「negative pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

A lead part 25b is disposed between the switching elements Q101, Q102 of a high frequency circuit 103 and the switching element Q103 of a drive circuit and connected with a negative electrode side pattern 21 formed on a printed board 20.例文帳に追加

高周波回路１０３のスイッチング素子Ｑ１０１，Ｑ１０２と、駆動回路１０４のスイッチング素子Ｑ１０３との間にリード部２５ｂを配置し、リード部２５ｂをプリント基板２０上に形成された負極側パターン２１に接続している。 - 特許庁

To provide a negative type radiation sensitive resin composition solution having ≤1×10-3 milliequivalent/g acid component content and suitable for use as a minute pattern forming resist.例文帳に追加

本発明のネガ型感放射線性樹脂組成物溶液は、組成物溶液中の酸成分の含有量が１×１０^-3ミリ当量／ｇ以下の範囲に調整されており、微細パターン形成用のレジストとして好適に使用される。 - 特許庁

To obtain a photopolymer composition containing a polyimide precursor having ethylenic double bonds reactive to an actinic radiation such as an ultraviolet radiation in side chains, being developable with an aqueous alkali solution, and having negative pattern forming properties.例文帳に追加

紫外線などの活性光線に反応可能なエチレン性不飽和二重結合を側鎖にもつポリイミド前駆体であり、アルカリ水溶液にて現像が可能なネガ型パターン形成能を有する感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

At a contact point P where the line-shaped pattern 121, the negative electrode collector layer 11 and the solid electrolyte layer 13 are brought into contact with one another, a gradient θ of a line-shaped pattern surface is made smaller than 90°, thereby configuring a battery of which the capacity with respect to the quantity of active materials to be used is great and charging/discharging characteristics are also improved.例文帳に追加

ライン状パターン１２１、負極集電体層１１および固体電解質層１３が互いに接する接触点Ｐにおいてライン状パターン表面の勾配θを９０度より小さくすることで、活物質の使用量に対する容量が大きく、かつ充放電特性も良好な電池を構成することができる。 - 特許庁

To provide a dye-containing negative curable composition excellent in temporal stability after prepared and showing a small variation in pattern line width due to variation in exposure energy, a color filter excellent in hue and resolution and having a good pattern profile, and a method for producing a color filter by which the above color filter can be produced with high productivity (high cost performance).例文帳に追加

組成物作成後の経時安定性に優れ、かつ露光量変動によるパターン線幅変動の割合が小さい染料含有ネガ型硬化性組成物、並びに、色相及び解像力に優れ、パターン形状が良好なカラーフィルタ及び該カラーフィルタを高い生産性（高いコストパフォーマンス）にて作製し得るカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁

A negative photoresist is obtained through steps of: providing a photoresist layer containing a polycarbonate resin having a specified structure and a photoacid generator such as diazonaphthoquinone on a substrate; masking the layer with a desired pattern; irradiating the pattern surface with UV rays; and then developing the resist by using a developing solution comprising a tetra-substituted ammonium hydroxide, a low molecular weight alcohol, and a solvent containing water.例文帳に追加

基板上に、特定構造のポリカーボネート樹脂及びジアゾナフトキノンなどの光酸発生剤を含むフォトレジスト層を設け、所望のパターンでマスクし、このパターン面に紫外線を照射したのち、テトラ置換アンモニウムヒドロキシド、低分子アルコール及び水を含む溶媒から成る現像液を用いて現像することによりネガ型のフォトレジストを得る。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which improves performance in microfabrication of a semiconductor element using an electron beam, X-ray or EUV light and simultaneously satisfies high sensitivity, high resolution, a good pattern shape, good line edge roughness, high contrast, prevention of conversion to a negative resist composition, and surface roughness, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

電子線、Ｘ線、あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス、高コントラスト、ネガ化防止、表面ラフネスを同時に満足するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

A plurality of polarity pattern tables for setting a pixel voltage polarity of the pixel formation part on a display screen are stored in LUT5 beforehand, and each table is set in such a way that positive polarity and negative polarity are generated the same number of times for each pixel formation part when the plurality of polarity pattern tables are selected once for each.例文帳に追加

表示画面上の画素形成部の画素電圧の極性を設定するための極性パターンテーブルをあらかじめＬＵＴ５に複数個格納し、その複数個の極性パターンテーブルがそれぞれ１回ずつ選択されると各画素形成部につきプラスの極性とマイナスの極性とが同回数発生するように各テーブルを設定する。 - 特許庁

To provide a negative type resist composition which satisfies such characteristics as sensitivity, resolution, a rectangular pattern shape and good edge roughness all at once in microfabrication of a semiconductor device using active light or radiation, particularly an electron beam or X-ray.例文帳に追加

活性光線又は放射線、特に電子線又はＸ線を使用する半導体素子の微細加工において、感度と解像性、矩形なパターン形状、良好なエッジラフネスの特性を同時に満足するネガ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a negative resist material capable of forming a resist pattern suitable for use as a thick film mask when a substrate is subjected to ion implantation or plating and excellent in heat resistance and cross-sectional shape in a short time with good resolution.例文帳に追加

基板にイオン注入やめっき処理を施す場合に、厚膜のマスクとして好適に用いることができ、耐熱性及び断面形状に優れるレジストパターンを、短時間で解像性よく形成しうるネガ型レジスト基材を提供する。 - 特許庁

The vernier 1 for checking the position and the width of a sealing material 11 for sealing a liquid crystal is provided in the inner part of wiring with a negative pattern and its shape is formed so that a scale part and a figure part transmit light and the other parts do not transmit light.例文帳に追加

液晶を封止するためのシール材１１の位置、幅をチェックするバーニヤ１をネガパターンで配線内部に設け、形状は目盛りと数字の部分は光が透過するように形成され、その他の領域は不透明となっている。 - 特許庁

Then, a pattern 21 P of the ta-C thin film is formed in a short time, because the applied negative pulsed-voltage onto the substrate K makes the plasma density high, the etching ions easily led to the ta-C thin film, and the etching speed increased.例文帳に追加

基板Ｋに対する負のパルス状電圧の印加により、プラズマ密度が高まると共にエッチングイオンがｔａ−Ｃ薄膜に対して導かれ易くなるため、エッチング速度が増加し、ｔａ−Ｃ薄膜パターン２１Ｐが短時間で形成される。 - 特許庁

To provide a negative resist composition not only excellent in heat resistance at a high temperature but excellent in moisture absorption resistance, and from which a pattern is easily formed in a production process of a color resist for a R.G.B. color filter, a back matrix, a column spacer, an insulating film and an overcoat.例文帳に追加

高温における耐熱性に優れるだけでなく耐吸湿性にも優れており、Ｒ．Ｇ．Ｂ．カラーフィルター用カラーレジスト、ブラックマトリクス、カラムスペーサ、絶縁膜、オーバーコートの製造工程でパターン形成が容易なネガティブレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

After eliminating the third resist layer 19, a fourth resist layer 20 (negative resist layer) is formed on the wiring layer 18 so that the wiring layer is left corresponding to a predetermined pattern, and the wiring layer 18 is etched by using the layer 20 as a mask.例文帳に追加

次に、第３のレジスト層１９を除去した後、配線層１８上に、所定のパターンに対応して当該配線層を残存させるように第４のレジスト層２０（ネガレジスト層）を形成して、これをマスクとして配線層１８をエッチングする。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive composition having a chemical structure transparent to ArF excimer laser beams having a wavelength of 193 nm and high in resistance to dry etching, and a method for forming a negative pattern free from swelling and high in resolution and superior in developability by using an aqueous developing solution of widely used tetramethylammonium hydroxide.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザの波長１９３nmに透明かつドライエッチング耐性が高い化学構造を持ち、汎用のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液による現像で膨潤のない、解像性に優れたネガ型のパタン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a practically useful and alcohol-developable negative photosensitive resin composition having high transparency, a low dielectric constant, a low coefficient of thermal expansion, a high glass transition temperature and satisfactory toughness, and to provide a method for producing a fine pattern using the same.例文帳に追加

高透明性、低誘電率、低熱膨張係数、高ガラス転移温度、且つ十分な靭性を併せ持つ実用上有益で、アルコール類で現像できるネガ型の感光性樹脂組成物、及び、これを用いた微細パターンの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a dye-containing negative curable composition suitable for use of a dye, excellent in rectangularity of a pattern shape, and having high sensitivity and large latitude to development time, and to provide a color filter using the composition and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

染料の使用に好適であり、パターン形状の矩形性に優れ、且つ、高感度で、現像時間に対するラチチュードの広い染料含有ネガ型硬化性組成物、並びに、これを用いたカラーフィルターおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a refractive index variable composition in which the refractive index of the material is varied by an easy method and a refractive index difference can be varied in a desired positive or negative direction, and to provide a method for forming a refractive index pattern from the composition.例文帳に追加

材料の屈折率変化を簡易な方法で行うとともに、屈折率差を正または負の任意の方向に変化することができる屈折率変化性組成物および該組成物から屈折率パターンを形成する方法を提供すること。 - 特許庁

The negative photosensitive resin composition is spin-coated and dried on a semiconductor substrate 1 on which a first conductor layer 3, a second conductor layer 7 and an interlayer insulating film 4 have been formed, and light is illuminated through a mask of a pattern for forming a window 6C in a predetermined portion.例文帳に追加

第１導体層３、第２導体層７及び層間絶縁膜４が形成された半導体基板１に、ネガ型感光性樹脂組成物をスピンコートして乾燥し、所定部分に窓６Ｃを形成するパターンのマスク上から光を照射する。 - 特許庁

A negative type or positive type heat ray sensitive resin film layer (A), a sheet layer (B) transparent to heat rays and an energy beam sensitive film layer (C) containing a heat ray absorber are successively laminated on the surface of a substrate to obtain the objective pattern forming laminated film.例文帳に追加

基材表面にネガ型もしくはポジ型感熱線性樹脂被膜層（Ａ）、熱線を透過するシート層（Ｂ）、及び熱線吸収剤を含有する感エネルギー線被膜層（Ｃ）を順次積層してなることを特徴とするパターン形成用積層被膜。 - 特許庁

When the printed face 71 is decolorized, the printed information 72 of the decolorizable toner which is decolorized and becomes transparent and the negative image pattern 74 by the transparent toner which is transparent from the beginning are mixed, and a flat decolorized face the entire area of which has the same glossiness is formed.例文帳に追加

この印刷面７１を消色すると、消色されて透明となった消色性トナーの印字情報７２と初めから透明であった透明トナーによる陰画パターン７４とが混在して全面が同一の光沢で且つ平坦な消色面が形成される。 - 特許庁

When a contact I and a contact N are set on and other contacts are set off, the current from a constant-current source 31 will flow through the contact I, a needle 11, a circuit pattern 51, a needle 13, and the contact N, and the polarity of the needle 11 is positive, while the polarity of the needle 13 is set negative.例文帳に追加

接点Ｉおよび接点Ｎをオンとし、他の接点をオフとすれば、定電流源３１からの電流が接点Ｉ、ニードル１１、回路パターン５１、ニードル１３、接点Ｎと流れ、ニードル１１の極性はプラス、ニードル１３の極性はマイナスである。 - 特許庁

To provide a photoresist composition excellent in photo speed, critical demension (CD) uniformity, dissolution rate in negative tone developer (NTD) and pattern fidelity; a coated substrate comprising a layer of the photoresist composition; and a method of forming photolithographic patterns.例文帳に追加

フォトスピード、限界寸法（ｃｒｉｔｉｃａｌ ｄｅｍｅｎｓｉｏｎ；ＣＤ）均一性、ネガティブトーン現像剤（ＮＴＤ）中での溶解速度、及び、パターン忠実度に優れた、フォトレジスト組成物、フォトレジスト組成物の層を含むコーティングされた基体及びフォトリソグラフィパターンを形成する方法を提供する。 - 特許庁

A resistance value passing through terminals collecting current in the periphery of the positive or negative electrode plate P200 on the outside is lower than a resistance value of a normal electrode surface having an electrochemical reaction active coating layer having a lattice pattern on the other surface of the electrode plate.例文帳に追加

外側の正極性又は負電極性の電極板Ｐ２００の周辺の電流を集める端子の間に通過する抵抗値は、同電極板の別面に格子紋を有する電化学反応活性塗装層のある正常電極面の抵抗値より低い。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition achieving formation of a negative resist film that effectively responds to (extreme) far UV light of a KrF excimer laser, ArF excimer laser or the like, has excellent nano-edge roughness, sensitivity and resolution, and enables a fine pattern with high accuracy stably to be formed.例文帳に追加

ＫｒＦエキシマレーザー、ＡｒＦエキシマレーザー等の（極）遠紫外線等に有効に感応し、ナノエッジラフネス、感度及び解像度に優れ、微細パターンを高精度に且つ安定して形成可能なネガ型レジスト膜を成膜することができる感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

A main capacitor 28 is connected by soldering a copper foil surface forming a pattern of a printed board 24 with a negative terminal 28a and a positive terminal 28b after the terminals 28a and 28b are inserted in an aperture part formed on the board 24.例文帳に追加

メインコンデンサ２８は、プリント基板２４に形成された開口部に、マイナス端子２８ａ及びプラス端子２８ｂを差し込まれた後、プリント基板２４のパターンを形成する銅箔面と、マイナス端子２８ａ及びプラス端子２８ｂがハンダ付けされることにより接続される。 - 特許庁

When causing display patterns 2, 3 to be emitted, a constant current is passed through display patterns as the object of light emission, by impressing a voltage between the positive electrode and negative electrode thereof, and at this time, divided positive electrodes of the same fixed display pattern (any one of 2A to 2E) are driven synchronously.例文帳に追加

表示パターン２，３を発光する場合には、発光対象となる表示パターンの陽極と陰極との間に電圧を印加して定電流を流し、その際、同一の固定表示パターン（２Ａ〜２Ｅのいずれか）において分割された陽極は同期駆動する。 - 特許庁

A negative type or positive type visible light sensitive resin film layer (A), a sheet layer <B) transparent to visible light and an energy beam sensitive film layer (C) containing a visible light absorber are successively laminated on the surface of a substrate to obtain the objective pattern forming laminated film.例文帳に追加

基材表面にネガ型もしくはポジ型可視光線感光性樹脂被膜層（Ａ）、可視光線を透過するシート層（Ｂ）、及び可視光線吸収剤を含有する感エネルギー線被膜層（Ｃ）を順次積層してなることを特徴とするパターン形成用積層被膜。 - 特許庁

An identification part 204 causes a detecting part 202 to detect a player's operation to a command executed by a command part 201, and when the player's operation does not accommodate to the command or acquires a negative evaluation, identifies the player's operation as an unskilled operation pattern.例文帳に追加

識別部２０４は、指示部２０１によって行われた指示に対するプレイヤの操作を検出部２０２によって検出し、前記プレイヤの操作が指示に対応しない、もしくは、否定的な評価を獲得する場合、前記プレイヤの操作を苦手操作パターンと識別する。 - 特許庁

Generally, there were two methods; the former was to put the undercoating with ingredients containing the pigment and print the white patterns by mica (a negative method with the dark ground color and the pattern in white contrasted with the ground), and the latter was to create the undercoating with mica and print with the ingredients (a positive method with white ground color and colored patterns). 例文帳に追加

一般的には、顔料を混ぜた具で地塗りをして、雲母で白色の紋様を摺る方法（地色が暗く、紋様を白く浮かせるネガティブ法）と、雲母で地塗りして、具で摺る具摺り（地色が白く、紋様に色がつくポジティブ法）も行われた。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

This surface unevenness forming method includes a process for forming an energy-sensitive negative resin composite layer containing at least one or more kinds of polymarizable monomers or oligomers, a process for irradiating activated energy rays at least once or more via a mask with the pattern formed or a process for directly plotting the pattern and a process for performing afterbaking without performing an etching operation.例文帳に追加

少なくとも一種類以上の重合可能なモノマー又はオリゴマーを含有する感エネルギー性ネガ型樹脂組成物層を形成する工程、パターン形成されたマスクを介して活性エネルギー線を少なくとも一回以上照射する工程またはパターンを直接描画する工程、エッチング操作を行うことなく後加熱する工程を含む表面凹凸形成方法。 - 特許庁

This material for forming the resist pattern coating film for forming the coating film on the resist pattern surface is constituted of the first aqueous solution containing a water-soluble resin A1 having a segment ionized in the aqueous solution to be charged with a positive charge, and the second aqueous solution containing a water-soluble resin A2 having a segment charged with a negative charge in the aqueous solution.例文帳に追加

レジストパターン表面に被覆膜を形成するためのレジストパターン被覆膜形成用材料であって、水溶液中で電離して正の電荷を帯びる部位を有する水溶性樹脂（Ａ１）を含有する第一の水溶液と、水溶液中で負の電荷を帯びる部位を有する水溶性樹脂（Ａ２）を含有する第二の水溶液とから構成されるレジストパターン被覆膜形成用材料。 - 特許庁

The pattern forming composition is a photosensitive negative pattern forming composition comprising a metal fine particle dispersion containing metal fine particles and a dispersant keeping these in a dispersed state, wherein the dispersant is a photosensitive dispersant which itself is photosensitized and becomes detached from the metal fine particles to release the particles from the dispersed state.例文帳に追加

金属微粒子及びそれを分散状態に保つ分散剤を含む金属微粒子分散液からなる光感受性ネガ型パターン形成用組成物であって、前記分散剤が、それ自身が感光して金属微粒子から遊離し、分散状態の解除を引き起こすことができる光感受性分散剤であることを特徴とする、上記光感受性ネガ型パターン形成用組成物。 - 特許庁

To provide a negative photosensitive thermosetting coloring resin composition which is excellent in storage stability, can be developed by weak alkalinity developer and generate an image with high resolution, and obtain a thin film pattern with high transparency and sufficient heat-resistance, solvent resistance and insulation after processing a heat curing.例文帳に追加

保存安定性に優れ、また弱アルカリ性現像液による現像が可能で、解像度の高い画像の形成が可能で、熱硬化処理後に、透明性が高く、耐熱性、耐溶剤性、絶縁性も十分な薄膜パターンが得られるネガ型感光性熱硬化性着色樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The high voltage part is a negative terminal 28a having the same potential as high voltage being about 300 V stored in a main capacitor 28 and the connection terminal 29a of a conductive plate 29 electrically connecting either electrode of a stroboscopic discharge tube and the circuit pattern 23 of the board 24.例文帳に追加

高圧部は、メインコンデンサ２８に蓄電された約３００Ｖの高電圧と同じ電位となるマイナス端子２８ａと、ストロボ放電管の一方の電極とプリント基板２４の回路パターン２３とを電気的に接続する導電板２９の接続端子２９ａとである。 - 特許庁

To provide an improved polymer and photoresist composition in which the formation of a fine pattern in an electronic device production is enabled, and at least one of problems (separately described) relating to a newest technology can be avoided or remarkably improved, and to develop a photolithographic method for negative tone development.例文帳に追加

電子デバイス製造における微細パターンの形成を可能にし、および最新技術に関連する１以上の上記課題を回避するかまたは顕著に改善する、改良されたポリマー、フォトレジスト組成物、およびネガティブトーン現像のためのフォトリソグラフィ方法の開発。 - 特許庁

Since the photosensitive resin composition can be developed with only an aqueous alkali solution as a developing solution at a high developing speed, a good light-colored negative type pattern film having high sensitivity, high resolution and little reduction in film thickness can be formed while preventing coloration.例文帳に追加

このような感光性樹脂組成物によれば、アルカリ水溶液のみを現像液として用い、迅速な現像速度において現像でき、その結果、高感度および高解像度で、膜減りの少ない、良好なネガ型のパターンの皮膜を、着色を防止して淡色で形成することができる。 - 特許庁

To provide a method for patterning carbon nanotube able to pattern it with an optional size which is from submicron to a few mm for a large area or a curved face, furthermore being unnecessary for troublesome etching or a negative plate, superior in wear resistance with noncontacting type and being advantageous for industrial mass production.例文帳に追加

大面積や曲面などに対してもサブミクロから数ミリまでの任意の大きさのパターニングが可能であり、しかも面倒なエッチング処理や原版を必要とせず、非接触方式で耐摩耗性に優れ、大量生産に適した工業的に有利なカーボンナノチューブのパターニング方法を提供する - 特許庁

An insulation base board 16 formed with a notch part 16A to surround a pair of a discharge needle 31 for positive ions and a discharge needle 32 for negative ions, is provided on a cover 13 so as to form a conductor pattern 17 as an opposition electrode on the insulation base board 16.例文帳に追加

１対の正イオン用放電針３１及び負イオン用放電針３２を囲むように切り欠き部１６Ａが形成された絶縁基板１６をカバー１３に設けて、この絶縁基板１６上に対向電極としての導体パターン１７を形成するようにした。 - 特許庁

This trench substrate 100a includes: a first insulation layer 120a formed with trenches 140; a second insulation layer 120b arranged under the first insulation layer 120a and low in laser processibility relative to that of the first insulation layer 120a; and a negative pattern 300 formed in the trenches 140.例文帳に追加

本発明のトレンチ基板１００ａは、トレンチ１４０が形成された第１絶縁層１２０ａと、第１絶縁層１２０ａの下部に配置され、第１絶縁層１２０ａに比べてレーザー加工性が低い第２絶縁層１２０ｂと、トレンチ１４０に形成された陰刻パターン３００とを含んでなる。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition capable of forming a chemically amplified negative resist film, which composition is effectively sensitive to EB (electron beam) or EUV (extreme ultraviolet radiation) and excellent in roughness, etching resistance, and sensitivity and which composition stably forms a highly precise fine pattern.例文帳に追加

ＥＢ（電子線）又はＥＵＶ（極紫外線）に有効に感応し、ラフネス、エッチング耐性、及び感度に優れ、高精度な微細パターンを安定して形成することのできる化学増幅型のネガ型レジスト膜を成膜可能な感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for forming a negative pattern which is transparent in the far UV region including 193 nm wavelength of ArF excimer laser light, which has a chemical structure with high durability against dry etching and shows excellent resolution without swelling in a 2.38% tetramethylammonium hydroxide aqueous solution as a standard developer.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザーの波長１９３ｎｍを含む遠紫外線領域で透明で、かつドライエッチング耐性も高い化学構造を持ちながら、標準現像液である２．３８％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液で、膨潤のない解像性能の優れたネガ型のパタン形成方法を提供する。 - 特許庁

A negative or positive UV-sensitive resin coating layer (A), a sheet layer (B) which transmits UV and an energy beam sensitive coating layer (C) which shields UV are successively laminated on the surface of a substrate to obtain the objective pattern forming laminate.例文帳に追加

本発明は、基材表面に、ネガ型もしくはポジ型紫外線感光性樹脂被膜層（Ａ）、紫外線を透過するシート層（Ｂ）、及び紫外線を遮蔽する感エネルギー線被膜層（Ｃ）を順次積層してなることを特徴とするパターン形成用積層体を提供するものである。 - 特許庁

The negative electrode active material contains Si and O wherein the atomic ratio x of O to Si is expressed as 0<x<2, and wherein B<3° (2θ) where B represents the half width of the diffraction peak of the (220) plane of Si in the X-ray diffraction pattern measured using CuKα radiation.例文帳に追加

ＳｉとＯとを含み、Ｓｉに対するＯの原子比ｘが０＜ｘ＜２で表され、ＣｕＫα線を用いたＸ線回折パターンにおいて、Ｓｉ（２２０）面回折ピークの半値幅をＢとするとき、Ｂ＜３°（２θ）である負極活物質を用いることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a retardation optical element including a negative C-plate (retardation layer) and an A-plate (retardation layer), which does not produce bright-dark pattern on a display image to thereby effectively suppress a degradation in display quality even when disposed between a liquid crystal cell and a polarizing plate.例文帳に追加

液晶セルと偏光板との間に配置した場合でも、表示画像に明暗模様を発生させることがなく、表示品位が低下してしまうことを効果的に抑制することができる、負のＣプレート（位相差層）とＡプレート（位相差層）とを含んでなる位相差光学素子を提供する。 - 特許庁