertures 102.例文帳に追加

フォトリソグラフィーによりウェハー上にパターンを転写する際に使用されるマスクであって、フォーカスモニタに供されるフォーカスモニタ用マスクにおいて、遮光膜１３で囲まれて菱形の開口部１０１で形成された複数のモニタパターンを有する第１のパターン領域と、半透明膜１２で囲まれて菱形の開口部１０２で形成された複数のモニタパターンを有する第２のパターン領域とを備えている。 - 特許庁

With respect to the array substrate for an in-plane switching mode liquid crystal display device, a structure which is manufactured through four mask steps and exposes semiconductor layers at both sides of a data line has a first feature that a first blocking pattern for blocking light is formed under the semiconductor layer, and a second feature that a second blocking pattern for blocking an influence of the semiconductor layer is formed over and in contact with the data line.例文帳に追加

本発明による横電界方式の液晶表示装置用アレイ基板は、４マスク工程によって製作されデータ配線の両側に半導体層が露出する構造において、第１特徴は、半導体層の下部に光を遮断する第１遮断パターンを構成して、第２特徴は、データ配線の上部に、これと接触しながら半導体層による影響を遮断する第２遮断パターンを構成する。 - 特許庁

The aligner comprising an illumination optical system for illuminating the pattern of an original plate, and a projection optical system for guiding light from the pattern onto a substrate and exposing the substrate is further provided with at least one reflective member, and a noncontact pressure applying means for applying a force to at least one reflective member such that gravitational deformation thereof is reduced.例文帳に追加

原版のパターンを照明する照明光学系と、前記パターンからの光を基板上に導く投影光学系とを有し、前記基板を露光する露光装置であって、前記露光装置が少なくとも１つの反射部材と、前記少なくとも１つの反射部材の自重変形量が小さくなるように、前記少なくとも１つの反射部材に対して非接触に力を加える加力手段を有する。 - 特許庁

To provide a corneal shape measuring device capable of increasing the number of transmission ring patterns without increasing the size of the whole device, extensively projecting the ring patterns of a cornea to be examined, and obtaining the sufficient illumination quantity with a minimum light source by substantially setting the distance between the outermost transmission ring pattern and the cornea to be the same as the distance between the innermost transmission ring pattern and the cornea.例文帳に追加

装置全体を大型化することなく、透光リングパターンの数を増やして、被検眼角膜の広範囲にリングパターンのを投影できると共に、最も外側の透光リングパターンと被検眼角膜との距離をその内側の透光リングパターンと被検眼角膜との距離と略同じにして、最小限の光源で十分な照明光量を得ることができる角膜形状測定装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition which is improved in line edge roughness, pattern profile, EUV light exposing sensitivity, and dissolution contrast, and is used in manufacturing processes of semiconductors such as ICs, circuit boards for such as liquid crystals and thermal heads, and in other photofabrication processes, and also provide a pattern forming method using this composition.例文帳に追加

ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法であって、ラインエッジラフネス、パターンプロファイルが改善され、且つＥＵＶ光露光に於ける感度、溶解コントラストが改良された感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁