| 例文 |
pattern structureの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2397件
To provide an inexpensive line scanner device having a simple structure, which can read a pattern of colors using light-emitting diodes as a light-receiving element.例文帳に追加
発光ダイオードを受光素子として利用し、色のパターンを読み取ることのできる安価で簡単な構造のラインスキャナを提供する。 - 特許庁
The rib plate 33 has a shape bent by a specified pattern, and hollow structure is formed between the inner plate 31 and the outer plate 32.例文帳に追加
リブ板33は、所定のパターンで折り曲げられた形状を有し、内板31と外板32との間には中空が形成される。 - 特許庁
Each of the patterns is formed of a three-dimensional data, and the three-dimensional data is set with a hierarchical structure in every pattern.例文帳に追加
前記図柄は各々三次元データでもって構成され、更にこの三次元データは該図柄毎に階層構造をもって設定される。 - 特許庁
To eliminate effects of ununiformity of a lower wiring structure such as a step, etc., when a photoresist pattern is formed by electron beam linear drawing.例文帳に追加
電子線直描によりフォトレジストパターンを形成するに際して、段差等の下層配線構造の非一様性の影響を除去する。 - 特許庁
To generate a corresponding typical natural language representation from a structure of a frequent appearance pattern having similar text meaning in document processing.例文帳に追加
文書処理において、テキストの類似した意味を持つ頻出パターンの構造から、対応する典型的な自然言語表現を生成する。 - 特許庁
To improve the productivity and reliability of a semiconductor device of structure where one surface of a wiring pattern is exposed on the bottom surface of sealing resin.例文帳に追加
配線パターンの一面を封止樹脂の底面に露出した構造の半導体装置の生産性及び信頼性を向上する。 - 特許庁
To improve polymerization hardenability during exposure, and to form a pattern structure and a protective film at a low heating temperature or without heating processing.例文帳に追加
露光時の重合硬化性を向上し、低い加熱温度又は加熱処理無しでパターン構造物や保護膜を形成できるようにする。 - 特許庁
To obtain a hologram generating device printing out and recording a hologram pattern to large area with a simple structure using no lens optical system.例文帳に追加
レンズ光学系を用いずに簡単な構造で、ホログラムパターンを大面積にプリントアウト記録することができるホログラム作成装置を得る。 - 特許庁
The manufacturing method for the semiconductor device having the LDD structure uses a pattern shrinkage agent for increasing the size of a resist.例文帳に追加
この発明におけるLDD構造を有する半導体装置の製造方法は、レジスト寸法の増大にパターンシュリンク剤を用いる。 - 特許庁
To provide a new structure with which patterns used for a lost foam pattern casting method are easily and precisely assembled, and its method.例文帳に追加
消失模型鋳造法で使用される模型を容易にしかも精度良く組み立てる新たな構造及びその方法を提供する。 - 特許庁
A plane position is measured from a plurality of measuring positions in the region of a wafer, i.e., an object in which a region having a pattern structure is formed.例文帳に追加
パターン構造を有する領域が形成された物体であるウエハの領域内の複数の計測位置より面位置を測定する。 - 特許庁
The method for forming a photoresist pattern includes steps of irradiating a photoresist structure 12 which includes an antireflection film 14 on a base 13 and a resist pattern 16 comprising a chemically amplified photoresist in contact with the antireflection film and on the antireflection film, with energy rays, and then heating the photoresist structure at a temperature equal to or higher than the glass transition temperature and lower than the melting point of the resist pattern.例文帳に追加
下地13上の反射防止膜14と、反射防止膜と接触し、かつ反射防止膜上の化学増幅フォトレジストからなるレジストパターン16とを含むフォトレジスト構造体12に、エネルギー線を照射し、その後、フォトレジスト構造体を、レジストパターンのガラス転移点以上かつ融点未満の加熱温度で加熱する - 特許庁
By adding the subsidiary pattern in the hole as separated by a designated distance from the ring gate pattern 122 having a vertical symmetric structure, variation of critical dimensions (CD) in a pair of ring gate patterns having a vertical symmetric structure is reduced, where CD due to lens aberration between adjacent patterns must be the same, and a fine pattern is precisely formed.例文帳に追加
上下対称構造を有するリングゲートパターン122の穴中に一定距離離隔して補助パターン124を追加することによって、隣り合うパターン間で生じるレンズ収差によるCDが一致しなければならない1対の上下対称構造を有するリングゲートパターン間の臨界寸法変化を減らし、微細化パターンを正確に形成することができる。 - 特許庁
The pattern dimension AG×BG of an inside surface structure forming part 12z set on the inside surface of the glass substrate 12 is, thereupon, previously formed smaller than the pattern dimension AP×BP of the inside surface structure forming part 11z formed on the inside surface of the plastic substrate 11.例文帳に追加
そこで、ガラス基板12の内面上に設定される内面構造形成部12zのパターン寸法AG×BGを、プラスチック基板11の内面上に形成する内面構造形成部11zのパターン寸法AP×BPに対して予め小さく形成しておく。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing simply and efficiently a ceramic structure having recesses of a required pattern formed on its surface and a method for manufacturing simply and efficiently a ceramic structure having voids of a required pattern formed in its internal.例文帳に追加
表面に所望のパターンの凹部が形成されるセラミック構造体を簡単に効率よく製造することができる方法を提供することであり、内部に所望のパターンの空洞が形成されるセラミック構造体を簡単に効率よく製造することができる方法を提供することである。 - 特許庁
To obtain a pattern wiring structure of a printed wiring board wherein pattern wirings, vias, etc., are never broken due to an electrolytic corrosion in the event of frosting or submerging and the structure has a inexpensive malfunction detector/protector circuit reliably operable whenever a malfunction is detected.例文帳に追加
結露が発生したり水没したときなどに、パターン配線やバイアホール等が電気分解による腐食によって断線することがなく、安価で誤動作検知時に確実に動作することのできる誤動作検知保護回路を有するプリント配線板のパターン配線構造を得ること。 - 特許庁
The disk is constituted by recording the servo pattern for tracking servo and provided at its center part with a hub structure part (2) which can be mounted on the rotary shaft (3) of the information recording and reproducing device without any slackness, and the servo pattern is recorded on a substrate part (2) around the center of rotation of the hub structure part 82).例文帳に追加
ディスクは、トラッキングサーボ用のサーボパターンを記録して成り、中心部には、情報記録再生装置の回転軸(3)に緩みなく装着可能なハブ構造部(2)が設けられ、サーボパターンは、ハブ構造部(2)の回転中心を基準として基板部(2)に記録されている。 - 特許庁
According to the measurement result of the real object's shape or the data related to the real object's shape input by users, either one among the pattern type of the projecting structure light, the pattern size and the projecting position of the structure light with respect to the real object is made varied.例文帳に追加
また、実物体の形状の測定結果又は使用者により入力された実物体の形状に関するデータに応じて、投影する構造光のパターンの種類、パターンの大きさおよび実物体に対する構造光の投影位置のうちいずれかを変更するようにする。 - 特許庁
To provide a method and a device for dry processing a fine structure capable of uniformly drying the fine structure in a short period of time by preventing the drying during a conveyance and further preventing a falling down of a pattern for a substrate having a large diameter on which surface a fine pattern is formed.例文帳に追加
本発明の目的は、搬送中の乾燥を防止し、更に、表面に微細なパターンを形成した大口径基板に対してパターン倒れがなく、短時間で均一に乾燥させることができる微細構造乾燥処理方法及びその装置を提供することにある。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a microfluid chip capable of directly forming a periodical pattern and a periodic structure on a substrate surface without the need of forming resist having the periodical pattern corresponding to the periodic structure, the microfluid chip, and a generator of surface Plasmon resonance light.例文帳に追加
周期構造に対応する周期的パターンを有するレジストを形成する必要がなく、周期的パターン及び周期構造を基板表面に直接形成できる、マイクロ流体チップの製造方法、マイクロ流体チップ、及び表面プラズモン共鳴光の発生装置の提供。 - 特許庁
The nanocarbon material compound substrate includes the substrate, a three-dimensional structure line pattern including recessed parts and protruding parts formed on the substrate and the nanocarbon material formed on the surface of the substrate on which the three-dimensional structure line pattern is formed.例文帳に追加
本発明は、基板と、前記基板上に形成された凹部および凸部よりなる3次元構造ラインパターンと、前記3次元構造ラインパターンが形成された前記基板の表面に形成されたナノ炭素材料と、を備えることを特徴とするナノ炭素材料複合基板である。 - 特許庁
The present invention also encompasses a lithographic structure containing the underlayer prepared from the above composition, a method of making the lithographic structure, and a method of using the lithographic structure to pattern an underlying material layer on a substrate.例文帳に追加
本発明は、本発明の組成物から調製される基層を備えるリソグラフィ構造物、そのようなリソグラフィ構造物を製作する方法、およびそのようなリソグラフィ構造物を用いて基板上の下地材料層をパターン化する方法も含む。 - 特許庁
The section containing the wiring pattern of the structure 10 is provided with a thickness-direction extension 14 extended in the thickness direction of the structure 10 perpendicular to the main surface of the structure 10 and the circuit parts 44 can be mounted on the surface extended in the thickness direction of the extension 10.例文帳に追加
支持構造体10の配線パターンを含む部分が主面に直角な方向に拡がった厚さ方向延在部分14を備え、該厚さ方向延在部分14の厚さ方向に延在する表面に回路部品44が実装され得る。 - 特許庁
To provide a pattern forming method, a substrate processing method, a replication method of a mold structure, which can duplicate the mold structure with high precision by single imprint, is low in defect generation and can form a micropattern efficiently, and the mold structure.例文帳に追加
モールド構造体の複製を1回のインプリントで高精度に行え、欠陥の発生が少なく、微細パターンを効率よく形成することができるパターン形成方法、基板加工方法、モールド構造体の複製方法、及びモールド構造体の提供。 - 特許庁
A plurality of rugged structure regions are provided, and at least one rugged structure region is different from other rugged structure regions in the shape, depth or height, pitch and arrangement pattern of the plurality of recessed or projecting parts.例文帳に追加
また、凹凸構造領域を複数備えており、少なくとも1つの凹凸構造領域において、複数の凹部又は凸部の形状、深さ又は高さ、中心間距離および配置パターンが、他の凹凸構造領域と異なることを特徴とする。 - 特許庁
To provide an inspection method and the like of a mold structure, by which quality assurance of a rugged pattern in the mold structure for forming ruggedness on a magnetic recording medium such as a discrete track medium and a patterned medium can be performed over the entire surface of the mold structure.例文帳に追加
ディスクリートトラックメディア、パターンドメディア等の磁気記録媒体に凹凸をつけるためのモールド構造体における凹凸パターンをモールド構造体全面について品質保証することができるモールド構造体の検査方法等の提供。 - 特許庁
The self-aligned field-effect transistor structure includes: an active region arranged on a substrate; an uneven gate insulating pattern arranged on the active region; and a gate electrode self aligned by the gate insulating pattern and arranged on the inner space of the gate insulating pattern.例文帳に追加
本発明の実施形態による自己整列電界効果トランジスタ構造体は、基板上に配置された活性領域と、活性領域上に配置された凹凸型のゲート絶縁パターンと、ゲート絶縁パターンによって自己整列されてゲート絶縁パターンの内部空間に配置されたゲート電極と、を含む。 - 特許庁
A fine slit pattern structure of a predetermined shape is executed in respective printing elements and/or dots of a line drawing and/or a dot pattern on a basic image A expressing the face image of a person by continuously changing the printing element width or the diameter of the line drawing and/or the dot pattern.例文帳に追加
線画及び/又はドットパターンにおける画線幅や直径を連続的に変化させて人物の顔画像を表現した基本画像Aに対して、前記線画及び/又はドットパターンのそれぞれの各画線内及び/又は各ドット内に一定形状の微小スリットパターン構造を施す。 - 特許庁
To provide a flexible wiring board having a multilayer wiring pattern electrode structure which can improve the continuity between wiring pattern electrodes in each layer and repeated-folding-resistance while effectively avoiding the influence of a noise to the wiring pattern electrodes, and to provide a liquid crystal display device using the same.例文帳に追加
配線パターン電極に作用するノイズの影響を有効に回避しつつ各層の配線パターン電極の導通と、曲げ性の向上とを図ることができる複数層の配線パターン電極構造を備えた可撓配線基板およびこれを用いた液晶表示装置を提供する。 - 特許庁
To provide a projector type headlight for a vehicle structured so as to form a low-beam light distribution pattern, with a structure of shade standardized, and capable of forming a light distribution pattern for OHS (Overhead Sign) irradiation without generating large light distribution unevenness on the low-beam light distribution pattern.例文帳に追加
ロービーム用配光パターンを形成するように構成されたプロジェクタ型の車両用前照灯において、シェードの構成を標準化した上で、ロービーム用配光パターンに大きな配光ムラを発生させてしまうことなく、OHS照射用配光パターンを形成可能とする。 - 特許庁
In some embodiments, a converged gallium ion beam not containing a deposition precursor gas is scanned on a silicon substrate with a pattern to form a conductive pattern, and copper structure is formed on the conductive pattern by electrochemical deposition with one or more kinds of metals.例文帳に追加
いくつかの実施形態では、付着前駆体ガスを含まない集束ガリウム・イオン・ビームが、シリコン基板上をあるパターンで走査して、導電パターンを生成し、次いでこの導電パターン上に、1種または数種の金属の電気化学付着によって銅構造が形成される。 - 特許庁
The mold structure for the DTM includes, on the surface thereof, a plurality of line pattern forming concave portions which are positioned so as to be adjacent and substantially parallel to each other and a communicating concave portion which is positioned so as to intersect the adjacent line pattern forming concave portions and connects the plurality of line pattern forming concave portions.例文帳に追加
本発明のDTM用モールド構造体は、隣接状態で略平行に位置する複数のラインパターン形成用凹部と、隣接するラインパターン形成用凹部と交差して位置し、該複数のラインパターン形成用凹部を連通する連通凹部と、を表面に有することを特徴とする。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a large number of imprinting molds inexpensively in case of the imprinting mold having a fine pattern such as that constituted of a plurality of stepped parts or a fine pattern of a three-dimensional structure pattern such as that constituted of curved surfaces and curved lines.例文帳に追加
インプリント用金型について、微細パターンが複数の段部をから構成されるような場合や微細パターンが曲面や曲線で構成されるような3次元構造パターンであった場合にインプリント用金型を安価で大量に提供できる方法を提供する。 - 特許庁
By having a structure in which a perfect Cr shading part is a self-alignment type, a dicing mark part is a Cr recessing type and a pattern part is a HT pattern, the resist shape on the wafer after photomask pattern exposure can be improved and the defect detection sensitivity in the photomask defect inspection can be sufficiently obtained.例文帳に追加
完全Cr遮光部はセルフアライン型、ダイシングマーク部はCr後退型、パターン部はHTパターンという構造を有することにより、フォトマスクパターン露光後のウェーハ上のレジスト形状を良好にし、かつフォトマスク欠陥検査時における欠陥検出感度を十分に得ることができる。 - 特許庁
The high conductivity printed wiring board 1, having a hollow conductor structure, at least includes a copper foil pattern 4 that is patterned on the outer surface of an insulating substrate 2, a conductor coat 9 which covers the copper foil pattern 4, and a foam hollow layer 7 formed between the copper foil pattern 4 and the conductor coat 9.例文帳に追加
この高伝導化プリント基板1は、中空導体構造よりなり、絶縁基材2の外表面にパターニングされた銅箔パターン4と、銅箔パターン4を被覆する導体被膜9と、銅箔パターン4と導体被膜9間に形成された発泡中空層7とを、少なくとも有している。 - 特許庁
A module board MCB, wherein an IC chip and a passive component are mounted, has a monolayer wiring structure where a conductive pattern 36S used for signal transmission and a conductive pattern containing a conductive pattern 36G for connecting to the reference electrically are stuck to an insulating board 37.例文帳に追加
ICチップおよび受動素子が実装されるモジュール基板MCBを絶縁性基板37に信号伝達に用いられる導体パターン36Sおよび基準電位と電気的に接続する導体パターン36Gを含む導体パターンを貼付した単層の配線構造とする。 - 特許庁
Titanium nitride film (third TiN film 13) is formed in a covering state of the sacrificial layer pattern made of the second HCD-SiN film 9, and the film is patterned, thereby forming an oscillating beam (structure pattern) 13a of which end is supported on the substrate surface across the sacrificial layer pattern.例文帳に追加
第2HCD−SiN膜9からなる犠牲層パターンを覆う状態で窒化チタン膜(第3TiN膜13)を成膜し、これをパターニングすることによって犠牲層パターンを跨いでその下地面上に端部が支持された振動ビーム(構造体パターン)13aを形成する。 - 特許庁
To provide a resist pattern having a structure capable of alleviating a standing wave effect generated by interference of an incident light with a reflected light in a photolithographic process of a lifting off method suitable for forming a fine wiring pattern, and to provide a method for forming wiring by using the resist pattern.例文帳に追加
微細配線パターンの形成に適したリフトオフ法のフォトリソプロセスにおいて、入射光と反射光との干渉から生じる定在波効果を緩和しうる構造を有するレジストパターンを提供すること、および該レジストパターンを用いた配線形成方法を提供する。 - 特許庁
The seal has the multilayer structure in which the stretched layer with formed pattern is laminated on the adhesive layer or the stretched layer is laminated on the adhesive layer and an unstretched layer with formed pattern is laminated on the stretched layer and when unsealing and seal peeling are performed, the seal is stretched and preferably the pattern is destroyed.例文帳に追加
前記シールは、粘着層に、模様が形成された延伸層が積層、又は粘着層に延伸層が積層し、該延伸層に模様が形成された非延伸層が積層している多層構造を持ち、開封剥離時に延伸し模様が破壊することが好適である。 - 特許庁
To obtain a multilayer structure metal mask in which by putting an electroless plating layer the difference of plate thicknesses between a region inside the pattern region and a region outside the pattern region becomes smaller and the plate thickness of the region outside the pattern region becomes thicker as compared with electroplating, the strength as the metal mask entirety is raised, and the elongation at the time of printing can be decreased.例文帳に追加
無電解めっき層を入れることで、パターン領域以内とパターン領域以外とで板厚の差が小さく、パターン領域外の板厚が電気めっきに比べて厚くなりメタルマスク全体としての強度が上がり、印刷時の伸びを減少できる多層構造メタルマスクを得る。 - 特許庁
The reflection structure 108 is formed on one surface of the substrate 100, and a plurality of openings 106 are made to form a regular pattern structure, and a part of surface of the substrate 100 is exposed.例文帳に追加
反射構造108は、基板100の一表面上に形成され、複数の開口106が穿設されて規則的パターン構造が形成され、基板100の表面の一部が露出されている。 - 特許庁
Connector fixation structure 1 has structure of fixing a connector 200 where connector-side screw holes 212 in which screws 10 can be fixed are formed on a substrate 100 where a circuit pattern is printed.例文帳に追加
本発明に係るコネクタ固定構造1は、回路パターンが印刷された基板100に、ネジ10が固定可能なコネクタ側ネジ孔212が形成されたコネクタ200を固定する構造である。 - 特許庁
To provide a display device with a simple structure without using a matrix segment structure, the display device being capable of independently controlling an emission of lights in a plurality of colors and displaying a light pattern with a high luminance.例文帳に追加
表示装置において、マトリクス型のセグメント構成を用いることなく簡易な構造としながらも、複数色の発光を独立して制御することができ、しかも、高輝度な光パターンを表示する。 - 特許庁
To provide a laser beam machining device and a machining method therefor for forming a nano structure having a predetermined ultra-fine pattern on a workpiece, and evaluating the machined shape of the nano structure in a short period of time.例文帳に追加
加工対象物に所定の超微細パターンを有するナノ構造物を作製し、ナノ構造物の加工形状の評価を短時間で行うレーザ加工装置及びレーザ加工方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of member having antireflective structure for easily manufacturing an antireflective structure having an extremely fine pattern of submicron pitch by using an X-ray lithography.例文帳に追加
サブミクロンピッチの非常に細かなパターンを有する反射防止構造体を、X線リソグラフィを用いて容易に製造するための反射防止構造体を有する部材の製造方法を提供する - 特許庁
To provide a swing stop control device for a crane achieving the swing stop of a suspended load with high accuracy without having a speed pattern in a crane conveyance system including a double pendulum structure and a single pendulum structure.例文帳に追加
二重振り子構造、単振り子構造を含むクレーン搬送システムにおいて、速度パターンを持たずに、吊り荷の振れ止めを高精度に実現可能としたクレーンの振れ止め制御装置を提供する。 - 特許庁
The mold 101 is provided with an aligning structure region 103 having an aligning structure, and a pattern forming region 102 having patterns; and imprints the patterns on a resin applied onto a substrate.例文帳に追加
位置合わせ構造を有する位置合わせ構造領域103と、パターンを有するパターン形成領域102とを備え、基板上に塗布された樹脂に前記パターンをインプリントするモールド101である。 - 特許庁
A same pattern as that of the display part is formed in the peripheral part of the substrate to be separated from the panel so that the step structure of the peripheral part of the substrate is made aligned to the step structure of the display part.例文帳に追加
パネルから切り離される基板周辺部にも表示部と同様のパターンを形成することにより、図示された基板周辺部の段差構造を表示部の段差構造に揃える。 - 特許庁
The stimulus-sensitive composition which contains a compound (A) of a specific structure which generates an acid or a radical under an external stimulus and the pattern forming method uses the same composition, and the compound (A) of the specific structure are presented.例文帳に追加
外部からの刺激により酸又はラジカルを発生する特定構造の化合物(A)を含有する感刺激性組成物及びそれを用いたパターン形成方法、及び特定構造の化合物(A)。 - 特許庁
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