「negative pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

The negative resist layer 16A under the light shielding layer 18 is not exposed, but the layer 16A is exposed in accordance with the resist mask pattern for the region under the transmissive layer 17.例文帳に追加

すると、遮光層１８下のネガ型レジスト層１６Ａは露光されないが、それ以外の領域の透過層１７下のネガ型レジスト層１６Ａは露光マスクパターンに応じて露光される。 - 特許庁

Thereby, when a metal layer 40 such as remainder of a metal pattern exists under the positive-hole transport layer 32, the short circuit between the pixel electrode 25 and the negative electrode 33 is prevented.例文帳に追加

これにより、金属パターン残りなどの金属層４０が正孔輸送層３２の下に存在する場合にも、画素電極２５と陰極３３の間で短絡が発生するのが抑制される。 - 特許庁

Alternatively, the chemical amplified negative resist pattern formed on the surface of the amorphous carbon film is peeled off, by using an alkali solution which will not substantially etch amorphous carbon.例文帳に追加

または、アモルファスカーボン膜表面に形成された化学増幅型ネガレジストパターンを、アモルファスカーボンを実質的にエッチングしないアルカリ溶液を用いて該化学増幅型ネガレジストパターンを剥離する。 - 特許庁

To provide a negative-display mode liquid crystal display device that allows excellent visible recognition in a case where any display pattern is viewed from an oblique direction while an effect of a visual angle compensation is maintained.例文帳に追加

ネガ表示モードの液晶表示装置において、視角補償による効果を維持しながら任意の表示パターンを斜め方向から見た場合に良好な状態で視認させる。 - 特許庁

To provide a negative dye-containing curable composition having high sensitivity, ensuring no residue in an unexposed portion, capable of forming a rectangular fine pattern, and excellent in color fastness to heat and light.例文帳に追加

高感度で未露光部分に残査がなく、矩形な微細パターン形成が可能で熱堅牢性および光堅牢性に優れた染料含有ネガ型硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a negative photoresist composition with which good resolution is obtained in a pattern forming method in which an underlayer film is disposed on a substrate, a photoresist film comprising a negative photoresist composition is disposed on the underlayer film, and after selectively exposing the photoresist film, the underlayer film and the photoresist film are simultaneously developed.例文帳に追加

基板上に下層膜を設け、該下層膜上にネガ型ホトレジスト組成物からなるホトレジスト膜を設け、該ホトレジスト膜を選択的露光後、該下層膜と該ホトレジスト膜を同時に現像処理するパターン形成方法において、良好な解像性が得られるネガ型ホトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a negative type chemical amplification resist composition having high resolving power as well as particularly high sensitivity, capable of giving a pattern profile of superior rectangularity and excellent in PCD and PED stability and to provide a negative type chemical amplification resist composition excellent further in suitability to coating (intrasurface uniformity).例文帳に追加

特に高い感度とともに、高解像力、矩形状の優れたパターンプロファイルを与えることができ、またＰＣＤ、ＰＥＤ安定性に優れたネガ型化学増幅レジスト組成物、また更に塗布性（面内均一性）に優れたネガ型化学増幅レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

The template 5 is irradiated with light by emitting the light from a back surface side of the template 5 and the negative resist 3 and the photocurable resist 4 are developed in areas where they are not irradiated with the light to thereby transfer the uneven pattern of the template 5 to the negative resist 3 and the photocurable resist 4.例文帳に追加

前記テンプレート５の裏面から前記テンプレート５に光が照射され、光が照射されていない前記ネガ型レジスト３及び前記光硬化性レジスト４が現像され、前記テンプレート５の凹凸パターンが前記ネガ型レジスト３及び前記光硬化性レジスト４に転写される。 - 特許庁

This printer head comprises a common electrode (an electrode pattern 18B of a negative electrode) which is provided to a cover plate 17 consisting of a piezoelectric actuator and is commonly used by all of the ink chambers and individual electrodes (an electrode pattern 18A of a positive electrode) respectively provided on the cover plate 17.例文帳に追加

圧電アクチュエータからなるカバープレート１７に設けられすべてのインク室に共通に利用される共通電極（陰電極の電極パターン１８Ｂ）と、前記カバープレート１７に個別に設けられた個別電極（陽電極の電極パターン１８Ａ）とを備える。 - 特許庁

In a pattern drawing device 1, the pixel pattern of a liquid crystal display device is drawn in a drawing region by relatively moving an irradiation region by light from a first light irradiation unit 4 with respect to a substrate 9 having a negative photosensitive material formed on the main surface.例文帳に追加

パターン描画装置１では、ネガ型の感光材料が主面上に形成された基板９に対して、第１光照射部４からの光の照射領域を相対移動することにより、描画領域に液晶表示装置の画素パターンが描画される。 - 特許庁

To provide a negative type resist composition which is used to manufacture a circuit board of a semiconoductor element such as an IC, a liquid crystal display device, a thermal head, etc., and further for lithography processes of other photofabrication, and is not apt to have film reduction and pattern collapse, and a pattern forming method.例文帳に追加

ＩＣ等の半導体素子、液晶表示装置、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにはその他のフォトファブリケーションのリソグラフィ工程に用いられる、膜減りしにくく、パターン倒れしにくいネガ型レジスト組成物およびパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a chemically amplified negative resist material which satisfies high sensitivity, high resolution and aging stability required by lithography in which fine pattern formation is required, particularly electron beam lithography and has excellent process adaptability and a good pattern shape.例文帳に追加

微細なパターン形成が要求されるリソグラフィー、特に電子線リソグラフィーで求められる高感度、高解像度、経時安定性をより高いレベルで満たし、優れたプロセス適応性と良好なパターン形状を有する化学増幅型ネガ型レジスト材料を提供する。 - 特許庁

As the distribution pattern of the magnetic field component in the longitudinal wire direction suddenly reverses between positive and negative at the fault boundary and the pattern is sufficiently maintained even with a little movement of the magnetic sensor, the fault region of the wire can be exactly and easily found.例文帳に追加

その電線長手方向磁界成分の分布パターンが欠陥箇所を境にして正負に急峻に反転するパターンであり、このパターンは磁気センサが多少ぶれても充分に保持されることから、電線の欠陥箇所を正確に容易に見出し得る。 - 特許庁

To provide a negative resist composition having excellent resolution while maintaining high sensitivity specific to a chemically amplified resist in the process of forming a pattern by irradiation with active energy rays, and to provide a method for producing a relief pattern, and electronic components using the resist composition.例文帳に追加

活性エネルギー線の照射によるパターン形成において、化学増幅レジスト特有の高感度を維持しつつ解像力に優れるネガ型レジスト組成物、及び当該レジスト組成物を用いたレリーフパターンの製造方法、及び電子部品を提供する。 - 特許庁

To obtain an alkali negative development type photosensitive resin composition less liable to swell in alkali development and excellent in properties of a pattern, adhesiveness to a substrate, crosslinking efficiency, reactivity and compatibility after development, to produce a pattern by polyimide patterning by development with an inexpensive aqueous alkali solution and to provide electronic parts each having the pattern and excellent in reliability.例文帳に追加

本発明は、アルカリ現像時の膨潤が少なく現像後のパターン性、基盤接着性、架橋効率、反応性、相溶性に優れるアルカリネガ現像型感光性樹脂組成物、ポリイミドパターン加工を安価なアルカリ水溶液現像にて行えるパターンの製造法、前記パターンを有する信頼性に優れた電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition excellent in sensitivity and resolution, having a small light proximity effect, capable of accurately and stably forming a fine pattern even in an isolated line pattern, capable of ensuring a sufficient focus margin for the isolated line pattern and useful as a positive type or negative type chemical amplification type resist.例文帳に追加

感度および解像度に優れ、かつ光近接効果が小さく、孤立ラインパターンおいても微細パターンを高精度にかつ安定して形成することができ、しかも孤立ラインパターンに対して十分なフォーカス余裕度を確保しうる、ポジ型あるいはネガ型の化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a negative photosensitive resin composition which enables to form a pattern by irradiation with active energy rays, can form a protective film against etching, an interlayer dielectric and a surface protective film, and is excellent in sensitivity, resolution, pattern shape and alkali developability.例文帳に追加

活性エネルギー線の照射によりパターン形成が可能で、エッチングに対する保護膜、層間絶縁膜、表面保護膜を形成しうるネガ型感光性樹脂組成物であって、感度、解像性、パターン形状及びアルカリ現像性に優れるネガ型感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The bottom 62 is electrically connected to a first conductive pattern 51A in a printed circuit board 50 by a conductive adhesive 71 that is a silver-epoxy-based adhesive, and negative electrode sections 12-42 are also electrically connected to a second conductive pattern 52A by the conductive adhesive 71.例文帳に追加

底部６２は、銀−エポキシ系接着剤たる導電性接着剤７１によってプリント基板５０の第１の導電パターン５１Ａに電気的に接続されており、陰極部１２〜４２も導電性接着剤７１によって第２の導電パターン５２Ａに電気的に接続されている。 - 特許庁

Thereafter, the photosensitive resist 6 on the wiring pattern 2 and in the through hole 5 exposed simultaneously through irradiation of UV- rays at the time of curing the negative photosensitive resist 11 is developed and removed and a protective plating layer is formed on the wiring pattern 2 and the through hole 5 using the photosensitive resist 11 as a mask.例文帳に追加

続いてネガ型の感光性レジスト１１硬化の際に同時に紫外線照射で露光された配線パターン２上およびスルーホール５の感光性レジスト６を現像除去した後、感光性レジスト１１をマスクに配線パターン２上およびスルーホール５に保護めっき層を形成する。 - 特許庁

To provide a heat-resistant negative photosensitive resin composition also having good sensitivity and resolution, a pattern forming method using the composition in which the composition is developable with an alkaline aqueous solution and excels in sensitivity, resolution and heat resistance and by which a pattern of a good shape is obtained, and to provide high-reliability electronic components.例文帳に追加

感度や解像度も良好な耐熱性ネガ型感光性樹脂組成物、これを用いたアルカリ水溶液で現像可能で、感度、解像度及び耐熱性に優れ、良好な形状のパターンが得られるパターン形成方法、及び信頼性の高い電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition for negative development excellent in line width variation (LWR), exposure latitude (EL) and focal depth allowance (DOF) in order to stably form a high accuracy fine pattern for the manufacture of a highly integrated and high accuracy electronic device, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、線幅バラツキ(LWR)、露光ラチチュード(EL)及びフォーカス余裕度(DOF)に優れるネガ型現像用レジスト組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition for negative-tone development, of which variation of line width (LWR), exposure latitude (EL), and degree of focal margin (DOF) are excellent, in order to more stably form a highly precise fine pattern for manufacturing a highly integrated and highly precise electronic device, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、線幅バラツキ(LWR)、露光ラチチュード(EL)及びフォーカス余裕度(DOF)に優れるネガ型現像用レジスト組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming technique capable of efficiently forming a high resolution pattern for use in microfabrication using a radiation sensitive composition as a photoresist which can be developed with an aqueous alkali solution, has high sensitivity characteristics and is reversed from negative type to positive type in accordance with dose.例文帳に追加

アルカリ水溶液によって現像可能であり、高感度な特性を有し、照射量によってネガ型からポジ型に反転する感放射線組成物をホトレジストに用いて、微細加工に用いる高解像度なパターンを効率よく形成することのできるパターン形成技術を提供する。 - 特許庁

Empty printing is accomplished by the following method; carve a pattern on a convex printing block and carve the negative image on a concave printing block, place a ground paper on the concave wood block, place the convex wood block over it and apply pressure, this produces a pattern that stands out, and this is the same technique used to emboss images on paper today. 例文帳に追加

空摺りは、同じ画の版木を陽刻の凸状のものと、陰刻の凹状の二版に彫り分け、陰刻の版木の上に地紙を乗せて、上から陽刻の版木を重ねて圧をかけると、凸状の形が浮き出る技法で、今日のエンボスと同様な形押しの技である。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

To provide a negative type radiation sensitive resin composition developable with an alkali developing solution having a normal concentration, capable of forming a resist pattern having high resolution and a rectangular cross-sectional shape as an ordinary line-and-space pattern and excellent also in sensitivity, developability, dimensional faithfulness, etc.例文帳に追加

通常濃度のアルカリ現像液を適用でき、かつ通常のライン・アンド・スペースパターンにおいて、高解像度で断面形状が矩形であるレジストパターンを形成することができ、感度、現像性、寸法忠実度等にも優れるネガ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

Since evaporation can be performed substantially from right above the rib 9 without using the oblique evaporation from the lateral side of ribs 9, flexibility can be increased in the disposition of the ribs 9 or in a pattern of the negative electrodes 6.例文帳に追加

また、リブ９の側方からの斜め蒸着を用いずにリブ９の略真上方向からの蒸着が可能なため、リブ９の配置即ち陰極６のパターンに自由度を増すことができる。 - 特許庁

To provide a dye-containing negative curable composition having high sensitivity, capable of forming a rectangular pattern and ensuring less residue in an unexposed portion, and provide a color filter using the curable composition, and a method for producing the color filter.例文帳に追加

高感度で、且つ、矩形なパターン形成が可能であり、未露光部の残渣が少ない染料含有ネガ型硬化性組成物、並びに、これを用いたカラーフィルタおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

The p-type electrode has the structure in which a rubber negative resist pattern 15 arrayed in a dot state is embedded between a Cr/Au/Pt laminate film 13 and a Ti/Au/Pt laminate film 14.例文帳に追加

ｐ型電極はＣｒ／Ａｕ／Ｐｔ積層膜１３とＴｉ／Ａｕ／Ｐｔ積層膜１４との間にドット状に配列されたゴム系のネガレジストパターン１５が埋め込まれた構造を有している。 - 特許庁

Printing of the negative image pattern 74 is performed, either when the printed information 72 is printed by using the decolorizable toner, or prior to decolorizing when the printed information 72 being decolorized.例文帳に追加

この陰画パターン７４の印字は消色性トナーにより印字情報７２を印字するときに印字する、又は印字情報７２を消色する際にその消色に先立って印字する、のいずれでもよい。 - 特許庁

To provide a dissolution inhibitor having a specific structure for improving sensitivity of negative radiation sensitive compositions, a radiation sensitive composition containing the same, and a method of forming a resist pattern using the composition.例文帳に追加

ネガ型感放射線性組成物の感度を向上させる、特定構造を有する溶解抑止剤、これを含む感放射線性組成物、および該組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The angular pattern of a diffraction grating having different diffraction efficiencies of positive side diffracted light and negative side diffracted light of the same order is transferred to the top of a wafer to form a transferred image TP1W on the wafer.例文帳に追加

まず、同一次数の正側の回折光と負側の回折光との回折効率が異なる回折格子の山形のパターンをウエハに転写し、ウエハ上に転写像ＴＰ１Ｗを形成する。 - 特許庁

After calculating the chain resistance R by two terminal resistance measuring process, the current wave form is observed by chain pattern while scanning a laser beams for calculating the defect numbers x by the positive-negative frequency of the current wave form.例文帳に追加

２端子抵抗測定法でチェーン抵抗Ｒを求めた後、レーザービームを走査しながらチェーンパターンでの電流波形を観測し、電流波形が正負に変化した回数から欠陥数ｘを求める。 - 特許庁

A resist mask is prepared by applying a negative resist having light shielding property against exposure light on a mask substrate and then selectively irradiating the resist with electron beams to form a desired light shielding pattern (process 100).例文帳に追加

露光光に対して遮光性を有するネガレジストをマスク基板上に塗布した後、これに電子線を選択的に照射して所望の遮光パターンを形成したレジストマスクを用意する（工程１００）。 - 特許庁

Using a second photo mask provided with a pattern of a nozzle 122, a site for providing the upper wall of the channel forming wall member 120a of the negative photoresist 120 is exposed for hardening by a predetermined thickness.例文帳に追加

次に，ノズル１２２のパターンが設けられた第２フォトマスクを用いて，ネガティブフォトレジスト１２０のうちの流路形成壁体１２０ａの上部壁をなす部位を露光して所定厚さだけ硬化させる。 - 特許庁

To provide a negative type electron beam or X-ray resist composition having high sensitivity and high resolving power, capable of giving pattern profile with superior rectangularity and excellent in PCD and PED stability.例文帳に追加

高感度、高解像力を有し、矩形状の優れたパターンプロファイルを与えることができしかもＰＣＤ、ＰＥＤ安定性に優れたネガ型電子線又はＸ線レジスト組成物を提供することにある。 - 特許庁

In addition, in this index system, a locking bar is extended so as to cross the table and this locking bar has at both edges a negative pattern recess to be engaged in a locking condition with opposing twin projections on the side edge of the table.例文帳に追加

テーブルを横断するようにロックバーが延びており、このロックバーはテーブルのサイドエッジ上の対向する対の突起に係止状態で係合するための雌型リセスを両端部に有する。 - 特許庁

A photocurable resist 4 is formed on the negative resist 3 and a main surface side of a template 5, which has an uneven pattern whose convex part is partially provided with a light shield part, is pressurized toward the photocurable resist 4.例文帳に追加

前記ネガ型レジスト３上に光硬化性レジスト４が形成され、前記光硬化性レジスト４に、凸部の一部に遮光部が設けられた凹凸パターンを有するテンプレート５の主面側が加圧される。 - 特許庁

A carbonaceous material on a substrate is formed in a pattern of the negative electrode shape, and afterwards, the unevennesses and projections of the formed carbonaceous material are crushed by a push treatment of a roll and a press treatment.例文帳に追加

基板上にカーボン系材料を陰極形状のパターンに形成し、その後形成したカーボン系材料表面の凹凸および突起をロールの押し付け処理やプレス処理によって押し潰す。 - 特許庁

In the case that the judged result is negative, that is, the storage value of the number of starting held balls is four, a variable pattern parting table 5 corresponding to the case of the storage value being four is selected (step S18).例文帳に追加

そして、その判定結果が否定、即ち、始動保留球数の記憶値が４である場合、前記記憶値が４の時に対応する変動パターン振分テーブル５を選択する（ステップＳ１８）。 - 特許庁

To provide a negative photosensitive polyimide resin composition which enables processing of a fine pattern, which forms a film whose coefficient of linear expansion is close to that of a substrate, and which does not require imidization at high temperature.例文帳に追加

微細パターンの加工ができ、得られた被膜の耐熱性と基材との線膨張係数が近接し、かつ高温でのイミド化を必要としない、ネガ型感光性ポリイミド組成物を提供する。 - 特許庁

NEGATIVE RESIST COMPOSITION USED IN PROCESS WHERE EXPOSURE IS PERFORMED USING AT LEAST TWO KINDS OF EXPOSURE LIGHT SOURCES SELECTED FROM G-LINE, I-LINE, KrF EXCIMER LASER, AND ELECTRON BEAM, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ｇ線、ｉ線、ＫｒＦエキシマレーザーおよび電子線から選ばれる少なくとも２種の露光光源を用いて露光する工程に用いられるネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

Data verification, artificial intelligence pattern matching of extremely high predictability, network data integration and a negative file check are used for testing an extremely large number of factors for calculating the unfair transaction risk.例文帳に追加

データ検証、極めて予測性の高い人工知能パターンマッチング、ネットワークデータ総合及びネガティブファイルチェックが、不正取引リスクを計算するための極めて多数の要因を試験するために用いられる。 - 特許庁

To provide a method of forming a pattern of a semiconductor device in which a smaller photomask pattern stage can be achieved by performing an etching stage for photomask patterns using photosensitive film patterns as an etch-stop layer after forming the photosensitive film patterns between the photomask patterns by using a self-alignment system using negative photoresist and then performing a heat treatment stage for expanding the photoresist film patterns.例文帳に追加

本発明は、ネガ型フォトレジスト(Negative Type Photo Resist)を用いた自己整列方式を利用してフォトマスクパターンの間に感光膜パターンを形成し、感光膜パターンを拡大するための熱処理工程を行った後、感光膜パターンをエッチング防止膜として用いてフォトマスクパターンに対してエッチング工程を行うことにより、さらに微細なフォトマスクパターン工程が可能な半導体素子のパターン形成方法を提供するものである。 - 特許庁

The photo development equipment includes a developing solution supplier for supplying a negative development solution; and a first photo apparatus to form a positive photoresist pattern, by using a positive photoresist containing a novolac resin as a base and containing an acrylic resin with the above negative development solution, wherein the photoresist pattern is necessary for forming a black matrix by patterning a light-shielding metal layer formed on a substrate.例文帳に追加

本発明によるフォト装備は、ネガティブ現像液を供給する現像液供給部と、基板上に形成された光遮断金属層をパターニングして、ブラックマトリクスを形成する際に必要であるポジティブフォトレジストパターンを、ノボラック系の樹脂を基本として、アクリル系の樹脂を含むポジティブフォトレジストと前記ネガティブ現像液とを利用して形成する第１フォト装備を含むことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a negative photosensitive resin composition hardly generating a scum, having excellent pattern resolution, and excellent in adhesiveness to an opposed substrate, in a functional element bonded with the two opposedly-arranged substrates via a structure obtained from the negative photosensitive resin composition.例文帳に追加

対向配置される２つの基板をネガ型感光性樹脂組成物から得られた構造体を介して接着させた機能素子において、残渣やスカムが発生しにくく、優れたパタ−ン解像性を有し、且つ対向基板との接着性にも優れたネガ型感光性樹脂組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁