「pattern on pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(494ページ目) - Weblio英語例文検索

This element has a transparent substrate, a translucent layer formed on the transparent substrate, a first positive electrode layer formed on the translucent layer in a prescribed pattern, a negative electrode layer formed on the first positive electrode layer by total reflection metal films, and an organic layer which is arranged between the first positive electrode layer and the negative electrode layer and which includes at least a light-emitting layer.例文帳に追加

透明基板と、前記透明基板上に形成される半透明層と、前記半透明層上に所定パターンで形成された第１正極層と、前記第１正極層の上に全反射金属膜で形成された負極層と、前記第１正極層と負極層との間に配置された少なくとも発光層を含む有機層とを備える。 - 特許庁

A luminous layer-formed film, on which a luminous layer is formed beforehand on a base film, is pasted on a substrate and laser irradiation is applied selectively, and a luminous layer having a desired pattern is formed, and then the base film is peeled off, thereby forming the luminous layer by a laser thermal transfer method.例文帳に追加

このような課題を解決するため、本発明は、発光層の形成する方法として、基板上にベ−スフィルムに予め発光層を形成した発光層形成フィルムを貼付け、選択的にレ−ザ照射を行い、所望のパタ−ンの発光層を形成した後、ベ−スフィルムを剥がすことを特徴としたレ−ザ熱転写方式による発光層の形成。 - 特許庁

To surely provide a method for forming a metal electrode pattern at the electrode part on a semiconductor substrate, by attaching an adhesive sheet for stripping off a metal film to the metal film provided on the surface of an insulating part and the electrode part formed on the semiconductor substrate, and then stripping off the metal film well form the surface of the insulating part.例文帳に追加

半導体基板上に形成された絶縁部と電極部の表面に設けた金属膜に金属膜剥離除去用接着シートを貼り付け、引き剥がしにより絶縁部表面の金属膜を良好に剥離除去して半導体基板上の電極部に確実に金属電極パターンを形成する方法を提供すること。 - 特許庁

This method comprises the steps of exposing only the parts within a metal layer 30, formed on the surface of a substrate 20 where a ball pad 62 and/or a bonding pad 63 are/is to be formed, forming a gold-plated layer 60 on the exposed metal layer 30, and selectively removing the metal layer 30 and forming the circuit pattern 32 on the substrate.例文帳に追加

基板２０の表面に形成された金属層３０中ボールパッド６２及び／またはボンディングパッド６３が形成される部分のみ露出される段階と、露出された金属層３０に金メッキ層６０が形成される段階と、金属層３０が選択的に除去されて基板上に回路パターン３２が形成される段階とが含まれる。 - 特許庁

A manufacturing method for the printed wiring board has at least a process wherein a photoresist layer is formed on a board or on a material of the board having a copper foil of 1 to 5 μm thickness on an outmost layer of insulating resin, a conductive circuit is formed by pattern copper plating after exposure and development, and the photoresist layer is peeled off by an oxidizer.例文帳に追加

最外層の絶縁樹脂上に１〜５μｍ厚の銅箔を有する基板もしくは基板材料上にフォトレジスト層を形成し、露光、現像後、パターン銅めっきにより導体回路を形成し、酸化剤によってフォトレジスト層を剥離する工程を少なくとも有することを特徴とするプリント配線板の製造方法。 - 特許庁

For example, the photographing system 1 performs rangefinding operation to measure the distance h2 from the digital camera 10 to its plane based on the image picking up the pattern disposed on the surface apart by the distance h3 from the object surface in the optical axis direction of a photographing lens 101 and performs AF control by calculating the subject distance h1 based on the distances h2 and h3.例文帳に追加

たとえば、撮影システム１は、撮影レンズ１０１の光軸方向において被写体面から距離ｈ３だけ離れた面に設けられたパターンを撮像した画像に基づいて、デジタルカメラ１０からその面までの距離ｈ２を測定する測距動作を行い、これらの距離ｈ２，ｈ３に基づいて被写体距離ｈ１を算出してＡＦ制御を行う。 - 特許庁

A chip inductor is composed of a coil formed of a conductor pattern on a board 11 and electrodes which are formed on conductor lands of a circuit board and connected to terminals of the coil in a surface-mounting manner, the board 11 is formed of a magnetic substance, and coils 1 and 2 formed of conductor patterns 20 are provided on both surfaces of the magnetic board 11.例文帳に追加

基板上に導体パターンによるコイルと、そのコイルの端子を回路基板の導体ランドに表面実装状態で接続するための電極を形成したチップインダクタにおいて、上記基板１１を軟磁性体で形成するとともに、この磁性基板１１の両面にそれぞれ導体パターン２０によるコイルＬ１，Ｌ２を形成する。 - 特許庁

A first metal film 13 that is thinner is formed on a surface on which an electrode pattern of a piezoelectric substrate 11 is formed, and a second metal film 15 which is hard to be etched by photoresist developing solution is formed on the first metal film 13 and then developed to thereby make a substrate digging amount of the piezoelectric substrate 11 small, suppressing a variation in the excitation center frequency.例文帳に追加

圧電基板１１の電極パターンを形成する方の面に薄い方の第１の金属膜１３を形成し、その上にフォトレジストの現像液にエッチングされにくい第２の金属膜１５を形成した後に現像することにより、圧電基板１１の基板掘れ量を小さくし、励振中心周波数のバラツキを抑制する。 - 特許庁

In a multilayer module structure of a printed circuit board, a Cu film is formed between pads on a lowermost layer, coupled with solder balls of a topmost layer and on corresponding parts of the lowermost layer to a pattern formed on an upper layer of the lowermost layer, thereby removing signal interference and noise, and matching the impedance.例文帳に追加

プリント回路板の多層モジュール構造において、最上層のソルダボール１１３に連結された最下層のパッド１６１とパッド１６１との間、及びこの最下層の上層に形成されたパターン１５２に対応する前記最下層の該当部分に銅膜１６３を形成して信号干渉及び雑音を除去し、インピーダンスを合わせるように構成した。 - 特許庁

When a pattern is drawn along concentric tracks on a substrate, blanking of electron beams is performed in a first region in the sector by using a first clock signal generated on the basis of a first reference length and blanking of electron beams is performed in a second region in the sector by using a second clock signal generated on the basis of a second reference length.例文帳に追加

基板上の同心円トラックに沿ってパターンを描画する際に、セクタ内の第１領域内では、第１基長さに基づいて生成された第１クロック信号を用いて電子線をブランキングさせ、セクタ内の第２領域内では、第２基準長さに基づいて生成された第２クロック信号を用いて電子線をブランキングさせる。 - 特許庁

To provide a method for forming a pattern of digital data on a work by using a two-dimensional display element while scanning the work relatively in one direction, the method being favorable in both of resolution and throughput when a plurality of pixels on the two-dimensional display element forms dots on one straight line parallel to the scanning direction of the work.例文帳に追加

デジタルデータを２次元表示素子を用いて、ワークを相対的に一方向にスキャンしながら、ワーク上にパターンを形成する方法であって、２次元表示素子上の複数の画素がワーク上のスキャン方向に平行な同一直線上にドットを形成する場合に、分解能、スループットともに良好なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing the electronic device 10 having a plating step for plating a metal on a resist pattern 13 provided on a substrate 11 to be plated has a coating step for previously applying a plating solution or a solvent for the plating solution on the substrate 11 to be plated under a reduced pressure atmosphere before the plating step.例文帳に追加

被めっき用基板１１上に設けられたレジストパターン１３に、金属をめっきするめっき工程を有する電子デバイス１０の製造方法において、前記めっき工程の前に、被めっき用基板１１を減圧雰囲気下で、めっき液又はめっき液の溶媒を予め塗布する塗布工程を有する電子デバイス１０の製造方法である。 - 特許庁

The lithography method is characterized by applying the resist containing an aliphatic polyester selected from a group comprising polylactic acid, polybutylene succinate and polycaprolacton on a body to be treated, selectively exposing a part of the resist to ultraviolet rays so as to decompose and volatilize the resist on the part irradiated with the ultraviolet rays and making the resist pattern on the part not irradiated with the ultraviolet rays remain.例文帳に追加

被処理体上に、ポリ乳酸、ポリブチレンサクシネートおよびポリカプロラクトンからなる群より選択される脂肪族ポリエステルを含有するレジストを塗布し、前記レジストの一部に選択的に紫外線を露光して紫外線照射部のレジストを分解して揮発させ、紫外線未照射部にレジストパターンを残存させることを特徴とするリソグラフィー方法。 - 特許庁

This device is furnished with a blast working part 1 to spray granular matters on surfaces of the spoons W and to put irregular patterns on the surfaces, the holding member 10 free to hold a plural number of the spoons and the concealing member 11 free to conceal surface portions with no pattern of the spoons held on the holding member.例文帳に追加

スプーン類Ｗの表面に粒状物質を吹き付けてその表面に凹凸模様を付けるブラスト加工部１と、ブラスト加工部内に配置され、複数個のスプーン類を保持可能な保持部材１０と、保持部材に設けられ、該保持部材に保持された該スプーン類の非模様付表面部位を隠蔽可能な隠蔽部材１１とを備えてなる。 - 特許庁

The system includes a processor 33 having an element constituted so that the optimum motor bias route for a deep reactive ion etcher 22 is determined on a wafer, a stepper for imprinting a pattern of the gyro in the direction corresponding to the optimum motor bias route calculated to be the nearest to each gyro on the wafer, and a deep reactive ion etcher 37 for etching the gyro on the wafer.例文帳に追加

システムは、ウェハ上で深反応性イオンエッチャ２２用の最適モータバイアス経路を決定するように構成された要素を備えたプロセッサ３３、ウェハ上で各ジャイロに最も近いものと算出された最適モータバイアス経路に対応した向きに該ジャイロのパターンをインプリントするステッパ３５及びウェハにジャイロをエッチングする深反応性イオンエッチャ３７を含む。 - 特許庁

The membrane sheet 9 comprises a membrane base substrate 9a made of insulating material, an LED 10 disposed on the membrane base substrate 9a, a circuit pattern 9b which is disposed on the membrane base substrate 9a for power supplying to the LED 10, and a key-top 11 made of transmissive material which is disposed on the membrane base substrate 9a as to cover the LED 10.例文帳に追加

メンブレンシート９は、絶縁材料からなるメンブレン基材９ａと、メンブレン基材９ａ上に設置されたＬＥＤ１０と、メンブレン基材９ａ上に形成されＬＥＤ１０に給電するための回路パターン９ｂと、ＬＥＤ１０を覆ってメンブレン基材９ａ上に設置された透光材料からなるキートップ１１とを有する。 - 特許庁

The technique comprises a means of generating the liquid drop, a substrate provided with a pattern of a hydrophilic region holding the generated liquid drop on a water-repellent surface, a temperature conditioning device contacting to the substrate, a measuring means measuring the size of the liquid drop formed on the substrate, and a control apparatus controlling the temperature of the temperature conditioning device based on the measured drop size.例文帳に追加

液滴を生成するための手段、前記生成された液滴を撥水性面に保持する親水性領域のパターンを配した基板、基板に接する温調装置、基板上に形成した液滴の大きさを測定する測定手段、測定した液滴の大きさをもとに、温調装置の温度を制御する制御装置からなる。 - 特許庁

The color filter base plate for organic electroluminescent element is composed of a base material, a coloring layer formed into pattern shape on the base material, a gas barrier layer formed on the coloring layer, and a gas diffusion layer as a painted film formed on the gas barrier layer.例文帳に追加

本発明は、基材と、上記基材上にパターン状に形成された着色層と、上記着色層上に形成されたガスバリア層と、上記ガスバリア層上に形成され、塗膜であるガス拡散層とを有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセント素子用カラーフィルタ基板を提供することにより、上記目的を達成するものである。 - 特許庁

A semiconductor LED comprises a lower cladding layer 31, active layer 32 formed on the upper part of one side of the lower cladding layer in sequence, upper cladding layer 33, a first electrode 34, and a second electrode 35 formed on a concavo-convex structural pattern region on the surface of the other side of the lower cladding layer.例文帳に追加

半導体発光素子において、下部クラッド層３１と、下部クラッド層の一側の上部に順次に形成された活性層３２、上部クラッド層３３及び第１電極３４と、下部クラッド層の他側の表面に形成された凹凸構造パターン領域上に形成された第２電極３５と、を備える半導体発光素子である。 - 特許庁

The projection aligner has an alignment light radiating means for radiating an alignment light on a projection lens, from the back side of an exposure light irradiating means to a mounting means for irradiating a first reference mark provided on the mounting means and a second reference mark provided on a pattern substrate with the alignment light.例文帳に追加

アライメント光を、載置手段に対して露光光照射手段と反対側から、投影レンズに向かってアライメント光を発するアライメント光照射手段であって、載置手段に設けられた第１基準マークと、パターン基板に設けられた第２基準マークと、にアライメント光を照射するアライメント光照射手段を有する投影露光装置を提供する。 - 特許庁

On the metal circuit board S1 which is obtained by working the metal plate 10 so as to have a shape comprising the wiring parts 11 having the shape of the prescribed circuit pattern and terminals 12 and which has the soldering part 40 where the electronic parts 30 and 31 are soldered on its surface, a solder resist 60 is formed in an area except the soldering part 40 on the surface.例文帳に追加

金属板１０を所定の回路パターン形状をなす配線部１１およびターミナル１２を有する形状に加工してなり、表面に電子部品３０、３１がはんだ付けされるはんだ付け部４０を有する金属配線板Ｓ１において、当該表面のうちはんだ付け部４０を除く領域にソルダーレジスト６０が形成されている。 - 特許庁

The group III nitride semiconductor epitaxial substrate 10 comprises forming an ELO growth layer 4 of the composition of Al_xGa_1-xN (0≤x≤1) on a group III nitride layer 2 formed on a substrates 1, wherein the ELO (Epitaxial Lateral Overgrowth) growth layer 4 is formed using a mask pattern 3 consisting of carbon formed on the group III nitride layer 2.例文帳に追加

基板１上に形成されたＩＩＩ族窒化物層２上にＡｌ_ｘＧａ_１−ｘＮ（０≦ｘ≦１）なる組成のＥＬＯ成長層４が形成されてなり、ＥＬＯ（Epitaxial Lateral Overgrowth）成長層４は、ＩＩＩ族窒化物層２上に形成された炭素からなるマスクパターン３を用いて形成されたＩＩＩ族窒化物半導体エピタキシャル基板１０。 - 特許庁

This flat harness comprises a lower insulating film 1 coated with an adhesive 11 on the upper face, conductors 3 arranged on the lower insulating film 1 to extend along the prescribed wiring pattern, and an upper insulating film 2 arranged to face the lower insulating film 1 via the conductors 3 and coated with an adhesive 21 on the lower face facing the conductors 3.例文帳に追加

上面に接着剤１１を塗布した下側絶縁フィルム１と、所定の配線パターンに沿って延びるように下側絶縁フィルム１の上面に配線される導線３と、導線３を介して下側絶縁フィルム１と対向配置され、導線３と対向する下面に接着剤２１を塗布した上側絶縁フィルム２とから構成されている。 - 特許庁

This member 30 for transferring a metal film has a translucent substrate 20, on which a thin film 21 having a photocatalytic function is formed, a first adhesion layer 24 in a predetermined pattern which contains a thermoplastic organic polymer and is formed on the surface of the thin film having a photocatalytic function and a metal film 22 formed on the surface of the first adhesion layer.例文帳に追加

光触媒機能薄膜２１が形成してある透光性基体２０と、前記光触媒機能薄膜の表面に形成された熱可塑性有機高分子を含む所定パターンの第１接着層２４と、前記第１接着層の表面に形成された金属膜２２とを有する金属膜転写用部材３０である。 - 特許庁

A plurality of line segments radially arranged concentrically with an intersection of diagonal lines of the sheet 100 as a base point are formed on the area A, and a plurality of line segments different (at angle) in a direction at each adjacent area are formed on the area B, and a ground pattern layer 10 uniformly printed is provided on the overall surface of the sheet 100.例文帳に追加

領域Ａには、商品券用紙１００の対角線の交点を基点とした同心円状に放射状に配列された複数の線分が形成され、領域Ｂには、隣り合う領域毎に方向（角度）の異なる複数の線分が形成され、また、商品券用紙１００の全面に均一に印刷される地紋層１０を設けて形成される。 - 特許庁

The substrate device comprises an underlayer film formed on a substrate and having a first planar pattern with an edge part, an interlayer film formed on the underlayer film and the substrate in such a manner as to cover the edge part of the underlayer film and having an inclined part that inclines in accordance with one edge side at the edge part of the underlayer film, and an upperlayer film formed on the interlayer film.例文帳に追加

基板装置は、基板上に形成され、端部を有する第１平面パターンを持つ下層膜と、該下層膜及び基板上に下層膜の端部を覆うように形成され、下層膜の端部における一つの端面に対応して傾斜する傾斜部を有する層間膜と、該層間膜上に形成される上層膜とを備える。 - 特許庁

The width of the conductive pattern 18 and the resin film 17 of a flexible printed board 16 are made narrower on the elastic deforming part B of a load beam 11 than on other parts, thereby weakening the rigidity of the flexible printed board 16 on the elastic deforming part B, diminishing the spring constant, and reducing the static load applied to the head body.例文帳に追加

ロードビーム１１の弾性変形部Ｂ上でのフレキシブルプリント基板１６の導電パターン１８及び樹脂フィルム１７の幅寸法を、他の部分での幅寸法よりも小さくすることで、前記弾性変形部Ｂ上でのフレキシブルプリント基板１６の剛性を弱めばね定数の低減を図り、ヘッド本体に加わる静荷重を低減させることができる。 - 特許庁

A head 12 for discharging the resist solution on a wiring board 2 has a plurality of nozzles arranged in the main scanning direction and a plurality of nozzles arranged over the length corresponding to the width of the wiring board on in the sub-scanning direction and the resist pattern is formed on the whole surface of the wiring board by scanning the wiring board and the head only once in the main scanning direction.例文帳に追加

配線基板２にレジスト液を吐出するヘッド１２は主走査方向に複数のノズルが並べられるとともに、副走査方向に配線基板の幅に対応する長さにわたって複数のノズルが並べられ、配線基板とヘッドとを主走査方向に１回だけ走査させて配線基板の全面にレジストパターンを形成する。 - 特許庁

The manufacturing process of this lens comprises a process of forming a pattern on a supporting body by a difference in wettability, a process of adhering a liquid containing a material for forming a lens 2 on the part having a specific wettability on the surface of the supporting body 1, and a process of forming the lens by curing the liquid containing the material for forming the lens 2.例文帳に追加

支持体の表面に濡れ性の違いによるパターンを形成する工程と、前記支持体表面の特定の濡れ性を有する部位にレンズを形成するための材料を含む液体を付着させる工程と、前記レンズを形成するための材料を含む液体を硬化させてレンズを形成する工程とを含むレンズの製造方法。 - 特許庁

The directional coupler includes: a main line 11 provided on a dielectric substrate; a loop-shaped sub line 12 which is patterned on the dielectric substrate and a part of which is spaced from the main line; and a pair of correction pattern 13 disposed on both ends of a coupled portion of the main line to the sub line.例文帳に追加

本実施形態に係る方向性結合器は、誘電体基板に設けられる主線路１１と、前記誘電体基板上にパターン形成され、その一部が前記主線路と一定の空隙をもって配置されるループ形状の副線路１２と、前記主線路と前記副線路との結合部の両端に配置される一対の補正パターン１３とを具備する。 - 特許庁

This mask for exposure comprises: a substrate; the photocatalyst containing layer formed on the substrate and at least containing the photocatalyst; an inorganic oxide layer formed on the photocatalyst containing layer; and a shielding portion formed in a pattern on the inorganic oxide layer.例文帳に追加

上記目的を達成するために、本発明は、基材と、前記基材上に形成され、少なくとも光触媒を含有する光触媒含有層と、前記光触媒含有層上に形成された無機酸化物層と、前記無機酸化物層上にパターン状に形成された遮蔽部とを有することを特徴とする露光用マスクを提供する。 - 特許庁

To output an input sheet on site, to automatically calculate an area of a specific range by writing the range into the input sheet on the site, and to perform screen display of information input on the site in a form of image information and character information to confirm/correct the information, in a system using a digital pen reading an existing dot pattern.例文帳に追加

既存のドットパターンを読取るデジタルペンを用いたシステムにおいて、入力シートを現場で出力し、現場で特定の範囲を入力シートに書き込むことにより当該範囲の面積を自動計算し、現場で入力した情報を画像情報及び文字情報の形式で画面表示し、情報を確認・修正しうるようにする。 - 特許庁

The manufacturing method for a layer pattern comprises a step (a) forming a first layer located on a substrate and a second layer located on the first layer thereby forming a region partitioned by the first layer and the second layer on the substrate, and a step (b) discharging a liquid material from the discharge part of a discharge device to the above region.例文帳に追加

層パターン製造方法は、基板上に位置する第１の層と前記第１の層上に位置する第２の層とを形成することで、前記第１の層と前記第２の層とによって区画された領域を前記基板上に形成するステップ（ａ）と、吐出装置の吐出部から前記領域に液状の材料を吐出するステップ（ｂ）と、を含む。 - 特許庁

To provide a wafer surface-protecting sheet used for protecting a circuit pattern on the wafer surface from cutting scraps and so on at the time of grinding the wafer back surface which sheet can be prepared substantially with no aging and in which sheet a remaining pressure-sensitive adhesive can be removed easily by washing with water even if the adhesive remains on the wafer surface.例文帳に追加

実質的にエージングなしで製造でき、ウエハ裏面の研削時に、ウエハ表面の回路パターンを切削屑などから保護するために用いられる、粘着剤がウエハ表面に残存したとしても、水で洗浄することによって容易に残留粘着剤を除去することができるようなウエハ表面保護シートを提供すること。 - 特許庁

The method of manufacturing a structure comprises: a stage where a first catalyst 31 is formed on a substrate 10; a stage where the projection pattern of second catalysts 32 is formed on the first catalyst 31 by printing; and a stage where an electroless plating film 40 is formed on the first catalyst 31 and the second catalysts 32.例文帳に追加

本発明は、基板１０上に第１の触媒３１を形成する工程と、第１の触媒３１上に第２の触媒３２の凸パターンを印刷によって形成する工程と、第１の触媒３１および第２の触媒３２上に無電解めっき膜４０を形成する工程とを有する構造体の製造方法である。 - 特許庁

An imprint system 1 has a constitution in which a wafer carrying in/out station 2, a wafer processing station 3 for forming a first resist film on a wafer W, an imprint processing station 4 for forming a second resist film on the wafer W and forming the predetermined resist pattern on the second resist film, and two or more template carrying in/out stations 5 are integrally connected.例文帳に追加

インプリントシステム１は、ウェハ搬入出ステーション２と、ウェハＷ上に第１のレジスト膜を形成するウェハ処理ステーション３と、ウェハＷ上に第２のレジスト膜を形成し、当該第２のレジスト膜に所定のレジストパターンを形成するインプリント処理ステーション４と、複数のテンプレート搬入出ステーション５とを一体に接続した構成を有している。 - 特許庁

The semiconductor package 3 comprises a surface side semiconductor chip laminated on the surface side of an inner substrate, a rear side semiconductor chip laminated on the rear side and a resin pattern covering the whole surfaces of these semiconductor chips and formed so as to expose a wiring terminal 9 arranged on either one of the surface side and rear side of the inner substrate.例文帳に追加

この半導体パッケージは、内部基板の表面側に積層された表面側の半導体チップと、裏面側に積層された裏面側の半導体チップと、これらの全面を覆うとともに内部基板の表面側又は裏面側のいずれか一方に配置された配線端子９が露出するように形成された樹脂パターンとを含むようにした。 - 特許庁

The pattern forming method includes: a step of selectively forming an under active layer containing a polymerization initiator on a surface of a layer to be etched on a substrate; a step of forming a polymer layer on the under active layer by living radical polymerization of an organic monomer; and a step of selectively etching the layer to be etched through the polymer layer as a mask.例文帳に追加

基材の被エッチング層表面に重合開始剤を含む下地活性層を選択的に形成する工程と、有機モノマーをリビングラジカル重合させて前記下地活性層に重合体層を形成する工程と、前記重合体層をマスクとして前記被エッチング層を選択的にエッチングする工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a semiconductor wafer polishing pad for a polishing process of flattening micro unevenness of a fine pattern formed on a semiconductor wafer, which meets a need for incompatible properties of uniformity of an amount of polishing on the whole surface of the wafer and of unevenness- flattening on a minute region, and causes few scratches.例文帳に追加

半導体ウエハ上に微細なパターンが形成されており、該パターンの微小な凹凸を平坦化する研磨工程に使われる研磨パッドにおいて、ウエハ全面内において研磨量の均一性と、微小領域での凹凸平坦化特性という相反する要求に応え、なおかつスクラッチの発生の少ない半導体ウエハ研磨用パッドを提供するものである。 - 特許庁

While an electrode 30a of the SAW resonator formed on a substrate is made of Al or an Al alloy, a connection pattern 34 for interconnecting SAW resonators and a bonding pad are made of the Al or Al alloy film 36 vapor-deposited on the substrate and an Au film 37 vapor- deposited on the film 36.例文帳に追加

基板上に形成されたＳＡＷ共振子の電極３０ａがＡｌまたはＡｌ合金で形成されるのに対し、該ＳＡＷ共振子間を接続する接続パターン３４と、ボンディングパッドとは、基板に蒸着されたそのＡｌまたはＡｌ合金の膜３６と、その上に蒸着されたＡｕの膜３７とで構成されている。 - 特許庁

An FFT part 102 of a control part 61 of the shape measurement device measuring the shape of an object by projecting a pattern on the object to pick up the image thereof by an image pickup element 60 detects a frequency component of incident light incident on the image pickup element 60 on the basis of a light receiving signal obtained from a photosensor 59 via an A/D conversion part 101.例文帳に追加

物体にパタンを投影して、その像を撮像素子６０により撮像することによって物体の形状を測定する形状測定装置の制御部６１のFFT部１０２は、A/D変換部１０１を介してフォトセンサ５９から取得した受光信号に基づいて、撮像素子６０に入射する入射光の周波数成分を検出する。 - 特許庁

In the mouse pad formed by laminating a bridged polyethylene foaming body layer 2 on the surface of a bridged foaming body layer 1 using polyethylene group resin polymerized by using a metallocene group catalyst as a base material and thermo-compression molding the laminated layers, at least the upper part of the layer 2 is deformed and a resin layer is formed on it and a cloth pattern is formed on the upper surface of the resin layer.例文帳に追加

メタロセン系触媒を使用して重合したポリエチレン系樹脂を基材とする架橋発泡体層１の上に、架橋ポリエチレン発泡体層２を積層して熱圧成形したマウスパッドであって、架橋ポリエチレン発泡体層２の少なくとも上部は脱泡されて樹脂層が形成され、該樹脂層の上面に布目模様が形成されている。 - 特許庁

In the method for forming a multilayer resist pattern having two kinds of depth by successively forming a first photoresist 101, a transparent film 102 and a second photoresist 103 on a substrate 100, the transparent film 102 is formed by spraying a solution on the substrate where the first photoresist 101 is deposited and heated at a specified temperature.例文帳に追加

基盤１００上に第１のフォトレジスト１０１、透明膜１０２、第２のフォトレジスト１０３の順に成膜し、２種類の深さを形成する多層レジストパターン形成方法において、透明膜１０２は、第１のフォトレジスト１０１が形成され、所定温度で加熱されている基盤１００上に溶液を噴霧して成膜される。 - 特許庁

A conductive pattern 12 formed on post-mounted glass 11, heaped on a transparent glass substrate 10 for forming, is connected to a bump 4 of an optical semiconductor element 1, having an optical sensor section 1a at the side of the bump via a thermosetting conductive adhesive 13 which has anisotropy electrically.例文帳に追加

透明なガラス基板１０上に盛り上げて形成された後付けガラス１１上に形成された導電パターン１２と、バンプ４を有し且つバンプ側に光センサー部１ａを有する光半導体素子１のバンプ４と導電パターン１２とを電気的に異方性を有する熱硬化性導電接着剤１３を介して接続する。 - 特許庁

This method for press-molding the molding material for a parting corner accessory is to mold the molding material 1 to the outside corner shape and mold an uneven pattern on each outer surface 1a of the molding material 1 using two molding tools 2 corresponding to two outer surfaces 1a, on the outside corner side, of the molding material 1.例文帳に追加

成形材料１を出隅形状に成形し、この成形材料１の出隅側の二つの外面１ａに対応する二つの成形型２を用いて、成形材料１の各外面１ａに凹凸模様を成形するようにした出隅役物用成形材料のプレス成形方法に関する。 - 特許庁