「oxidization method」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a superconducting multilayer structure, and a manufacturing method and equipment thereof, that have an oxidization prevention film composed of a dielectric formed with damages suppressed, and are used for a receiver for a T Hz band and an oscillator.例文帳に追加

ダメージを抑制して形成された誘電体から成る酸化防止膜を備え、ＴＨｚ帯の受信器や発振器に利用できる超伝導多層構造体と、その製造方法及び製造装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a reliable semiconductor device and its manufacturing method, a manufacturing device, a circuit board, and electronic equipment by suppressing oxidization caused by the heat of a lead frame for increasing an adhesion property with resin.例文帳に追加

リードフレームの熱による酸化を抑えて樹脂との密着性を高めることによって、信頼性の高い半導体装置及びその製造方法、製造装置、回路基板並びに電子機器を提供することにある。 - 特許庁

Rapid thermally oxidization is performed in a rapid heating method, and as preferred conditions, a lamp annealing device be used, oxidation temperature in dry oxygen be 800°C to 900°C, and oxidation time be 30 to 120 minutes.例文帳に追加

急速熱酸化は急速加熱法により行い、条件としては、ランプアニール装置を使用し、乾燥酸素中で酸化温度を８００℃ないし９００℃、酸化時間を３０分ないし１２０分とすることが望ましい。 - 特許庁

As a result, in this method for manufacturing an epitaxial wafer having embedded ion injection layers 71' and 72', the saving of the pre-injection oxidization treatment and ion injection using only a photo-resist film as a mask 64 are enabled.例文帳に追加

その結果、埋込イオン注入層７１’，７２’を有するエピタキシャルウェーハの製造方法において、注入前酸化処理の省略、ひいてはフォトレジスト膜のみをマスク６４として用いたイオン注入が実現される。 - 特許庁

When forming the nonlinear element (for example TFD 13) on the flexible plastic substrate 10, first a wiring film 141 for energization for anode oxidization is formed in a line on the plastic substrate 10 by using a mask sputtering method and a droplet discharge method.例文帳に追加

可撓性を有するプラスチック基板１０上に非線形素子（例えばＴＦＤ１３）を形成する場合に、まず、係るプラスチック基板１０の上に、マスクスパッタ法や液滴吐出法を用いて、陽極酸化のための通電用の配線膜１４１をライン状に形成する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method and a manufacturing apparatus of a semiconductor device capable of suppressing oxidization by controlling the dissolution of a metal film when carrying out medical fluid cleaning of the surface of the semiconductor substrate where the metal film to be prepared as metallic wiring is exposed.例文帳に追加

金属配線となる金属膜が露出した半導体基板の表面を薬液洗浄する際の金属膜の溶出を制御し、酸化を抑制できる半導体装置の製造方法および製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide copper fine particles which are hard to receive the influence of a scale factor, and in which particle diameters are balanced in spite of the fineness thereof, and which are hard to receive the influence of oxidization even if being exposed to an ordinary temperature environment, and to provide a method for forming the particles.例文帳に追加

スケールファクターの影響を受けにくく、粒子径が小さくとも均整であり、かつ常温環境下に曝しても酸化の影響を受けにくい、銅微粒子およびその粒子を形成するための方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a ferroelectric memory device in which deterioration in characteristics of a ferroelectric capacitor due to oxidization of a plug can prevented, and etching damage of the ferroelectric capacitor can be prevented in machining an oxygen barrier film, and to provide a manufacturing method thereof.例文帳に追加

プラグの酸化による強誘電体キャパシタの特性低下が防止され、しかも酸素バリア膜の加工時における強誘電体キャパシタのエッチングダメージも抑えられた、強誘電体メモリ装置とその製造方法を提供する。 - 特許庁

The magnetic powder is obtained by coating the surface of a transition metal oxide particle containing rare-earth elements with an alkali earth metal hydroxide layer, heating it, performing vapor phase reduction and slow oxidization, and further executing a reduction diffusion method.例文帳に追加

この磁性粉末は、希土類元素含有遷移金属酸化物粒子の表面を、アルカリ土類金属水酸化物層で被覆し、これを加熱し、気相還元および徐酸化した後、さらに還元拡散法を施すことにより得られる。 - 特許庁

To provide a fuel cell separator and a method for manufacturing the fuel cell separator which can control oxidization of impurities, such as, TiCx or TiNx during power generation and suppress increase in the contact resistance.例文帳に追加

本発明の目的は、発電時におけるＴｉＣｘ、ＴｉＮｘ等の不純物の酸化を抑制し、接触抵抗の上昇を抑える燃料電池用セパレータ及び燃料電池用セパレータの製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a rare earth based sintered magnet having sufficient corrosion resistance given by oxidation heat treatment even under the environment where humidity fluctuates, and preventing magnetic characteristics from being deteriorated by oxidization heat treatment.例文帳に追加

湿度が変動する環境においても十分な耐食性が酸化熱処理によって付与されているとともに、酸化熱処理による磁気特性の低下が抑制された希土類系焼結磁石の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a fuel supply control device and fuel supply control method, which prevents biofuel deterioration due to oxidization when supplying fuel containing the biofuel to an internal combustion engine.例文帳に追加

本発明は、バイオ燃料を含む燃料を内燃機関に供給する場合に、バイオ燃料の酸化劣化を防止することが可能な燃料供給制御装置および燃料供給制御方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an evaluation method of cobalthydroxide coated nickel hydroxide powder as an alkaline secondary battery positive electrode active material, and to provide coated nickelhydroxide powder that has excellent preservation property, oxidization resistance and a superior battery property and its manufacturing method.例文帳に追加

アルカリ二次電池用の正極活物質である水酸化コバルト被覆水酸化ニッケル粉末として、その評価方法を提供すると共に、保存性に優れていて酸化され難く、優れた電池特性が得られる被覆水酸化ニッケル粉末及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

(2) Alternatively, the method in which iron powder is coated with an iron oxide film and the surface of the iron powder coated with the iron oxide film is coated with a zinc oxide film and then the powder is treated with diffusion or oxidization/diffusion is provided.例文帳に追加

（２）鉄粉末の表面に鉄酸化膜を形成して鉄酸化膜被覆鉄粉末を作製し、この鉄酸化膜被覆鉄粉末の鉄酸化膜の表面に亜鉛酸化膜を形成し、その後さらにこれを拡散または酸化・拡散処理する方法。 - 特許庁

To provide a method for inspecting an object layer to be inspected that easily judges the pass/fail of the object formed by the oxidization of a positive electrode, and a device for inspecting the same that easily judges the pass/fail of the object.例文帳に追加

陽極酸化により形成された検査対象層の良否判定を簡単に行う検査対象層の検査方法および陽極酸化により形成された検査対象層の良否判定が容易な検査対象層の検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a polyimide excellent in solubility and adhesion, and to provide a method for preparing the polyimide by performing direct imidization reaction of a phenylenediamine derivative and/or a salt thereof and an acid anhydride while suppressing oxidization of the phenylenediamine derivative and/or the salt thereof.例文帳に追加

溶解性および接着性に優れたポリイミドを提供すること、さらにはフェニレンジアミン誘導体および／またはその塩の酸化を抑制しながら、これと酸無水物とを直接イミド化反応させるポリイミドの製造方法を提供すること。 - 特許庁

The aluminum nitride compact is made by using aluminum nitride powder treated for oxidization in the air at 500-700°C for 6 h or less as a raw material, where aluminum nitride synthesized by a direct nitriding method is used.例文帳に追加

空気中にて、温度５００〜７００℃、処理時間６時間以内の条件で酸化処理が施された窒化アルミニウム粉末を原料とする窒化アルミニウム焼結体であり、窒化アルミニウムが直接窒化法により合成された前記窒化アルミニウム焼結体である。 - 特許庁

After a dielectric isolation oxide film 14 is formed with the oxidization heat treatment on the surface of a silicon wafer 10 having the dielectric isolation groove, a seed polysilicon layer 15 is grown on this film 14 by the 130 Pa, low pressure and low temperature CVD method at about 600°C.例文帳に追加

誘電体分離溝１３を有するシリコンウェーハ１０表面に、酸化熱処理で誘電体分離酸化膜１４を形成後、この膜１４上に１３０Ｐａ、約６００℃の減圧・低温ＣＶＤ法で種ポリシリコン層１５を成長させる。 - 特許庁

To provide a forming apparatus and a method of forming an amorphous alloy in which occurrence of poor quality resulting from oxidization or contamination is prevented and also occurrence of poor quality resulting from an error of mass distribution of metal materials is prevented.例文帳に追加

酸化やコンタミネーションに起因する品質不良発生を防止するとともに、金属材料の質量配分の誤差に起因する品質不良発生を防止することが可能な成形装置及び非晶質合金の成形方法を提供する。 - 特許庁

To provide a catalyst that exerts a high methane decomposition capacity even at a low temperature and a method for oxidizing and removing methane in an exhaust gas using the catalyst in the oxidization and removal of methane in a combustion exhaust gas containing methane, sulfur oxide, and excessive oxygen.例文帳に追加

メタン、硫黄酸化物および過剰の酸素を含む燃焼排ガス中のメタンの酸化除去において、低い温度でも高いメタン分解能を発揮する触媒、ならびに、この触媒を用いた排ガス中のメタンの酸化除去方法を提供する。 - 特許庁

In the inflammatory disease detection method, an antigen that is generated by the oxidization of phospholipid is used to measure oxidation lipoprotein contained in an organism sample.例文帳に追加

リン脂質の酸化により生成する抗原を認識する抗体を用いて、炎症性疾患が疑われる患者または炎症性疾患モデル動物から得た生体試料に含まれる酸化リポタンパク質を測定することよりなる炎症性疾患検出方法である。 - 特許庁

The method for producing a cycloalkanol and/or a cycloalkanone comprises the oxidization of a cycloalkane with oxygen at 25-140°C, in the presence of a mesoporous silica containing the Group 8 and/or 9 element in the periodic table, wherein the content of phosphorus atom in the mesoporous silica is 0-4 mol% based on silicon atom.例文帳に追加

周期表８族及び／又は９族の元素を含有し、リン原子の含有量がケイ素原子に対し０〜４モル％であるメソポーラスシリカの存在下、２５〜１４０℃で、シクロアルカンを酸素で酸化することによりシクロアルカノール及び／又はシクロアルカノンを製造する。 - 特許庁

To provide a semiconductor laser device which includes an active layer made of semiconductor and is given by a large influence on its laser characteristic associated with oxidization, and can establish a gain-coupled DFB structure without processing an active layer, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

酸化によるレーザ特性への影響が大きい半導体を活性層とする半導体レーザ素子において、活性層を加工することなく利得結合型ＤＦＢ構造を得ることができる半導体レーザ素子及びその作製方法を提供する。 - 特許庁

The method for producing an α,β-unsaturated carboxylic acid comprises the liquid-phase oxidization of an alcohol, an olefin or an α,β-unsaturated aldehyde with molecular oxygen in the presence of a catalyst containing palladium and tellurium and in the presence of a molybdenum compound in the reaction system.例文帳に追加

パラジウムおよびテルルを含有する触媒の存在下、アルコール、オレフィンまたはα，β−不飽和アルデヒドを分子状酸素により液相酸化してα，β−不飽和カルボン酸を製造する方法であって、反応系中にモリブデン化合物を存在させる。 - 特許庁

This method for manufacturing this SOI substrate comprises a process to prepare a substrate, having a non-porous semiconductor layer 3 on a porous material 2; and a process to operate oxidization treatment to the substrate for oxidizing at least a portion of the porous material 2, and for changing it into an embedded oxide film 3.例文帳に追加

本発明のＳＯＩ基板の製造方法は、多孔質体２の上に非多孔質半導体層３を有する基板を準備する工程と、該基板に酸化処理を施すことにより、多孔質体２の少なくとも一部を酸化させて埋め込み酸化膜３に変化させる工程とを含む。 - 特許庁

The method for producing the cellulose fiber includes: an oxidization step of oxidizing cellulose by reacting cellulose with an N-oxyl compound and a co-oxidizer in water; and acid treatment step of treating the obtained oxidized cellulose with an acid.例文帳に追加

本発明のセルロース繊維の製造方法は、セルロースを、水中においてＮ−オキシル化合物と、共酸化剤とを作用させることにより前記セルロースを酸化する酸化工程と、酸化して得られた酸化セルロースを酸で処理する酸処理工程と、を有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a combustion control method and device for properly preventing oxidization of a heated matter caused by explosion caused by excessive generation of unburned gas, and an excess oxygen component, in a furnace provided with a tubular flame burner forming the tubular flame in a tubular combustion chamber.例文帳に追加

管状の燃焼室内に管状の火炎を形成させる管状火炎バーナを設置した炉において、未燃ガスの過剰発生による爆発や過剰酸素分による被加熱物の酸化を適切に防止することができる燃焼制御方法及び燃焼制御装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for retaining freshness of fresh food, which includes reliable peeling and removing of stuck contaminated substance to exert sterilization effect so as to secure the safety of a cut fresh food product and to suppress oxidization to keep the freshness and deliciousness of the fresh food product for a long period of time when producing the cut fresh food product.例文帳に追加

生鮮食品のカット製品の製造に際し、付着している汚染物質を確実に剥離、除去して殺菌効果を発現して当該製品の安全性を確保し、酸化を抑制して鮮度と旨みの長期保持を可能にする方法を提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus and method for producing a thin film, which is excellent in productivity, and can subject a surface of a substrate to oxidization treatment and also can form a thin-film on the surface thereof, continuously and stably in a single vacuum container without providing a differential pressure structure, while conveying a belt-like substrate.例文帳に追加

帯状の基板を搬送しつつ連続的に基板表面の酸化処理と薄膜形成を行なうにあたって、差圧構造を設けることなく、単一の真空容器内で両処理を安定して実施できる生産性に優れた薄膜製造装置及び薄膜製造方法を提供する。 - 特許庁

In the method for purifying the chlorinated volatile organic compound, an organic compound is decomposed and removed by oxidization by allowing a semiconductor that is heated under 350°C to contact with gas containing the chlorinated volatile organic compound in a thermally-excited state with oxygen.例文帳に追加

塩素系揮発性有機化合物を含有する気体に、酸素の存在下、３５０℃未満に加熱された半導体を熱励起状態として接触させることによって前記有機化合物を酸化分解除去することを特徴とする塩素系揮発性有機化合物の浄化方法。 - 特許庁

To provide a substrate processing device by which throughput of substrate processing is enhanced by performing oxidation treatment with plasma-activated radical, in the substrate processing device in which adsorption and oxidization for a molecular layer are alternately repeated, and to provide a substrate processing method using the substrate processing device.例文帳に追加

分子層の吸着および酸化を交互に繰り返す基板処理装置において、前記酸化処理をプラズマ励起されたラジカルにより行うことにより、基板処理のスループットを向上させることができる基板処理装置、およびかかる基板処理装置を使った基板処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing 2-(4-methyl-3-pentenyl)- anthraquinone (IHEAQ) having improved purity in improved space-time yield while preventing the problems of prior arts by the Diels-Alder addition comprising the reaction of naphtho-1,4-quinone with myrcene and the oxidization of the obtained addition product.例文帳に追加

ナフト−１，４−キノンをミルセンと反応させるディールス−アルダー付加及び得られた付加物の酸化からなり、先行技術の欠点を有さず、より高い空時収量及びより高い生成物純度を有する２−（４−メチル−３−ペンテニル）−アントラキノン（ＩＨＥＡＱ）の製造法。 - 特許庁

To provide a method for regenerating a catalyst deteriorated in plant operations concerning a molybdenum-bismuth-iron system composite oxide catalyst used for gas phase catalytic oxidization for manufacturing acrolein and/or acrylic acid from propylene and methacrolein and/or methacrylic acid from isobutene or tert-butanol.例文帳に追加

プロピレンからアクロレイン及びもしくはアクリル酸を、イソブテンまたはターシャリーブタノールからメタクロレイン及びもしくはメタクリル酸を製造する気相接触酸化反応に使用されるモリブデンービスマス−鉄系複合酸化物触媒について、プラント運転で使用した後の劣化触媒の再生方法を提供する。 - 特許庁

The method for improving the high-temperature oxidization resistance of the Ti-Al-based alloy comprises placing the member made of the Ti-Al-based alloy having the complicated shape in ion-containing plasma; and implanting ions of at least one metal selected from among IV, Va and VIa groups in the periodic table of elements, into the member with a plasma base ion-implanting method.例文帳に追加

Ｔｉ−Ａｌ系合金からなる複雑形状を有する部材をイオン含有プラズマ中において、元素周期律表のＩＶ，ＶａおよびＶＩａ族のうちから選ばれる少なくとも１種の金属イオンをプラズマベースイオン注入法により注入することでＴｉ−Ａｌ系合金の耐高温酸化を向上させる。 - 特許庁

The method comprises a lens element forming process of forming an oxidization layer 104 on a supporting layer 102 and forming the lens element 120 on the top face of a silicone oxide, a coating process of coating the side face of the lens element with soldering metal, and a process of removing the silicon oxide and isolating the lens element.例文帳に追加

支持層１０２上に酸化層１０４を形成し，シリコン酸化膜の上面にレンズ素子１２０を形成するレンズ素子形成工程と，レンズ素子の側面にはんだ接続用金属のコーティングを施すコーティング工程と，シリコン酸化膜を除去してレンズ素子を単離する単離工程とを含む。 - 特許庁

To provide a method for producing a spinel ferrite thin film with (100) preferred orientation while suppressing oxidization of a metal electrode layer in a lower part of a spinel ferrite thin film and thermal diffusion at a lower part interface and eliminating contamination due to atmospheric components at an upper part interface, in a spin filter effect element including a spinel ferrite thin film arranged in a laminated structure.例文帳に追加

積層構造の中にスピネルフェライト薄膜を配置したスピンフィルタ効果素子において、スピネルフェライト薄膜下部の金属電極層の酸化および下部界面の熱拡散を抑制し、上部界面の大気成分による汚染を排除しつつ、（１００）優先配向したスピネルフェライト薄膜を製造する方法を提供する。 - 特許庁

In the case that header tanks are connected by brazing through a Nocolok brazing method, a clearance δ between both header tanks 113, 114 and between both header tanks 123, 124 where a protuberance 141 is arranged is set to be 1 mm or more, and then magnesium for preventing an oxidization film of brazing material from being broken is added to a protuberance 141.例文帳に追加

ノコロックろう付け法にてろう付け接合した場合には、突起部１４１が設けられている部位における、両ヘッダタンク１１３、１１４、１２３、１２４間の隙間δが１ｍｍ以上とするとともに、突起部１４１にろう材の酸化皮膜が破壊されることを防止するマグネシウムを添加する。 - 特許庁

To provide a reflective photomask that eliminates the need to use an expensive rare material by using a Ti oxide, a Zr alloy, a Zr oxide, or a Zr nitride as a material for a surface coating film while reducing effects caused by changes in material properties by oxidization, and a semiconductor device manufacturing method.例文帳に追加

表面被覆膜の材料として、Ｔｉの酸化物やＺｒ合金や酸化物、窒化物を用いることによって高価格な希少材料を使用することなく、なおかつ酸化による材料の性質変化の影響を軽減することができる反射型フォトマスク及び半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

The method for forming the PZT piezoelectric membrane on the diamond membrane is provided with processes to form the PZT piezoelectric membrane by a sputtering method at temperatures at which the diamond membrane is not eliminated by oxidization and which the composition of the PZT piezoelectric membrane is not altered and then to perform annealing treatments at temporaries at which phase-transition into a perovskite structure in a non-oxygen environment occurs.例文帳に追加

ダイヤモンド薄膜上にＰＺＴ圧電薄膜を形成する方法であって、ダイヤモンド薄膜が酸化により消失せず且つＰＺＴ圧電薄膜の組成が変化しないような温度でスパッタリング法によりＰＺＴ圧電薄膜を成膜した後、非酸素雰囲気中でペロブスカイト構造に相転移するような温度でアニール処理する工程を備えていることを特徴とする方法。 - 特許庁

To provide a polyester resin composition which has excellent color tone and thermal stability, is excellent in transparency of a molding, contains little foreign matter, and has thermal oxidization stability, and which hardly causes foaming during polymerization, has a Tcc equivalent to that obtained when a Ge-catalyst is used and is excellent in solid phase polymerization activity, and to provide a method for producing the same.例文帳に追加

色調や熱安定性に優れ、成形品の透明性に優れ、異物が少なく熱酸化安定性に優れ、重合時の発泡が少なく、Ｇｅ触媒を使用した時と同等のＴｃｃを有し、固相重合活性に優れるポリエステル樹脂組成物並びにポリエステル樹脂組成物の製造方法を提供すること。 - 特許庁

The luminescent element is provided with a substrate, a transparent electrode, one or more organic compound layers including a luminescent layer and a back electrode, of which, the luminescent layer is an element containing a phosphorescent compound, and at least one of the organic compound layers is one filmed by a wet-process film-forming method with the use of coating liquid after oxidization treatment.例文帳に追加

本発明の発光素子は基材、透明電極、発光層を含む一層以上の有機化合物層及び背面電極を有し、該発光層が燐光発光性化合物を含有する素子であって、有機化合物層の少なくとも一層が、脱酸素処理した塗布液を用いた湿式製膜法により製膜した層であることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device, with which a seam part is prevented from being exposed outward by extinguishing the seam part formed in silicon by heat treatment, residue is prevented from being left after a silicon film is etched back, etching can sufficiently be performed and oxidization of the silicon film is prevented at the time of oxidizing the silicon film.例文帳に追加

シリコン内に形成されたシーム部を熱処理により消滅させることにより、シーム部が外部に露出することを防止して、シリコン膜をエッチバックした後に残渣が残ることを防止することができ、また、エッチングを良好に行うことができると共に、シリコン膜上を酸化する際にシリコン膜内も酸化されることを防止することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing a photocatalyst element where a thin film of tungsten oxide is formed on a substrate includes a plating processing step that forms a thin film of tungsten on the surface of the substrate by a molten salt plating process, and an oxidization processing step that forms a thin film of tungsten oxide by oxidizing a thin film of tungsten.例文帳に追加

基板上にタングステン酸化物の薄膜が形成された光触媒素子の製造方法であって、溶融塩めっき法により、基板の表面にタングステンの薄膜を形成させるめっき処理工程と、タングステンの薄膜を酸化することにより、タングステン酸化物の薄膜を基板上に形成させる酸化処理工程とを有している光触媒素子の製造方法。 - 特許庁

After the surface of the sample for microscope observation, cut out from a substrate sample, is processed by FIB, the vicinity of the surface of the sample is scanned with a probe 4 of a probe microscope and ground by a mechanical method, electrochemical reaction, or an optical technique, such as oxidization or annealing, to conduct processing of removing ionic elements implanted by ion irradiation.例文帳に追加

基板サンプルより切り出された顕微鏡観察用試料の表面をＦＩＢによって加工処理した後、試料の表面近傍をプローブ顕微鏡探針４を走査して機械的方法、電気化学的反応、あるいは酸化、アニーリングといった光学的手法によって研磨することによりイオン照射によって打ち込まれたイオン元素を除去する加工を行うものである。 - 特許庁

To provide a drink product, such as a coffee drink product, to which aroma extract comprising aroma components is added, wherein the aroma extract added is prevented from causing oxidization or heat deterioration in a production process of the coffee drink product, and free from generation of unevenness in aroma property in every product, to provide a method and a system for producing the product.例文帳に追加

コーヒー飲料製品などの香気成分のアロマエキスが添加される飲料製品において、添加されたアロマエキスが、コーヒー飲料製品の製造過程においてなるべく酸化劣化や熱劣化が生じないようにするとともに、製品ごとに香気性の格差が生じないアロマエキスが添加された飲料製品並びにこの製造方法及び製造システムを提供する。 - 特許庁