「pattern composition」に関連した英語例文の一覧と使い方(95ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a photosensitive resin composition excellent in sensitivity in exposure and resolution of a resist pattern after development, less liable to scum in a developing step, having good plating resistance and useful as alkali-developable DFR (dry film resist) for manufacturing substrates for a printed wiring board, for a lead frame and for a semiconductor package.例文帳に追加

露光時の感度及び現像後のレジストパターンの解像性に優れるとともに、現像工程におけるスカムの発生が少なく、耐めっき性が良好で、アルカリ現像型プリント回路板用、リ−ドフレ−ム用及び半導体パッケ−ジ用の基板作製用ＤＦＲとして有用な感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a negative radiation-sensitive resin composition which can suppress indentation of a resist pattern and resist cracking by plating stress at a plating step and accurately form thick platings, even when descumming (O_2 plasma ashing) treatment is performed as pretreatment for plating, and which is excellent in resolution and adhesion.例文帳に追加

メッキ前処理としてデスカム（Ｏ_2プラズマアッシング）処理を行っても、メッキ工程時のメッキ応力によるレジストパターンへの押し込みやレジストのクラックを抑制することができ、厚膜のメッキ造形物を精度よく形成することができるとともに、解像度および密着性などに優れるネガ型感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a curable resin composition which can ensure satisfactory flame retardance without using a halogen-based flame-retardant and can obtain a cured product having a satisfactory elongation at break, a prepreg using the same, a metal-clad laminate, a sealing medium, a photosensitive film, a resist pattern-forming method, and a printed wiring board.例文帳に追加

ハロゲン系難燃剤を用いずに十分な難燃性を確保することができ、十分な伸び率を有する硬化物を得ることが可能な硬化性樹脂組成物、並びに、それを用いたプリプレグ、金属張積層板、封止材、感光性フィルム、レジストパターンの形成方法、及び、プリント配線板を提供すること。 - 特許庁

This photopolymerizable composition for forming the porous pattern comprises at least three components of a binder resin, a photosensitive compound, and a photopolymerization initiator, wherein the photosensitive compound is dissolvable in a poor solvent to the binder resin, and the photosensitive compound is contained in an amount of 30-80 wt% based on the total solid components.例文帳に追加

バインダー樹脂、感光性化合物および光重合開始剤の少なくとも３者からなる組成物であって、該感光性化合物は、該バインダー樹脂の貧溶媒に溶解可能で、かつ、該感光性化合物の全固形分中に占める割合が３０〜８０重量％であることを特徴とするものである。 - 特許庁

This invention relates to: novel salt forms of [R-(R^*,R^*)]-2-(4-fluorophenyl)-β,δ-dihydroxy-5-(1-methylethyl)-3-phenyl-4-[(phenylamino)carbonyl]-1H-pyrrole-1-heptanoic acid characterized by their X-ray powder diffraction pattern and solid-state NMR spectra; and methods for the preparation and pharmaceutical composition of the same.例文帳に追加

Ｘ線粉末回析パターンおよび固体ＮＭＲスペクトルにより特徴付けられる［Ｒ−（Ｒ^*，Ｒ^*）］−２−（４−フルオロフェニル）−β，δ−ジヒドロキシ−５−（１−メチルエチル）−３−フェニル−４−［（フェニルアミノ）カルボニル］−１Ｈ−ピロール−１−ヘプタン酸の新規な塩形態、ならびに、それらの製造方法および医薬組成物。 - 特許庁

The electrode film 10 includes a transparent substrate member 1; a primer layer 2 disposed on one face S1 of the transparent substrate member 1; the conductive mesh 3 composed of a conductive composition disposed, in a predetermined pattern, on the primer layer 2; and a hard coat layer 4 disposed on the other face S2 of the transparent substrate member 1.例文帳に追加

この電極フィルム１０は、透明基材１と、透明基材１の一方の面Ｓ１に設けられたプライマー層２と、プライマー層２上に所定のパターンで設けられた導電性組成物からなる導電メッシュ３と、透明基材１の他方の面Ｓ２に設けられたハードコート層４とを有する。 - 特許庁

To prevent defective printing of a conductive ink printed layer using conductive ink, which is a conductive composition, as a pattern layer due to whiskers occurring, when the conductive ink splashes in forming the conductive ink printed layer by use of characteristics of an electromagnetic wave shielding material provided on a transparent substratum via a primer layer.例文帳に追加

パターン層として導電性組成物である導電インキを用いた導電インキ印刷層を、プライマー層を介して透明基材上に設けた電磁波シールド材ならではの特徴を活かして、導電インキ印刷層形成時に導電インキが飛散すると出来るヒゲの発生による印刷不良を防ぐ。 - 特許庁

The photosensitive film used for forming a permanent pattern comprises a support, a cushion layer, a barrier layer capable of suppressing transfer of substances, and a photosensitive layer, in this order, wherein the photosensitive layer is formed of a photosensitive composition which comprises (A) a binder, (B) a polymerizable compound, (C) a photopolymerization initiator and (D) a filler.例文帳に追加

支持体と、クッション層と、物質の移動を抑制可能なバリア層と、（Ａ）バインダー、（Ｂ）重合性化合物、（Ｃ）光重合開始剤、及び（Ｄ）体質顔料を含有する感光性組成物からなる感光層とをこの順に備えてなり、永久パターンの形成に用いられる感光性フィルムである。 - 特許庁

To provide a polymer which has dry etching resistance, is high in sensitivity, resolution and light transmittance, when used for resist compositions for DUV excimer laser lithography or the like, has small line edge roughness of resist patterns and can resist to thin resist films, to provide a resist composition, and to provide a method for producing a substrate on which a resist pattern is formed.例文帳に追加

ＤＵＶエキシマレーザーリソグラフィー等のレジスト組成物に用いた場合に、高感度、高解像度であり、光線透過率が高く、レジストパターンのラインエッジラフネスが小さく、レジスト膜の薄膜化に耐えることができるドライエッチング耐性を有する重合体、レジスト組成物及びパターンが形成された基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

A laminate of the thick film, a pattern and the like are formed using the negative resist composition for a thick film comprising a photoacid generator (A) represented by formula (1), a phenolic resin (B) having an ADR (alkali dissolution rate) of ≥1,000 Å/s, and an epoxy resin (C) having two or more epoxy resins per molecule.例文帳に追加

下記式（１）で表される光酸発生剤（Ａ）、ＡＤＲ（アルカリ溶解速度）が１０００Å／ｓ以上であるフェノール樹脂（Ｂ）及び一分子中にエポキシ基を二個以上有するエポキシ樹脂（Ｃ）を含有してなる厚膜用ネガ型レジスト組成物を用いて、厚膜の積層体、パターン等を形成する。 - 特許庁

The pattern forming method includes steps of (a) forming a film by using a chemically amplified resist composition; (b) exposing the film to light; (c) developing the film by using a developing solution containing an organic solvent; and (d) rinsing the film by using a rinsing liquid containing an organic solvent and having a specific gravity larger than that of the developing solution.例文帳に追加

（ア）化学増幅型レジスト組成物を用いて膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程、及び（エ）有機溶剤を含み、かつ比重が前記現像液より大きいリンス液を用いてリンスを行う工程を含むパターン形成方法。 - 特許庁

To provide an adhesive composition which has enough adhesive strengths, and can be sufficiently charged with various fillers, and is dried in a short time after coating, applied to both a whole area coating and a pattern coating, applied on various bases, and can realize sufficient adhesive strengths between the base and a pressure-sensitive adhesive layer.例文帳に追加

十分な接着力を有し、各種の充填剤を十分充填でき、塗工後の乾燥時間が短く、全面塗工およびパターン塗工の何れも容易に行え、各種の基体に塗工することができ、基体と感圧接着剤層との十分な接着強度を実現できる接着剤組成物を提供する。 - 特許庁

The problem that a slanted pattern is formed is solved by incorporating (d) PRG (photo-radical generating agent) into a conventional photoresist composition comprising (a) a photoresist resin, (b) a photo-acid generating agent and (c) an organic solvent and generating a radical on the surface of a photosensitive agent in exposure to ultimately diminish an acid.例文帳に追加

既存の（ａ）フォトレジスト樹脂と、（ｂ）光酸発生剤と、（ｃ）有機溶媒で構成される従来のフォトレジスト組成物に（ｄ）ＰＲＧをさらに含ませることにより露光時感光剤の表面上にラジカルが発生し、究極的には酸を減少させることにより、傾斜したパターンが形成される問題点を解決する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition capable of forming an image by UV exposure and development with a dilute aqueous alkali solution, having no tackiness and a good working property, capable of giving a pattern excellent in adhesion, electric insulating property, resistance to the heat of soldering and chemical resistance, and suitable for use as a solder resist for production of a printed wiring board.例文帳に追加

紫外線露光及び希アルカリ水溶液による現像で画像形成可能であって、タックフリーで作業性が良好、さらに密着性、電気絶縁性、はんだ耐熱性、耐薬品性が優れたパターンを与えることができる、プリント配線板製造用ソルダーレジストとして好適な感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The pattern formation method includes a step of providing affinity for liquid by means 102 for selectively generating plasma on a liquid-repellent thin film, for example, a semiconductor film, on a substrate having insulating property, for example, a glass substrate, and discharging a drop composition onto the surface having affinity for liquid by drop discharge means 103.例文帳に追加

絶縁性を有する基板、例えばガラス基板上に撥液性の薄膜、例えば半導体膜に選択的にプラズマを発生する手段１０２によって親液性にし、前記親液性表面に、液滴吐出手段１０３により液滴組成物を吐出して、パターンを作製する工程を含む。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition free of safety problem to a living body, having good suitability to application even to a large substrate, capable of faithfully reproducing the design size of a mask pattern with high sensitivity, and capable of forming spacers for a display panel excellent in adhesion to the substrate and excellent also in strength, heat resistance, etc.例文帳に追加

生体に対する安全性に問題がなく、しかも大型基板に対しても良好な塗布性を有し、高感度でマスクパターンの設計サイズを忠実に再現でき、かつ基板との密着性に優れ、また強度、耐熱性等にも優れた表示パネル用スペーサーを形成しうる感光性樹脂組成物を提供することにある。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having high sensitivity to radiation, having a development margin allowing formation of a preferable pattern even through development exceeding the optimum developing time in a developing process, and capable of easily forming a patterned thin film having excellent adhesiveness with a substrate.例文帳に追加

高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えて現像処理を行ってもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、且つ基板との密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

When the interpolymer complex layer is formed on an upper resist pattern of a BLR using a coating composition containing a silicon contained substance such as a silicon alcoxide monomer, a silicon alcoxide oligomer, or partial hydrolysates of these, a micropattern is formed with an increased resistance property to dry etching by an increased silicon content.例文帳に追加

シリコンアルコキシドモノマー、シリコンアルコキシドオリゴマー、またはこれらの部分加水分解物などのシリコン含有物質を含むコーティング組成物を使ってＢＬＲの上部レジストパターンにインターポリマーコンプレックス層を形成すれば、増加したシリコン含量によって乾式エッチングに対して増加した耐性を有し、微細パターンを形成しうる。 - 特許庁

To provide a black paste composition suitable not only for a laser direct imaging device using a laser oscillation light source having a maximum wavelength of 350-420 nm but also for a case using an ultrahigh-pressure mercury lamp as a light source, useful for efficiently forming a fine black matrix pattern, and excellent in dispersion stability.例文帳に追加

最大波長が３５０ｎｍ〜４２０ｎｍのレーザー発振光源を用いたレーザー・ダイレクト・イメージング装置のみならず光源として超高圧水銀灯を用いた場合にも適し、精細なブラックマトリックスパターンを効率良く形成するのに有用で、かつ分散安定性に優れた黒色ペースト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an adhesive composition having sufficient adhesiveness, sufficiently filling various kinds of fillers, having a short drying time after coating, readily carrying out both of whole surface coating and pattern coating, coating various kinds of substrates and realizing sufficient adhesive strength of the substrates to a pressure-sensitive adhesive layer.例文帳に追加

十分な接着力を有し、各種の充填剤を十分充填でき、塗工後の乾燥時間が短く、全面塗工およびパターン塗工の何れも容易に行え、各種の基体に塗工することができ、基体と感圧接着剤層との十分な接着強度を実現できる接着剤組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition for forming spacers which is of high resolution and of high sensitivity even when radiation for exposure practically contains no beam with wavelength <350 nm, and which easily forms the spacers excellent in various performances such as a pattern shape, compression strength, rubbing resistance, and adhesion to a transparent substrate.例文帳に追加

３５０ｎｍ未満の波長を実質的に含まない放射線による露光でも、高解像度、高感度であり、かつパターン形状、圧縮強度、ラビング耐性、透明基板との密着性等の諸性能に優れたスペーサーを容易に形成することができるスペーサー用感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The decorated laminated glass includes a decorative sheet 11 interposed with adhesive layers 3A, 3B between two glass sheets 2A, 2B, wherein the decorative sheet includes at least a pattern layer and a protective layer successively layered on a substrate, and the protective layer is formed by crosslinking and curing an ionization radiation-curable resin composition.例文帳に追加

二枚のガラス板2A、2Bの間に、接着剤層3A、3Bを介して化粧シート11を挟んでなる化粧合わせガラス1であって、該化粧シートが基材上に少なくとも絵柄層と保護層とを順に有し、該保護層が電離放射線硬化性樹脂組成物を架橋硬化してなるものである化粧合わせガラスである。 - 特許庁

To provide a coloring pigment masterbatch reduced in coloration loss more than that in the conventional, being capable of giving a patterned appearance of a low dispersion, and being capable of forming a composition giving a clearly pattern-colored molding when it is added in a small amount even to a molding material containing a filler injurious to coloration and to provide a method for producing the masterbatch.例文帳に追加

従来以上に着色ロスが少なく、バラツキの少ない模様外観が得られ、着色性を阻害するフィラーを含む成形材料に対しても、少量添加で、明瞭な模様着色の成形品を得ることができる着色顔料マスターバッチ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which enhances resolution/adhesion by high-speed developability (of an unexposed portion) and excellent developer resistance (of an exposed portion), improves dispersibility in a developer, and suppresses foaming of an etching solution, a photosensitive element using the same, a method for producing a resist pattern and a method for producing a printed wiring board.例文帳に追加

高速現像性（未露光部）と優れた耐現像液性（露光部）により、解像度・密着性を向上させ、また、現像液における分散性を良好にし、且つ、エッチング液の発泡を抑制する感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法を提供する。 - 特許庁

The pattern forming material has on a support a photosensitive layer formed of a photosensitive composition comprising at least a binder, a polymerizable compound and a photopolymerization initiator, wherein the binder comprises a polymer having an I/O value of 0.300-0.650 and the photopolymerization initiator comprises a hexaarylbiimidazole compound having a hydrophilic group.例文帳に追加

バインダー、重合性化合物、及び光重合開始剤を少なくとも含む感光性組成物からなる感光層を支持体上に有してなり、前記バインダーが、Ｉ／Ｏ値が０．３００〜０．６５０のポリマーを含み、前記光重合開始剤が、親水性基を有するヘキサアリールビイミダゾール化合物を含むパターン形成材料である。 - 特許庁

To provide an electrode paste composition for a plasma display panel, and a manufacturing method of an electrode using the same, capable of preventing generating of bubbles on the surface of the electrode during a printing process of the electrode paste and preventing damages to an electrode pattern due to decrease of an adhesive force.例文帳に追加

本発明は電極ペースト印刷の工程中に電極表面に気泡が発生するのを防ぐと共に接着力の減少による電極パターンの損傷を防ぐことができるプラズマディスプレーパネルの電極用ペースト組成物及びそれを利用した電極製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a photosensitive siloxane composition which excels in stability when allowed to stand after exposure, causes no pattern drooping during heat curing, has such properties as high resolution, high heat resistance and high transparency after heat curing, and is used for forming a planarizing film for a TFT substrate, an interlayer insulation film and a core or clad material of an optical waveguide.例文帳に追加

露光後放置安定性に優れ、熱硬化中にパターンだれが生じることなく、熱硬化後に高解像度、高耐熱性、高透明性の特性を有する、ＴＦＴ基板用平坦化膜、層間絶縁膜、光導波路のコアやクラッド材の形成に用いられる感光性シロキサン組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition which is used in the manufacturing step of a semiconductor such as an IC, in manufacturing step of a circuit board such as liquid crystals and thermal heads, and other photofabrication steps, having an excellent resolution and line edge roughness; and to provide a method for forming a pattern using the same.例文帳に追加

ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法に於いて、解像力、ラインエッジラフネスに優れた感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive composition undergoing a change in refractive index, which can realize a change in the refractive index of a material by a simple method, giving a sufficiently great difference in refractive index due to the change, and can give a refractive index pattern and an optical material that are stable independent of the service conditions thereafter.例文帳に追加

材料の屈折率変化を簡易な方法で行うとともに、その変化した屈折率差が十分大きな値となり、しかもその後の使用条件によらずに安定な屈折率パターンや光学材料を与えることができる感放射線性、屈折率変化性組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which solves problems relating to the techniques to improve the performance in microfabrication of semiconductor elements using high energy beams, in particular, which has high sensitivity and high resolution and satisfies both of a preferable pattern profile and line edge roughness for KrF excimer laser, X-rays, electron beams or ion beams.例文帳に追加

高エネルギー線を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、特にＫｒＦエキシマレーザー、Ｘ線、電子線又はイオンビームの使用に対して高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスを同時に満足するポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

For example, when a TAB of a liquid crystal display device is connected to a terminal of each ITO electrode 2, only the terminal to be connected of the ITO electrode 2 formed on a glass substrate 1 of a liquid crystal panel is coated with the composition, and drying, exposure and development are then carried out to form the anisotropic electroconductive pattern 3 only on the electrode 2.例文帳に追加

例えば、液晶表示装置のＴＡＢとＩＴＯ端子の接続を行う場合、液晶パネルのガラス基板上１に形成された各ＩＴＯ電極２の接続される端部のみに上記組成物を塗布し、乾燥、露光、現像を行って異方性導電パターン３を電極上のみに形成する。 - 特許庁

To provide a foamable polymer composition that gives a thermoplastic elastomer foamed article which has fine foams of a uniform size uniformly distributed inside the foamed article, is free from roughness or a concave and convex pattern on the surface due to foam collapse, non-uniformity in foam diameter or the like, and is excellent in appearance and also excellent in flexibility and mechanical characteristics.例文帳に追加

大きさの揃った微細な気泡が発泡体内部にムラなく均一に分布しており、表面に気泡の破裂や気泡径のムラなどに起因する荒れや凹凸模様がなく、外観に優れ、柔軟性、機械的特性にも優れる熱可塑性エラストマー発泡体を与える発泡性重合体組成物を提供すること。 - 特許庁

A conductive film and a conductive pattern are formed and a multilayered wiring board is manufactured by using an epoxy resin composition containing an epoxy resin having ≥2 epoxy groups in one molecule, a curing agent having ≥2 functional groups reactive with the epoxy group in one molecule, and a photopolymerization initiator as essential components.例文帳に追加

１分子中に２個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂、該エポキシ基と反応する官能基を１分子中に２個以上有する硬化剤、及び光重合開始剤を必須成分として含有するエポキシ樹脂組成物を用いて、導電膜及び導電性パターンを形成すると共に、多層配線板を製造する。 - 特許庁

The high-sensitivity and high-resolution photosensitive resin composition having high sensitivity and capable of forming the fine resist pattern having the large film thickness and the high aspect ratio comprises an onium fluoroalkylfluorophosphate type cationic polymerization initiator having a specific structure and a sensitizer having a dihydroxynaphthalene structure.例文帳に追加

特定の構造を有するオニウムフッ素化アルキルフルオロリン酸塩系のカチオン重合開始剤と、ジヒドロキシナフタレン構造を有する増感剤とを含有する感光性樹脂組成物によれば、感度が高く、且つ高膜厚、高アスペクト比の微細なレジストパターンを形成できる高感度、高解像性の感光性樹脂組成物を提供できる。 - 特許庁

To provide a production method for a photocatalyst-containing layer substrate having a photocatalyst-containing layer capable of efficiently forming patterns with mutually largely different characteristics, or pattern formed bodies, and a composition for forming the photocatalyst-containing layer used for the photocatalyst-containing layer.例文帳に追加

本発明は、特性の大きく異なるパターンを効率的に形成することが可能な光触媒含有層を有する光触媒含有層基板や、パターン形成体の製造方法、またその光触媒含有層に用いられる光触媒含有層形成用組成物等を提供することを主目的としている。 - 特許庁

The pattern forming material has at least a photosensitive layer formed using a photosensitive resin composition containing at least a binder, a polymerizable compound and a photopolymerization initiator, wherein the polymerizable compound contains at least a compound having one or more urethane groups and one polymerizable group within a molecule.例文帳に追加

バインダー、重合性化合物及び光重合開始剤を少なくとも含み、該重合性化合物が、分子中にウレタン基を１個以上と重合性基を１個有する化合物を少なくとも含有する感光性樹脂組成物を用いて得られた感光層を少なくとも有するパターン形成材料である。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition having high transparency to radiation as a chemical amplification type positive type resist, excellent in basic solid state properties as the resist, e.g. sensitivity, resolution and pattern shape, not causing development defects in microfabrication and capable of producing semiconductor devices in a high yield.例文帳に追加

化学増幅型ポジ型レジストとして、放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れるのみならず、微細加工時の現像欠陥を生じることがなく、半導体素子を高い歩留りで製造しうる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

Disclosed is the negative type resist composition containing (A) an alkali-soluble resin, (B) a cross-linking agent cross-linking the alkali-soluble resin through reaction of an acid, (C) a compound advancing cross-linking reaction by irradiation with an active light beam or radiation, and (D) a compound having a cation polymerizable group; and the pattern forming method.例文帳に追加

（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ可溶性樹脂を架橋する架橋剤、（Ｃ）活性光線又は放射線の照射により架橋反応を進行させる化合物、（Ｄ）カチオン重合性基を有する化合物、を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物およびパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition having high transparency to radiation as a chemical amplification type resist, excellent in basic physical properties as a resist such as dry etching resistance, sensitivity, resolution and pattern shape, not causing development defects in microfabrication and capable of producing a semiconductor device in a high yield.例文帳に追加

化学増幅型レジストとして、放射線に対する透明性が高く、しかもドライエッチング耐性、感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れるとともに、微細加工時の現像欠陥を生じることがなく、半導体素子を高い歩留りで製造しうる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an excellent photosensitive adhesive composition which enables pattern formation and further which not only has both excellent followability and high adhesivity to fine unevenness but also causes no bedewing in a hollow part when applied to a hollow member, and to provide the hollow member obtained by using the same.例文帳に追加

パターン形成が可能で、しかも微細な凹凸に対する優れた追従性と高い接着力を兼ね備えているだけでなく、中空部材に適用した場合に、その中空部に結露を生じることのない、優れた感光性接着剤組成物と、それを用いて得られる中空部材を提供する。 - 特許庁

To solve the problems of a performance enhancing technique in microfabrication of a semiconductor device and to provide a negative resist composition which simultaneously satisfies such properties as high sensitivity, high resolution, a good pattern shape and good line edge roughness particularly in microfabrication of a semiconductor device using an electron beam or X-ray.例文帳に追加

半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、特に電子線又はＸ線を用いた半導体素子の微細加工において高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスの特性を同時に満足するネガ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

The green photosensitive coloring composition of the present invention can form a green filter segment having high brightness and also being excellent in pattern shape by containing a green pigment, and a phenolic-based antioxidant (c1) and a sulfur-based antioxidant or a phosphorus-based antioxidant (c2), as an antioxidant (C).例文帳に追加

本発明の緑色感光性着色組成物は、緑色顔料と、酸化防止剤（Ｃ）として、フェノール系酸化防止剤（ｃ１）と、イオウ系酸化防止剤またはリン系酸化防止剤（ｃ２）とを含有することで、高明度かつパターン形状についても優れた緑色フィルタセグメントを形成することができる。 - 特許庁

To provide a positive resist composition having sensitivity to a g-line, an i-line, a KrF excimer laser and an electron beam and usable in a mix and match step of exposure using at least two exposure light sources selected from a g-line, an i-line, a KrF excimer laser and an electron beam, and to provide a resist pattern forming method.例文帳に追加

ｇ線、ｉ線、ＫｒＦエキシマレーザーおよび電子線に対する感度を有し、ｇ線、ｉ線、ＫｒＦエキシマレーザーおよび電子線から選ばれる少なくとも２種の露光光源を用いて露光するミックスアンドマッチ工程に使用できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition capable of faithfully reproducing the design size of a mask pattern with high sensitivity, excellent in adhesion to a substrate, making it possible to obtain a satisfactory spacer shape and thickness under an exposure energy of ≤150 mJ/cm^2, and capable of forming spacers for a display panel excellent in strength, heat resistance, etc.例文帳に追加

高感度でマスクパターンの設計サイズを忠実に再現でき、かつ基板との密着性に優れ、１５０ｍＪ/ｃｍ^2以下の露光量で十分なスペーサー形状および膜厚を得ることを可能とし、また強度、耐熱性等にも優れた表示パネル用スペーサーを形成しうる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an alkali-developable photosensitive resin composition which is capable of forming a resist pattern having a good opening shape with high sensitivity and resolution not only to all-wavelength exposure using a mercury-vapor lamp as a light source but to laser including light having a wavelength of 365 or 405 nm, and which can be made halogen-free.例文帳に追加

水銀灯を光源とする全波長露光だけでなく波長３６５や４０５ｎｍの光を含むレーザに対しても、高い感度及び解像度で良好な開口形状のレジストパターンを形成することが可能であり、ハロゲンフリー化に対応可能なアルカリ現像型感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁