「pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(292ページ目) - Weblio英語例文検索

When the stop symbol of a variation performance is accidentally set to be a "chance pattern" though a continuous chance pattern performance is not executed, the stop symbol can be changed to a losing symbol except the "chance pattern".例文帳に追加

連続チャンス目演出が実行されないにも関わらず、変動演出の停止図柄が偶然にも「チャンス目」に設定されている場合には、その停止図柄を「チャンス目」以外の外れ図柄に変更できる。 - 特許庁

To provide a method for forming a multi-resist pattern comprising a positive chemically amplified resist, and to provide a processing method of a functional material layer using the multi-resist pattern, and a multi-resist pattern structure.例文帳に追加

ポジ型の化学増幅型レジストからなる多重レジストパターンの形成方法、及びその多重レジストパターンを用いた機能性材料層の加工方法、並びに多重レジストパターン構造体を提供すること。 - 特許庁

On the other hand, a pattern is selected irregularly without respect to establishment of wining of a prize when the starting condition is established in an ordinary play condition, and consequently, the player expects a prize winning pattern during variation of the pattern.例文帳に追加

一方、通常の遊技状態で始動条件が成立したときには当りか否かに関わらず不規則にパターンが選択されるため、図柄変動中、遊技者は当り図柄になるように期待する。 - 特許庁

Then, a pattern 3-formed face of the substrate 1 is brought into contact with a face of a substrate 2 to be formed with a fine pattern, and if necessary, pressure is applied, to transplant a fine pattern 4 onto the substrate 2.例文帳に追加

次に基板１のパターン３が形成されている面を、基板２の微細パターンを形成したい面に接し、あるいは圧力を印加することにより基板２上に微細なパターン４を移植する。 - 特許庁

Then, the progress of notification pattern to be displayed on a notification pattern display area 85 is controlled based on first and second display command signals controlling the progresses of the first and second special pattern games.例文帳に追加

このとき、第一、第二の特図ゲームの進行を制御する第一、第二の表示指令信号に基づいて報知図柄表示領域８５に表示される報知図柄の進行が制御される。 - 特許庁

The pattern forming material having the photosensitive layer formed by the photosensitive composition, the photosensitive laminate, the pattern forming apparatus with the photosensitive laminate, and the pattern forming method are provided.例文帳に追加

該感光性組成物により形成された感光層を有するパターン形成材料、感光性積層体、並びに該感光性積層体を備えたパターン形成装置、及びパターン形成方法である。 - 特許庁

When a verification pattern is given to a different logic circuit of verification object, this device can be used without changing the transfer pattern generation device by changing only the transfer pattern constraint device.例文帳に追加

異なる検証対象論理回路に対して検証パターンを与える時には、転送パターン制約装置を変更するのみで、転送パターン発生装置は変更なく利用することが可能になる。 - 特許庁

To provide: an antenna pattern frame capable of preventing a phenomenon that an antenna pattern part is floated on an antenna pattern frame; a method and mold for manufacturing the same; a method for manufacturing an electronic device case; and an electronic device.例文帳に追加

本発明はアンテナパターン部がアンテナパターンフレーム上で浮く現象を防ぐアンテナパターンフレーム、その製造方法及び製造金型、電子装置のケースの製造方法及び電子装置に関する。 - 特許庁

To obtain a method and apparatus for manufacturing an electronic component, capable of improving the efficiency of using print materials and preventing displacement between a print pattern and a pattern to be exposed on the print pattern as much as possible.例文帳に追加

印刷材料の利用効率を高め、かつ、印刷パターンとそこに露光されるパターンとの位置がずれることを極力解消できる電子部品の製造方法及び電子部品の製造装置を得る。 - 特許庁

At the time, pattern sprite data are stored in the memory module 74, and pattern images corresponding to the pattern sprite data are moved in the direction of scrolling the symbol images according to the scrolling of the symbol images.例文帳に追加

ここで、メモリモジュール７４には模様スプライトデータが記憶されており、図柄画像のスクロールに伴って上記模様スプライトデータに対応した模様画像が図柄画像のスクロール方向に移動する。 - 特許庁

A data pattern detection unit compares data patterns respectively obtained from three or more odd number of partial images and, when the majority of data patterns match one another, outputs the matched data pattern as a correct data pattern.例文帳に追加

データパターン検出部は、３以上の奇数個の部分画像のそれぞれから得られたデータパターンを比較し、過半数のデータパターンが一致している場合に、それを正しいデータパターンとして出力する。 - 特許庁

A latent image formed by exposing a resist film 2 is removed through development to form a pattern 3' corresponding to a line pattern 3 and a set of auxiliary line patterns 4 which are parallel to each other on both sides of the pattern 3'.例文帳に追加

レジスト膜２を露光して形成された潜像を現像により除去して、ラインパターン３に対応するパターン３’と、パターン３’の両側に並列する１組の補助ラインパターン４とを形成する。 - 特許庁

A mask pattern 27 for forming the micro-mirror formed on the semiconductor substrate 24 is formed in a pentagonal pattern by forming one side of the conventional rectangular mask pattern which becomes a micro- mirror forming section in a broken line.例文帳に追加

半導体基板２４上に形成されるマイクロミラー形成用のマスクパターン２７を、従来の長方形マスクパターンにおいてマイクロミラー形成部となる一辺を折れ線とした、五角形のパターンとする。 - 特許庁

After a resist pattern 2a is formed by exposure/development treatment by means of a circuit pattern mask 3, laser is cast selectively on a part which fines the resist pattern 2a through an irradiation mask 4.例文帳に追加

回路パターンマスク３による露光・現像処理で、レジストパターン２ａを形成した後、このレジストパターン２ａの微細化を行う部分に対して照射マスク４を介して選択的にレーザを照射する。 - 特許庁

A game controller 100 is provided with a command transmitting means 11 for transmitting a command which comprises information concerning a pattern and information concerning a change pattern to an image controller 500 when the pattern change is displayed.例文帳に追加

遊技制御装置100は、図柄の変動表示に際して、図柄に関する情報と変動パターンに関する情報とを含むコマンドを画像制御装置500に送信するコマンド送信手段110を備える。 - 特許庁

An operation managing part 10 sets operation classification, and a pattern switching part 14 outputs a pattern number PN and a gain G of a generating pattern for a reaction force of manipulation corresponding to set operation classification.例文帳に追加

操作管理部１０は、操作種別を設定し、パターン切替部１４は、この設定された操作種別に対応する操作反力の発生パターンのパターン番号ＰＮとゲインＧを出力する。 - 特許庁

A printed board 101 is constituted to connect a grand pattern of a current transformer 131 to a grand pattern 121 of the control part 121 and not to connect it to a grand pattern 111 in the periphery of the current transformer 131.例文帳に追加

プリント基板１０１はカレントトランス１３１のグランドパターンを制御部１２１のグランドパターン１２１と接続するとともに、カレントトランス１３１周辺のグランドパターン１１１と接続しない構成とする。 - 特許庁

That is, the address-information region 52 is a servo pattern B containing a cylinder code and is a magnetizing pattern (magnetization-direction pattern) that is composed of N-pole projecting magnetic parts 510 and S-pole projecting magnetic parts 520.例文帳に追加

即ち、アドレス情報領域５２は、シリンダコードを含むサーボパターンＢを、Ｎ極の凸状の磁性部５１０とＳ極の凸状の磁性部５２０の磁化パターン（磁化方向パターン）から構成されている。 - 特許庁

Individual character extraction image data PDC obtained by equaling dividing the image data PDL are respectively subjected to pattern collation with a standard character pattern specified by character data having the same arrangement sequences as those of candidate character string pattern data.例文帳に追加

そして、等分割して得られた各文字抽出画像データＰＤＣを、候補文字列パターンデータの同じ配列順位の文字データにより特定される標準文字パターンとそれぞれパターン照合する。 - 特許庁

To obtain a design coating method by which a design pattern such as woodgrain pattern, stone grain pattern is imparted to a base material such as plastic or wood by an efficient method which is preferable in terms of environmental sanitation.例文帳に追加

プラスチックや木材などの基材に対して、木目調、石目調などの意匠模様を、環境衛生面から好ましく、かつ効率的な方法で付与することができる意匠塗装方法を得る。 - 特許庁

The second reflecting face 6 emits light L1 from the semiconductor light source 4 into the first light distribution pattern P1 and the second light distribution pattern P2 as a third light distribution pattern P3 with the light L1 focused.例文帳に追加

第２反射面６が半導体型光源４からの光Ｌ１を収束させた第３配光パターンＰ３として第１配光パターンＰ１および第２配光パターンＰ２中に反射させる。 - 特許庁

An intermediate character pattern modification part 130 applies bold processes in the X direction and a Y direction with respect to each element comprising the intermediate character pattern generated by the intermediate character pattern generating part 120.例文帳に追加

中間文字パターン修飾部１３０は、中間文字パターン生成部１２０で生成された中間文字パターンを構成する各エレメントに対して、Ｘ軸方向やＹ軸方向にボールド処理を加える。 - 特許庁

The internal electrode pattern for additional lamination is printed just after arrangement of the internal electrode non-forming part 3c, and shape of the internal electrode pattern for additional lamination is made identical to an internal electrode pattern just before arrangement of the internal electrode non-forming part 3c.例文帳に追加

追加積層用の内部電極パターンは、内部電極非形成部３ｃの直後に印刷し、形状を内部電極非形成部３ｃの直前の内部電極パターンと同じにする。 - 特許庁

Further the combination of the heat source of which the operation is retained and the started heat source is monitored, and the use operation order pattern is switched to the daytime pattern at a time when the combination becomes the combination corresponding to the daytime pattern.例文帳に追加

また、運転を保持した熱源と起動した熱源の組合せを監視し、その組合せが昼パターンに応じた組合せとなった時点で、使用する運転順序パターンを昼パターンへ切り替える。 - 特許庁

The transmission time interval is defined by an increasing and decreasing pattern which randomly increases/decreases around a constant time period as a central value, while the increasing/decreasing pattern is assigned with a pattern which is different in every identification ID.例文帳に追加

送信時間間隔は、一定の時間を中心値としてランダムに増減させた増減パターンによって定義され、その増減パターンは、識別ＩＤごとに互いに異なるパターンが割り付けられる。 - 特許庁

For example, a pattern graph showing the relation between air supply quantity and inverter frequency, a pattern graph showing the relation between air supply quantity and power consumption, and a pattern graph showing an energy saving quantity are displayed on the same screen.例文帳に追加

例えば、給気量とインバータ周波数の関係を示す図形グラフ、給気量と消費電力の関係を示す図形グラフ、及び省エネルギ量を示す図形グラフとを同一画面に表示した。 - 特許庁

To provide a method of forming a film pattern, which inhibits the occurrence of a defect such as disconnection, shorting, or the like in a film pattern formed by an ink jet method, a forming apparatus for the film pattern, and electrically conductive film wiring and the like using the same.例文帳に追加

インクジェット法により形成される膜パターンに、断線や短絡等の欠陥の発生を抑止する膜パターンの形成方法及び形成装置、並びに導電膜配線等を提供する。 - 特許庁

An irradiation area is determined based on the resulting projection pattern irradiation image or the projection pattern irradiation image and a projection pattern non-irradiation image to be identified as measurable area and the coordinate operation between images and the generation of a distance image are executed for the measurable area.例文帳に追加

この投光パターン照射画像、あるいは投光パターン照射画像と投光パターン非照射画像に基づいて照射領域を求め、これを可測領域として識別する。 - 特許庁

Subsequently, the resist pattern 18 is irradiated with an electron beam at an irradiation energy of 100eV-500keV to shrink the line width of the resist pattern 18 thus forming a resist pattern 20 having a shrunk line width.例文帳に追加

続いて、レジストパターン１８に１００ｅＶ以上５００ｋｅＶ以下の照射エネルギーで電子線を照射して、レジストパターン１８の線幅を縮小させ、線幅が縮小したレジストパターン２０を形成する。 - 特許庁

A first exposure is made with an optical aligner using an L/S pattern, and a second exposure is made using the same L/S pattern but 90° tilted to expose a square lattice pattern 9 on a photoresist film.例文帳に追加

光学露光装置を用いて、 Ｌ／Ｓパタ−ンにより第１の露光を行い、これと９０°傾けたＬ／Ｓパタ−ンにより第２の露光を行ってフォトレジストに正方格子パターン９を露光する。 - 特許庁

A lower limit of an interval between the auxiliary pattern 13 and the isolated line pattern 11c corresponds to a minimum space of a design rule and an upper limit is three times the width of the isolated line pattern 11c.例文帳に追加

また、上記補助パターン１３と上記孤立ラインパターン１１ｃとの間隔は、その下限がデザインルールの最小スペース分であり、その上限が該孤立ラインパターン１１ｃの幅の３倍である。 - 特許庁

Furthermore, in the losing variation pattern kind determination table, a determination value which differs depending on the storage number of the total reservations is allocated to the variation pattern kind including a variation pattern other than the super ready-to-win state.例文帳に追加

また、はずれ用変動パターン種別判定テーブルは、スーパーリーチ以外の変動パターンを含む変動パターン種別に対しては、合算保留記憶数に応じて異なる判定値が割り当てられている。 - 特許庁

To provide an exposure method and an aligner, where even a complicated lithographic pattern in which a dense pattern and a coarse pattern are mixedly present in the same shot can be controlled accurately in dimensions.例文帳に追加

密パターンと疎パターンが同一ショット内に存在するような複雑なリソグラフィパターンに対しても高精度な寸法制御を得ることができる露光方法および露光装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a multi-tone photomask which allows a resist pattern having a desired residual film value to be always stably obtained even when having a narrow pattern, and to provide a pattern transfer method using the same.例文帳に追加

狭い幅のパターンを有する場合においても、常に安定して所望の残膜値のレジストパターンを得ることができる多階調フォトマスク及びこれを用いたパターン転写方法を提供する。 - 特許庁

There are cases (7, 8) where the medium pattern is returned to an original pattern due to the occurrence of 'slipping' just before only one pattern is updated by the reverse variation in the middle of repeating the variation of (1) to (4).例文帳に追加

（１）〜（４）の変動が繰返し行なわれる途中、中図柄については、逆転変動によって１図柄だけ更新する直前に“滑り”が生じて元に戻る場合（７，８）があるようにした。 - 特許庁

To provide a method for correcting a mask pattern which can eliminate presence of an optically isolated pattern as much as possible so as to transfer a mask pattern with desired line width or the like onto a photoresist.例文帳に追加

光学的に孤立した孤立パターンの存在を出来る限り無くし、所望の線幅等を有するマスクパターンをフォトレジストに転写することを可能とするためのマスクパターンの補正方法を提供する。 - 特許庁

A first pattern matching angle detecting part 3 compares the binary pattern BI with each of those reference patterns RA, and outputs the angle of the matched reference pattern RA as angle information PA.例文帳に追加

第１のパターンマッチング角度検出部３は２値化パターンＢＩを複数のリファレンスパターンＲＡの各々と比較し、一致したリファレンスパターンＲＡの角度を角度情報ＰＡとして出力する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition, a method of forming a pattern using the positive photosensitive resin composition, and a semiconductor device having a photoresist pattern obtained by the method of forming a pattern.例文帳に追加

ポジティブ型感光性樹脂組成物、ポジティブ型感光性樹脂組成物を用いたパターン形成方法、パターン形成方法によって得られるフォトレジストパターンを有する半導体素子を提供する。 - 特許庁

The user observing the pattern MA reads the information on the pattern of the action specified by the pattern MA to recognize what action the autonomously acting robot R has taken.例文帳に追加

このパターンＭＡを見た使用者は、そのパターンＭＡにより特定される行動の態様に関する情報を読取ることにより、自律行動ロボットＲがどのような行動をしたかを認識する。 - 特許庁

The pattern (dot pattern 103) is generated as a composite pattern 103b resulting from composing a plurality of fundamental patterns 103a comprising a unit meaning the specific information by combining a plurality of components.例文帳に追加

そして、ドットパターンは、複数の構成要素の組合せによって特定の情報を意味する単位を構成する基本パターン１０３ａが複数合成された合成パターン１０３ｂとして生成されている。 - 特許庁

While scanning the plate PL in the Y-axis direction, a desired pattern is gradually exposed on the whole surface of the plate PL by scrolling the pattern formed on the variable pattern generation section VPG synchronously with the plate PL.例文帳に追加

プレートＰＬをＹ軸方向に走査しつつ、これに同期して可変パターン生成部ＶＰＧに形成したパターンをスクロールすることによって、プレートＰＬの全面に所望のパターンが徐々に露光される。 - 特許庁

To provide a photomask pattern verification method, capable of preventing abnormality in a resist pattern due to occurrence of an MEF (mask error factor) in a semiconductor manufacturing process and capable of determining the photomask pattern that has a suitable shape.例文帳に追加

半導体製造工程でのＭＥＦの発生に起因するレジストパターンの異常を抑制することができ、適した形状のフォトマスクパターンを判定できるフォトマスクパターンの検証方法を提供する。 - 特許庁

Moreover, when an exposing pattern is not formed on the irradiated object, the distortion-free irradiation pattern can be exposed or the pattern having desired distortion can be exposed with a coil 20 or an electrode.例文帳に追加

また被照射体に被露光パターンが形成されていない場合には、コイル２０又は電極により、歪みの少ない照射パターンを露光したり、任意の歪みを持ったパターンを露光することができる。 - 特許庁

METHOD FOR FORMING METAL FILM, SUBSTRATE FOR FORMING METAL FILM, METAL FILM LAMINATE, METHOD FOR FORMING METAL PATTERN, SUBSTRATE FOR FORMING METAL PATTERN, METAL PATTERN MATERIAL, AND COATING LIQUID COMPOSITION FOR FORMING POLYMER PRECURSOR LAYER例文帳に追加

金属膜形成方法、金属膜形成用基板、金属膜積層体、金属パターン形成方法、金属パターン形成用基板、金属パターン材料、及び、ポリマー前駆体層形成用塗布液組成物 - 特許庁

A plurality of pattern tables are provided for one gray level and a pattern table suitable for eliminating the isolated dot or for reducing the dot level difference is selected from the plurality of pattern tables.例文帳に追加

１つの階調値に対して複数のパターンテーブルを設けて、この複数のパターンテーブルの中から孤立ドットをなくすのに、または、ドット段差をより小さくするのに適するパターンテーブルを選択する。 - 特許庁